Processo para o revestimento com pó

Número do pedido da patente:
PI 9908843-6 A2

Data do depósito:
16/03/1999

Data da publicação:
21/11/2000

Prioridade unionista:

País	Número	Data
ALEMANHA	198 31 781.6	15/07/1998
ALEMANHA	198 11 319.6	16/03/1998

Inventores:

Martin Sedlmeyr

Classificação:
B05D 3/02

Pr?-tratamento de superf?cies ?s quais ser?o aplicados l?quidos ou outros materiais fluentes; P?s-tratamento de revestimentos aplicados, p. ex. tratamento intermedi?rio de um revestimento aplicado como preparação a aplica??es subsequentes de l?quidos ou outros materiais fluentes; / por cozimento;

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Nome do depositante:
Advanced Photonics Technologies Ag

Nome do procurador:
Di Blasi, Parente, S. G. & Associados S/C

Início da fase nacional:
15/09/2000

PCT:
Número: EP9901720 Data:16/03/1999

WO:
Número: 99/47276 Data: 23/09/1999

Patente de Invenção . "PROCESSO PARA O REVESTIMENTO COM PÓ". se refere a um processo para o revestimento por pó de um substrato (5), especialmente de um substrato sensível a temperatura, tal como madeira, material de fibra de madeira, material sintético, borracha, tecido, papel ou cartolina, onde um pó sensitivo a calor, na qualidade de camada de base (6), é depositado sobre a superfície não revestida do substrato (1,5), e sendo que o pó é continuamente aquecido para a temperatura de reticulação por meio de radiação infravermelha tendo pelo menos frações de radiação na proximidade e/ou na faixa de infravermelhas de ondas curtas, e levado ao endurecimento, ou é aquecido continuamente para a temperatura de gelificação e é reticulado pronto somente em uma posterior etapa de processo, e é endurecido. Para a produção da radiação infravermelha são usadas especialmente lâmpadas halógenas (7) em combinação com um refletor (8) para a reflexão da radiação emitida na direção do substrato. As lâmpadas halógenas (7) são operadas de tal maneira, que um máximo de densidade de fluxo de radiação da radiação emitida se situa na proximidade da faixa infravermelha.