Dispositivo compreendendo confinamento elestrostático de plasma, processo de tratamentos superficiais e superfícies tratadas por tal processo

  • Número do pedido da patente:
  • PI 1100249-2 A2
  • Data do depósito:
  • 21/02/2011
  • Data da publicação:
  • 18/08/2015
Inventores:
  • Classificação:
  • H01J 37/32
    V?lvulas de descarga com meios para introduzir objetos ou materiais a serem expostos ? descarga, p. ex. para fins de exame ou processamento dos mesmos; / V?lvulas de descarga de enchimento gasoso;
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    C23C 8/36
    Difus?o em estado s?lido de apenas um elemento n?o met?lico nas superf?cies de materiais met?licos; Tratamento qu?mico da superf?cie dos materiais met?licos pela rea??o da superf?cie com um g?s reativo, deixando os produtos reacionais do material da superf?cie no revestimento, p. ex. revestimentos de convers?o, passiva??o de metais; / usando gases; / usando gases ionizados, p. ex. nitrura??o i?nica;
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DISPOSITIVO COMPREENDENDO CONFINAMENTO ELETROSTÁTICO DE PLASMA, PROCESSO DE TRATAMENTOS SUPERFICIAIS E SUPERFÍCIES TRATADAS POR TAL PROCESSO. A presente invenção descreve um dispositivo de utilização do efeito de confinamento eletrostático de plasma pela técnica de catodo oco segmentado, também descreve um processo de tratamentos superficiais, visando aumentar a trajetória dos elétrons entre o cátodo e o ânodo, e assim aumentar a densidade do plasma, incrementar sua reatividade (plasmas mais densos e homogêneos); selecionar a energia ótima para gerar espécies ativas e o potencial ótimo para o bombardeio de lons. A presente invenção também descreve superfícies tratadas por tal processo.

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