Processo para produção de um composto

Número do pedido da patente:
PI 0313622-1 A2

Data do depósito:
19/08/2003

Data da publicação:
21/06/2005

Prioridade unionista:

País	Número	Data
JAPÃO	2003-131270	09/05/2003
JAPÃO	2002-238786	20/08/2002

Inventores:

Rei Okazaki

Shunshi Kojima

Classificação:
C07D 319/06

Compostos heteroc?clicos contendo an?is de seis membros tendo dois ?tomos de oxig?nio como os ?nicos hetero?tomos; / 1,3-Dioxanos; 1,3-Dioxanos hidrogenados; / n?o-condensados com outros an?is;

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C07D 207/333

Compostos heteroc?clicos contendo an?is de cinco membros n?o-condensados com um ?tomo de nitrog?nio como o ?nico hetero?tomo do anel; / com apenas ?tomos de hidrog?nio ou de carbono diretamente ligados ao ?tomo de nitrog?nio do anel; / tendo duas duplas liga??es entre membros do anel ou entre membros do anel e n?o membros do anel; / com apenas ?tomos de hidrog?nio, radicais de hidrocarbonetos ou de hidrocarboneto substitu?do diretamente ligados a ?tomos de carbono do anel; / com radicais de hidrocarbonetos substitu?do, ligados diretamente a ?tomos de carbono do anel; / Radicais substitu?dos por ?tomos de oxig?nio ou de enxofre;

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Nome do depositante:
Sankyo Company, Limited

Nome do procurador:
Momsen, Leonardos & Cia

Início da fase nacional:
18/02/2005

PCT:
Número: JP2003010471 Data:19/08/2003

WO:
Número: 2004/018446 Data: 04/03/2004

"PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE UM COMPOSTO". A presente invenção fornece um processo para produção de um composto . -cetoacetal em que o produto desejado pode ser obtido através de um procedimento simples em alto rendimento como um produto de alta pureza. [Meios de resolver o assunto] A presente invenção é um processo em que o esquema de reação é mostrado abaixo (em que Ar e um grupo arila; X é um átomo de halogênio; R^ a^ e R^ b^ são grupos alquila ou similar; W é um grupo alquileno).