Sistema e processo para fundir e evaporar continuamente um material sólido, sistema de revestimento por deposição de vapor, eletrodo continuamente alimentado, aparelho de descarga de arco elétrico , processos para produzir uma descarga de arco elétrico, para revestir por deposição de vapor, para ionizar um vapor de revestimento, para medir o grau de ionização e a taxa de evaporação a partir de um evaporador em um sistema de revestimento por deposição de vapor e para remover material depositado em uma célula de vácuo por um vapor de revestimento

  • Número do pedido da patente:
  • PI 9912722-9 A2
  • Data do depósito:
  • 14/07/1999
  • Data da publicação:
  • 02/05/2001
  • Prioridade unionista:
  • País Número Data
    ESTADOS UNIDOS ESTADOS UNIDOS 09/128456 03/08/1998
Inventores:
  • Classificação:
  • C23C 14/00
    Revestimento por evapora??o a v?cuo, por pulveriza??o cat?dica ou por implanta??o de ions do material;
    ;
  • Início da fase nacional:
  • 02/02/2001
  • PCT:
  • Número: US9915828 Data:14/07/1999
  • WO:
  • Número: 00/08226 Data: 17/02/2000

"SISTEMA E PROCESSO PARA FUNDIR E EVAPORAR CONTINUAMENTE UM MATERIAL SÓLIDO, SISTEMA DE REVESTIMENTO POR DEPOSIÇÃO DE VAPOR, ELETRODO CONTINUAMENTE ALIMENTADO, APARELHO DE DESCARGA DE ARCO ELÉTRICO, PROCESSOS PARA PRODUZIR UMA DESCARGA DE ARCO ELÉTRICO, PARA REVESTIR POR DEPOSIÇÃO DE VAPOR, PARA IONIZAR UM VAPOR DE REVESTIMENTO, PARA MEDIR O GRAU DE IONIZAÇÃO E A TAXA DE EVAPORAÇÃO A PARTIR DE UM EVAPORADOR EM UM SISTEMA DE REVESTIMENTO POR DEPOSIÇÃO DE VAPOR E PARA REMOVER MATERIAL DE POSITADO EM UMA CÉLULA DE VÁCUO POR UM VAPOR DE REVESTIMENTO". Aparelhos e processo para uso em revestimento por deposição de vapor a vácuo asseguram operação mais simples, econômica e contínua. Um sistema e processo para continuamente efetuar a fusão e evaporação de um material sólido para formar um vapor de revestimento inclui o uso de um cadinho de fusão em separado e cadinho de evaporação. Um sistema e processo para energizar os sólidos evaporáveis para formar um plasma que compreende primeiro e segundo eletrodos e um dispositivo para seletivamente comutar a polaridade entre os primeiro e segundo eletrodos para evitar a deposição de vapor de revestimento sobre os eletrodos. Outro sistema e processo para energizar os sólidos evaporáveis para formar um plasma que incluem um aparelho de descarga de arco elétrico com uma parte catódica e uma parte anódica. Um eletrodo continuamente alimentado é apresentado para contínua vaporização de membros de eletrodo em uma descarga de arco elétrico. Um aparelho e processo asseguram a medição da taxa de evaporação de um evaporador e o grau de ionização em um sistema de revestimento por deposição de vapor. Finalmente, um sistema é apresentado para limpeza in situ de depósitos vaporizáveis para limpeza do recinto do sistema de deposição de vapor a vácuo.

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