Processo para produzir silício

Número do pedido da patente:
PI 0508314-1 A2

Data do depósito:
06/01/2005

Data da publicação:
24/07/2007

Prioridade unionista:

País	Número	Data
ALEMANHA	10 2004 010 055.1	02/03/2004

Inventores:

Tim Pöpken

Raymund Sonnenschein

Classificação:
C01B 33/027

Sil?cio; Seus compostos; / Sil?cio; / Prepara??o; / por decomposi??o ou redu??o de compostos de sil?cio gasosos ou vaporizados outros que n?o s?lica ou material contendo s?lica;

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C01B 33/03

Sil?cio; Seus compostos; / Sil?cio; / Prepara??o; / por decomposi??o ou redu??o de compostos de sil?cio gasosos ou vaporizados outros que n?o s?lica ou material contendo s?lica; / por decomposi??o de haletos de sil?cio ou de silanos halogenados ou redu??o destes com hidrog?nio como o ?nico agente redutor;

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C01B 33/029

Sil?cio; Seus compostos; / Sil?cio; / Prepara??o; / por decomposi??o ou redu??o de compostos de sil?cio gasosos ou vaporizados outros que n?o s?lica ou material contendo s?lica; / por decomposi??o de monosilano;

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Nome do depositante:
Degussa Ag

Nome do procurador:
Dannemann , Siemsen, Bigler & Ipanema Moreira

Início da fase nacional:
31/08/2006

PCT:
Número: EP2005050043 Data:06/01/2005

WO:
Número: 2005/085133 Data: 15/09/2005

PROCESSO PARA PRODUZIR SILÍCIO A presente invenção refere-se a um processo para produzir silício pela decomposição térmica de uma mistura gasosa compreendendo monossilano, monoclorossilano e, se desejado, outros clorossilanos, por exemplo diclorossilano.