André Máscia Daltrini

Possui graduação em Física pela Universidade Estadual de Campinas (1997), mestrado em Física pela Universidade Estadual de Campinas (1999) e doutorado em Física pela Universidade Estadual de Campinas (2003). Atualmente é Gerente de Processo e Produção na CEITEC S.A. Tem experiência nas áreas de Materiais Semicondutores, Microeletrônica e Física de Plasmas , atuando principalmente nos seguintes temas: produção e desenvolvimento de circuitos integrados, processo CMOS, produção e desenvolvimento de tiristores e diodos, corrosão por plasma, deposição por plasma, sputtering, plasma (gases ionizados), diagnósticos de plasma.

Informações coletadas do Lattes em 05/08/2022

Acadêmico

Formação acadêmica

Doutorado em Física

1999 - 2003

Universidade Estadual de Campinas
Título: Estudo de plasmas a altas temperaturas por espectroscopia visível e ultravioleta no vácuo
Munemasa Machida. Bolsista do(a): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo, FAPESP, Brasil. Palavras-chave: Espectroscopia ultravioleta no vácuo; Espectroscopia visível; Tokamaks; Plasma (Gases ionizados); Física Atômica e Molecular.Grande área: Ciências Exatas e da TerraGrande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física Atômica e Molecular. Setores de atividade: Energia.

Mestrado em Física

1998 - 1999

Universidade Estadual de Campinas
Título: Espectroscopia no ultravioleta no vácuo e visível no tokamak NOVA-UNICAMP,Ano de Obtenção: 1999
Munemasa Machida.Bolsista do(a): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo, FAPESP, Brasil. Palavras-chave: Espectroscopia ultravioleta no vácuo; Espectroscopia visível; Tokamaks; Plasma (Gases ionizados); Espectroscopia de plasma.Grande área: Ciências Exatas e da TerraSetores de atividade: Energia.

Graduação em Física

1994 - 1997

Universidade Estadual de Campinas
Bolsista do(a): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo, FAPESP, Brasil.

Pós-doutorado

2003 - 2006

Pós-Doutorado. , Universidade Estadual de Campinas, UNICAMP, Brasil. , Bolsista do(a): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo, FAPESP, Brasil.

Idiomas

Inglês

Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.

Espanhol

Compreende Razoavelmente, Fala Razoavelmente, Lê Razoavelmente, Escreve Razoavelmente.

Francês

Compreende Razoavelmente, Fala Razoavelmente, Lê Bem, Escreve Razoavelmente.

Áreas de atuação

Grande área: Outros / Área: Microeletrônica.

Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas.

Grande área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica / Subárea: Materiais Elétricos/Especialidade: Materiais e Componentes Semicondutores.

Participação em eventos

Eighth Annual Workshop on Semiconductors and Micro and Nano Technology (SEMINATEC 2013). Semiconductor Industry Updates - CEITEC. 2013. (Congresso).

Chip in the Sampa - SBMicro 2010. 2010. (Congresso).

Chip in the Pampa - SBMicro 2008. Plasma Diagnostics in an Inductively Coupled Plasma - Gaseous Electronics Conference Reference Cell. 2008. (Congresso).

17th Annual Conference of the Irish and Beam Processing Group. Analysis of Mode Transitions in ICP Reactors Using Optical Emission Spectroscopy. 2006. (Congresso).

21th Symposium on Microelectronics Technology and Devices. Comparison of Plasma Parameters Obtained with Planar Probe and Optical Spectrometer. 2006. (Congresso).

II Seminatec - Workshop on Semiconductors and Micro & Nano-Technology. Plasma Analysis and Etching Results in ICP Reactors. 2006. (Congresso).

DPS 2005 - 5th International Symposium on Dry Process. Suspended Silicon Oxynitride Structures Fabricated by ECR Plasma and Wet Etching. 2005. (Congresso).

SBMicro 2005 - 20th Symposium on Microelectronics Technology and Devices. Inductively Coupled Plasma Test Reactor Development and Plasma Measurements. 2005. (Congresso).

SEMINATEC 2005. ICP Reactor Development and Plasma Characterization. 2005. (Congresso).

X LAWPP - Latin American Workshop on Plasma Physics combined with 7th EBFP - Brazilian Meeting on Plasma Physics. Electron Temperature and Density Determination by the Unicity of the Particle Confinement Time. 2003. (Congresso).

14th TCM-RUSFD (14th IAEA Technical Committee Meeting on Research Using Small Fusion Devices). Tokamak NOVA-UNICAMP Recent Results. 2001. (Congresso).

6o EBFP - Encontro Brasileiro de Física dos Plasmas. H and He Plasma Discharges in Nova-Unicamp Tokamak. 2001. (Congresso).

Joint Meeting of the Second IAEA Technical Committee Meeting on Spherical Tori and the Seventh International Spherical Torus Workshop. Present Status of ETE Diagnostics. 2001. (Congresso).

XXII CBRAVIC - Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência. Use Of 10 Stage 64 Channel Photomultiplier Tube For Laser Light Scattering Diagnostic. 2001. (Congresso).

I Encontro de Jovens Pesquisadores no IFGW.Espectroscopia em Plasmas Confinados Magneticamente. 2000. (Encontro).

XX CBRAVIC - Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência. The Effect of Differential Pumping Between VUV Spectrometer and Tokamak NOVA-UNICAMP. 1999. (Congresso).

5o EBFP - Encontro Brasileiro de Física dos Plasmas. Visible and VUV Spectroscopy on Tokamak NOVA-UNICAMP. 1998. (Congresso).

XIX CBRAVIC - Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência. Study of the X-Ray Emission from Tokamak NOVA-UNICAMP. 1998. (Congresso).

V Congresso Interno de Iniciação Científica (UNICAMP). Estudos de Emissões Espectrais de Hidrogênio em Tokamak Nova-UNICAMP. 1997. (Congresso).

IV EBFP - Encontro Brasileiro de Física dos Plasmas. Tokamak NOVA-UNICAMP. 1996. (Congresso).

3o EBFP - Encontro Brasileiro de Física dos Plasmas. The Study of a Temporal Behavior of Impurity Ions Emission in a Theta-Pinch Discharge. 1995. (Congresso).

Produções bibliográficas

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DALTRINI, A. M. . Espectroscopia em Plasmas Confinados Magneticamente. In: I Encontro de Jovens Pesquisadores no IFGW, 2000, Campinas. I Encontro de Jovens Pesquisadores no IFGW, 2000.
DALTRINI, A. M. ; MONTEIRO, M. J. R. ; CIOBAN, D. ; MACHIDA, M. . O Estudo da Composição dos Gases e sua Influência para Condição de Vácuo em um Tokamak. In: XX CBRAVIC - Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência, 1999, São Paulo. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo - Brazilian Journal of Vacuum Applications, 1999. v. 19. p. 73-73.
DALTRINI, A. M. ; MONTEIRO, M. J. R. ; CIOBAN, D. ; MACHIDA, M. . The Effet of Differential Pumping Between VUV Spectrometer and Tokamak NOVA-UNICAMP. In: XX CBRAVIC - Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência, 1999, São Paulo. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo - Brazilian Journal of Vacuum Applications, 1999. v. 19. p. 73-73.
DALTRINI, A. M. ; MONTEIRO, M. J. R. ; DORRETO, R. L. ; GIRO, R. . Study of the X-Ray Emission from Tokamak NOVA-UNICAMP. In: XIX CBRAVIC - Congresso Brasileiro de Aplicações de Vácuo na Indústria e na Ciência, 1998, Campinas. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo - Brazilian Journal of Vacuum Applications, 1998. v. 17. p. 43-44.
DALTRINI, A. M. ; MACHIDA, M. . Estudos de Emissões Espectrais de Hidrogênio em Tokamak Nova-UNICAMP. In: V Congresso Interno de Iniciação Científica (UNICAMP), 1997, Campinas. 5 Congresso Interno de Iniciação Científica, 1997. p. 46-46.

Projetos de pesquisa

2006 - 2006

Estudos de descargas de plasma de RF com DC, Descrição: Projeto submetido para estudo de plasmas aplicáveis a microeletrônica.. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Graduação: (2) / Mestrado acadêmico: (2) . , Integrantes: Andre Mascia Daltrini - Integrante / Munemasa Machida - Coordenador / Rafael H. Zerbetto - Integrante / VALDEMAR BELLINTANI Jr - Integrante / Luis M. F. Schmutzler - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Auxílio financeiro.
2003 - 2006

Caracterização de plasmas usados para corrosão e formação de nanotubos, Descrição: Caracterização e otimização de reatores de plasmas aplicados a microeletrônica. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Mestrado acadêmico: (1) Doutorado: (1) . , Integrantes: Andre Mascia Daltrini - Integrante / Munemasa Machida - Integrante / Stanislav A. Moshkalyov - Integrante / Jacobus W. Swart - Coordenador / José Alexandre Diniz - Integrante / Peter Jürgen Tatsch - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa., Número de produções C, T & A: 24
2003 - 2006

Aquecimento Alfvén e Regimes Melhorados de Confinamento e Estabilidade no Tokamak TCABR, Descrição: Projeto Temático com a USP/São Paulo para estudo de plasmas a altas temperaturas. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Doutorado: (3) . , Integrantes: Andre Mascia Daltrini - Integrante / Munemasa Machida - Integrante / A. G. Elfimov - Integrante / R. M. O. Galvão - Coordenador / Ivan C. Nascimento - Integrante / VALDEMAR BELLINTANI Jr - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Auxílio financeiro., Número de produções C, T & A: 1
2000 - 2003

Espectroscopia Ultravioleta no vácuo e no Visível no tokamak NOVA-UNICAMP, Descrição: Instalação de diagnósticos para análise e modelamento do plasma. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Mestrado acadêmico: (1) Doutorado: (2) . , Integrantes: Andre Mascia Daltrini - Integrante / Munemasa Machida - Coordenador / Marcelo de Jesus Rangel Monteiro - Integrante / Celso Ossamu Kaminishikawahara - Integrante / Luiz Angelo Berni - Integrante / Masayuki Fukao - Integrante / Roberto A. Clemente - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Auxílio financeiro., Número de produções C, T & A: 5
1999 - 2003

Espectroscopia Ultravioleta no Vácuo e Visível no Tokamak NOVA-UNICAMP, Descrição: Análise e modelamento do plasma. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Doutorado: (1) . , Integrantes: Andre Mascia Daltrini - Integrante / Munemasa Machida - Coordenador., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa / Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Auxílio financeiro / Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior - Bolsa., Número de produções C, T & A: 24
1998 - 1999

Espectroscopia de Plasma no Ultravioleta no Vácuo e Visível no Tokamak NOVA-UNICAMP, Descrição: Medidas espectrocópicas e análise do plasma. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Mestrado acadêmico: (1) . , Integrantes: Andre Mascia Daltrini - Integrante / Munemasa Machida - Coordenador., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Auxílio financeiro / Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa., Número de produções C, T & A: 8
1996 - 1998

Estudo De Emissões Espectrais no Tokamak NOVA-UNICAMP, Descrição: Estudo de diferentes linhas espectrais do plasma. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Graduação: (1) . , Integrantes: Andre Mascia Daltrini - Integrante / Munemasa Machida - Coordenador., Financiador(es): SAE/UNICAMP - Bolsa / Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa / Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico - Bolsa., Número de produções C, T & A: 4
1996 - 1998

Espectroscopia atômica e molecular em plasmas, Descrição: Geração de átomos altamente ionizados em plasmas com análise espectroscópica no ultravioleta de vácuo para o estudo e catalogamento de novas transições atômicas. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Graduação: (2) / Mestrado acadêmico: (2) / Doutorado: (3) . , Integrantes: Andre Mascia Daltrini - Integrante / Munemasa Machida - Integrante / Roberto A. Clemente - Integrante / Antonio Gomes Trigueiros - Coordenador., Financiador(es): Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico - Bolsa / Financiadora de Estudos e Projetos / FINEP - Auxílio financeiro / Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

Prêmios

2005

Melhor apresentação de poster do SEMINATEC 2005, EDS / SBMicro / CCS.

Histórico profissional

Endereço profissional

Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada. , Estrada João de Oliveira Remião, 777, Agronomia, 91550000 - Porto Alegre, RS - Brasil, Telefone: (51) 32209879

Experiência profissional

2015 - Atual

Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada

Vínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Superintendente de Fábrica, Carga horária: 44, Regime: Dedicação exclusiva.

2012 - 2015

Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada

Vínculo: , Enquadramento Funcional: Gerente de Processo e Produção, Carga horária: 44, Regime: Dedicação exclusiva.

2011 - 2012

SEMIKRON semicondutores

Vínculo: Celetista formal, Enquadramento Funcional: Coordenador de Produção e Processo, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.

2009 - 2011

Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica Avançada

Vínculo: Servidor Público, Enquadramento Funcional: Analista de Processo de Fabricação II, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.

Atividades

09/2009 - 09/2011
Serviços técnicos especializados , Pesquisa e Manufatura, .,Serviço realizado, Resposável na fábrica pela implementação dos processos de Corrosão por plasma, Deposição de dielétricos por plasma (PECVD), Deposição de Tungstênio (WCVD) e Sputtering.
09/2009 - 09/2011
Serviços técnicos especializados , Pesquisa e Manufatura, .,Serviço realizado, Transferência de Processo XC06 da empresa XFAB para propdução de circuitos integrados.

2007 - 2009

Centro de Excelência em Tecnologia Eletrônica Avançada

Vínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Engenheiro de Processo, Carga horária: 40

Atividades

12/2007 - 07/2009
Serviços técnicos especializados , Ceitec, .,Serviço realizado, Transferência de Processo XC06 da empresa XFAB para propdução de circuitos integrados.
01/2007 - 07/2009
Serviços técnicos especializados , Ceitec, .,Serviço realizado, Resposável na fábrica pela implementação dos processos de Corrosão por plasma, Deposição de dielétricos por plasma (PECVD), Deposição de Tungstênio (WCVD) e Sputtering.

2007 - 2007

Freescale Semiconductor, Inc.

Vínculo: Colaborador, Enquadramento Funcional: Engenheiro de Processo, Carga horária: 40

Atividades

08/2007 - 10/2007
Serviços técnicos especializados , Chandler Fab, Arizona, .,Serviço realizado, Processos de Fabricação de Circuitos Integrados nas Áreas de Corrosão por Plasma, Deposição por plasma e Sputtering..

2006 - 2006

Queen's University of Belfast

Vínculo: Professor Visitante, Enquadramento Funcional: Professor visitante

Atividades

06/2006 - 07/2006
Pesquisa e desenvolvimento , International Research Centre for Experimental Physics, .,Linhas de pesquisa

2004 - 2006

Universidade Estadual de Campinas

Vínculo: Colaborador, Enquadramento Funcional: Professor Colaborador, Regime: Dedicação exclusiva.

1996 - 2003

Universidade Estadual de Campinas

Vínculo: Bolsista, Enquadramento Funcional: Bolsista, Regime: Dedicação exclusiva.

Outras informações:
Bolsas: SAE/UNICAMP ? Iniciação Científica, Maio/1996 - Julho/1996. PIBIC/CNPq ? Iniciação Científica, Agosto/1996 - Abril/1997. FAPESP ? Iniciação Científica, Maio/1997 - Fevereiro/1998. FAPESP ? Mestrado, Março/1998 - Agosto/1999. CAPES ? Doutoramento, Setembro/1999 - Fevereiro/2000. FAPESP ? Doutoramento, Março/2000 - Agosto/2003.

Atividades

03/2004 - 12/2006
Pesquisa e desenvolvimento , Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação da UNICAMP, .,Linhas de pesquisa
05/1996 - 12/2006
Pesquisa e desenvolvimento , Instituto de Física Gleb Wataghin, .,Linhas de pesquisa
03/2005 - 07/2005
Ensino, Engenharia Elétrica, Nível: Graduação,Disciplinas ministradas, EE410 Introdução à Ciência dos Materiais para Engenharia Elétrica
08/2004 - 12/2004
Ensino, Engenharia Elétrica, Nível: Pós-Graduação,Disciplinas ministradas, IE325 - Tópicos Especiais em Microeletrônica I (Turma O)