"processo para produção de resina absorvente de água".

  • Número do pedido da patente:
  • PI 0106878-4 A2
  • Data do depósito:
  • 20/06/2001
  • Data da publicação:
  • 14/05/2002
  • Prioridade unionista:
  • País Número Data
    JAPÃO JAPÃO 2000-187021 21/06/2000
Inventores:
  • Classificação:
  • C08F 20/06
    Homopol?meros ou copol?meros de compostos tendo um ou mais radicais alif?ticos insaturados tendo cada qual apenas uma liga??o dupla carbono-carbono, e sendo pelo menos um terminado por um radical carbox?lico ou um sal, anidrido, ?ster, amida, imida ou nitrila dos mesmos; / ?cidos monocarbox?licos tendo menos de dez ?tomos de carbono; Seus derivados; / ?cidos; Sais met?licos ou sais de am?nio dos mesmos; / ?cido acr?lico; ?cido metacr?lico; Sais met?licos ou sais de am?nio dos mesmos;
    ;
  • Início da fase nacional:
  • 21/02/2002
  • PCT:
  • Número: JP0105265 Data:20/06/2001
  • WO:
  • Número: 01/98382 Data: 27/12/2001

Patente de Invenção: "PROCESSO DE PRODUÇÃO DE RESINA ABSORVENTE DE ÁGUA". A presente invenção refere-se a um processo para a produção de uma resina absorvente de água da qual o teor de monômero residual e conteúdo que pode ser extraído por água são baixos. O processo para a produção de uma resina absorvente de água compreende a etapa de polimerização de pelo menos um componente monômero que inclui ácido acrílico e/ou um sal do mesmo como componentes principais para produzir uma resina absorvente de água que é um sal neutralizado e este processo é caracterizado pelo fato de que o ácido acrílico é um produto obtido por oxidação catalítica em fase gasosa de propileno e/ou de propano e tem um teor de protoanemonina de não mais do que 10 ppm e pelo fato de que a resina absorvente de água resultante tem uma razão de neutralização de não menos do que 50% em mol.

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