Patente nº PI 9911991-9

  • Número do pedido da patente:
  • PI 9911991-9
  • Data do depósito:
  • 18/06/1999
  • Prioridade unionista:
  • País Número Data
    ESTADOS UNIDOS ESTADOS UNIDOS 09/103,852 24/06/1998
Inventores:
  • Classificação:
  • C08K 5/00
    Uso de ingredientes orgânicos;
    ;
    C09D 133/06
    Composições de revestimento ? base de homopol?meros ou copol?meros de compostos tendo um ou mais radicais alif?ticos insaturados, cada qual tendo somente uma liga??o dupla carbono-carbono, e pelo menos um deles sendo terminado por somente um radical carboxila, ou de seus sais, anidridos, ?steres, amidas, imidas ou nitrilas; Composições de revestimento ? base de tais pol?meros; / Homopol?meros ou copol?meros de ?steres; / de ?steres contendo somente carbono, hidrog?nio e oxig?nio, o ?tomo de oxig?nio estando presente unicamente como parte do radical carboxila;
    ;
    C08G 18/62
    Produtos polim?ricos de isocianatos ou isotiocianatos; / com compostos tendo hidrog?nio ativo; / caracterizados pelo uso de componentes contendo hidrog?nio ativo; / Compostos de alto peso molecular; / Pol?meros de compostos tendo liga??es duplas carbono-carbono;
    ;
    C09D 125/14
    Composições de revestimento ? base de homopol?meros ou copol?meros de compostos tendo um ou mais radicais alif?ticos insaturados, cada qual tendo somente uma liga??o dupla carbono-carbono, e pelo menos uma delas sendo terminadas por um anel carboc?clico arom?tico; Composições de revestimento ? base de derivados de tais pol?meros; / Homopol?meros ou copol?meros de hidrocarboneto; / Homopol?meros ou copol?meros de estireno; / Copol?meros de estireno; / com ?steres insaturados;
    ;
    C09D 143/04
    Composi??es de revestimento ? base de homopol?meros ou copol?meros de compostos tendo um ou mais radicais alif?ticos insaturados, cada qual tendo somente uma liga??o dupla carbono-carbono, e contendo boro, sil?cio, f?sforo, sel?nio, tel?rio ou um metal; Composi??es de revestimento ? base de derivados de tais pol?meros; / Homopol?meros ou copol?meros de mon?meros contendo sil?cio;
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  • Início da fase nacional:
  • 21/12/2000
  • PCT:
  • Número: US9913869 Data:18/06/1999
  • WO:
  • Número: 99/67314 Data: 29/12/1999

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