Polímeros à base de copolímeros de bloco

  • Número do pedido da patente:
  • PI 9510434-8 A2
  • Data do depósito:
  • 27/12/1995
  • Data da publicação:
  • 13/10/1999
  • Prioridade unionista:
  • País Número Data
    SUIÇA SUIÇA 3967/94-8 30/12/1994
    SUIÇA SUIÇA 3968/94-0 30/12/1994
Inventores:
  • Classificação:
  • G02B 1/04
    Elementos ?pticos caracterizados pelo material de que s?o feitos; Revestimentos ?pticos para elementos ?pticos; / feitos de materiais orgânicos, p. ex. pl?sticos;
    ;
    C08F 2/50
    Processos de polimeriza??o; / Polimeriza??o iniciada por energia de ondas ou por irradia??o de part?culas; / pela luz ultravioleta ou vis?vel; / com agentes sensibilizantes;
    ;
    C08F 290/04
    Compostos macromoleculares obtidos atrav?s de polimeriza??o de mon?meros sobre pol?meros modificados por introdu??o de grupos terminais ou laterais alif?ticos insaturados; / sobre pol?meros modificados por introdu??o de grupos terminais insaturados; / Pol?meros fornecidos pelas subclasses ou ;
    ;
    G03F 7/031
    Produ??o fotomec?nica, p. ex. fotolitografia, produ??o de superf?cies texturizadas ou estampadas, p. ex. superf?cies para impress?o; Materiais para esse fim, p. ex. compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim; / Materiais fotossens?veis; / Compostos fotopolimeriz?veis n?o-macromoleculares tendo liga??es duplas carbono-carbono, p. ex. compostos etil?nicos; / com subst?ncias que aumentam a fotossensibilidade, p. ex. fotoiniciadores; / Compostos org?nicos n?o abrangidos pelo grupo ;
    ;
  • PCT:
  • Número: CH9500309 Data:27/12/1995
  • WO:
  • Número: 96/21167 Data: 11/07/1996

Patente de Invenção: . ''POLÍMEROS À BASE DE COPOLÍMEROS DE BLOCO''. . A invenção refere-se a polímeros reticulados em que se trata de produtos de polimerização de uma mistura capaz de ser polimerizada, contendo os seguintes componentes: a) um macrômero de fórmula C (C) em que Macro representa um radical m-valente de um macrômero, do qual a quantidade de m grupos Rx-H é removida, R~ x~ representa, independentemente um do outro, uma ligação, -O-, -NR~ N~- ou -S-, em que R~ N~ representa hidrogênio ou alquila ingerior, PI* repreeneta um radical divalente de um fotoiniciador, R~ aa~ representa uma parte do fotoiniciador que forma o radical menos reativo a uma separação do fotoiniciador, e m representa um número inteiro de 1 a 100. b) um monômero de vinila copolimerizável e c) um reticulador copolimerizável. Estes polimeros são especialmente adequados para a preparação de corpos moldados, como lentes de contato.

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