Fundo distribuidor
- Número do pedido da patente:
- PI 0620401-5 A2
- Data do depósito:
- 20/12/2006
- Data da publicação:
- 16/11/2011
- Prioridade unionista:
-
País Número Data 
REPÚBLICA DA CORÉIA
10-2005-0130071 26/12/2005 
ÁUSTRIA
A2068/05 23/12/2005
Inventores:
- Classificação:
-
B01J 8/44;Processos qu?micos ou f?sicos em geral, realizados na presen?a de fluidos e part?culas s?lidas; Aparelhos para esses processos; / sendo as part?culas fluidizadas; / conforme a t?cnica do "leito fluidizado"; / Grades de fluidiza??o;
- Nome do depositante:
- Posco / Siemens Vai Metals Technologies Gmbh
- Nome do procurador:
- Orlando de Souza
- Início da fase nacional:
- 23/06/2008
- PCT:
- Número: EP2006012292 Data:20/12/2006
- WO:
- Número: 2007/079939 Data: 19/07/2007
FUNDO DISTRIBUIDOR. A invenção refere-se a um fundo distribuidor 1, especialmente a um fundo distribuidor de bocal, para introdução uniforme de gás de processo, especialmente carregado com partículas sólidas, eventualmente para formação de uma camada turbulenta, em um compartimento de processo 3 disposto acima do fundo distribuidor, formado por paredes de reator 4 de um reator para tratamento metalúrgico, especialmente térmico, de insumos, sendo que o fundo distribuidor apresenta uma pluralidade de aberturas. Por uma disposição próxima à parede de aberturas no fundo distribuidor podem ser evitados depósitos em paredes do reator. Disposições especiais se referem a bocais e tubos de guia.
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