Processo para cura de uma composição polimerizável

  • Número do pedido da patente:
  • PI 9710129-0 A2
  • Data do depósito:
  • 20/06/1997
  • Data da publicação:
  • 10/08/1999
  • Prioridade unionista:
  • País Número Data
    SUIÇA SUIÇA 96810438.0 02/07/1996
Inventores:
  • Classificação:
  • C08J 3/24
    Processos para o tratamento ou a forma??o de misturas de substâncias macromoleculares; / Reticula??o, p. ex. vulcaniza??o de macromol?culas;
    ;
    C09D 133/06
    Composições de revestimento ? base de homopol?meros ou copol?meros de compostos tendo um ou mais radicais alif?ticos insaturados, cada qual tendo somente uma liga??o dupla carbono-carbono, e pelo menos um deles sendo terminado por somente um radical carboxila, ou de seus sais, anidridos, ?steres, amidas, imidas ou nitrilas; Composições de revestimento ? base de tais pol?meros; / Homopol?meros ou copol?meros de ?steres; / de ?steres contendo somente carbono, hidrog?nio e oxig?nio, o ?tomo de oxig?nio estando presente unicamente como parte do radical carboxila;
    ;
    C09D 167/00
    Composições de revestimento ? base de poli?steres obtidos por rea??es que formam uma liga??o ?ster-carbox?lica na cadeia principal; Composições de revestimento ? base de derivados de tais pol?meros;
    ;
  • Início da fase nacional:
  • 31/12/1998
  • PCT:
  • Número: EP9703219 Data:20/06/1997
  • WO:
  • Número: 98/00456 Data: 08/01/1998

Patente de Invenção:. "PROCESSO PARA CURA DE UMA COMPOSIÇÃO POLIMERIZÁVEL". . Por meio de um processo de cura combinado cura térmica e por UV é possível, usando composições compreendendo (A) um sistema de revestimento baseado em um poliol de poliacrilato ou poliol de poliéster com melamina, ou um poliol de poliacrilato e/ou poliol de poliéster com um pliisocianato bloquado ou desbloqueado, ou um poliéster e/ou poliacrilato funcional de carboxila, anidrido ou amino com um poliéster ou poliacrilato funcional de epóxi, (B) uma resina funcional de OH, NH~ 2~, NH~ 2~, COOH, epóxi ou NCO contendo, em adição, pelo menos uma ligação dupla etilenicamente insaturada, que é separada do grupo funcional por um grupo espaçador, e (C) pelo menos um fotoiniciador, para obter revestimentos tendo boas propriedades de superfície.