Método de revestimento

Número do pedido da patente:
PI 0205197-4 A2

Data do depósito:
19/12/2002

Data da publicação:
29/06/2004

Prioridade unionista:

País	Número	Data
ESTADOS UNIDOS	10/021,032	19/12/2001

Inventores:

Sean X. Pan

Cindy C. Chen

Classificação:
G03G 5/05

Elementos de grava??o para grava??o original por exposi??o, p. ex. ? luz, ao calor, a el?trons; Sua fabricação; Sele??o de materiais para esse fim; / Camadas receptoras de cargas; / Camadas fotocondutoras; Camadas de gera??o de cargas ou transporte de cargas; Aditivos para os mesmos; Aglutinantes para os mesmos; / Materiais de liga??o orgânicos; M?todos para revestir um substrato ou uma camada fotocondutiva; Aditivos inertes utiliz?veis em camadas fotocondutivas;

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Nome do depositante:
Xerox Corporation

Nome do procurador:
Dannemann, Siemsen, Bigler & Ipanema Moreira

"MÉTODO DE REVESTIMENTO". Um método de revestimento para um substrato, definindo uma região de deposição e uma região não revestida opcional, em que a região de deposição inclui uma região intermediária, disposta entre uma primeira região terminal e uma segunda região terminal, o método composto de: (a) revestimento por imersão de uma primeira camada de uma solução de revestimento, incluindo um meio líquido e um material de revestimento, apenas sobre a primeira região terminal; e (b) revestimento por imersão de uma segunda camada da solução de revestimento sobre a primeira camada, a região intermediária e a segunda região terminal, na seqüência indicada.