Silício finamente dividido com halogênio superficialmente ligado, processo para sua produção e sua aplicação

  • Número do pedido da patente:
  • PI 9205984-8 A2
  • Data do depósito:
  • 30/04/1992
  • Data da publicação:
  • 27/09/1994
  • Prioridade unionista:
  • País Número Data
    ALEMANHA ALEMANHA P 41 15 183.6 09/05/1991
Inventores:
  • Classificação:
  • C01B 33/02
    Sil?cio; Seus compostos; / Sil?cio;
    ;
    C07F 7/16
    Compostos contendo elementos dos Grupos 4 ou 14 da Tabela Peri?dica; / Compostos de sil?cio; / Compostos tendo uma ou mais liga??es C Si; / Haletos organo-sil?cicos; / Prepara??o dos mesmos a partir de sil?cio e hidrocarbonetos halogenados;
    ;
  • PCT:
  • Número: EP9200943 Data:30/04/1992
  • WO:
  • Número: 92/19626 Data: 12/11/1992

Patente de Invenção: "SILÍCIO FINAMENTE DIVIDIDO COM HALOGÊNIO SUPERFICIALMENTE LIGADO, PROCESSO PARA SUA PRODUÇÃO E SUA APLICAÇÃO". São descritos silício finamente dividido com halogênio superficialmente ligado, o processo para a sua produção por reação de silício com compostos de halogênio, bem como a aplicação do silício finamente dividido na síntes de Rochow.