Processo e aparelho para refinamento de silício

  • Número do pedido da patente:
  • PI 9701330-7 A2
  • Data do depósito:
  • 18/03/1997
  • Data da publicação:
  • 10/11/1998
  • Prioridade unionista:
  • País Número Data
    JAPÃO JAPÃO 347961 26/12/1996
    JAPÃO JAPÃO 288220 30/10/1996
    JAPÃO JAPÃO 063319 19/03/1996
Inventores:
  • Classificação:
  • C01B 33/037
    Sil?cio; Seus compostos; / Sil?cio; / Purifica??o;
    ;

Patente de Invenção:. "PROCESSO E APARELHO PARA REFINAMENTO DE SILÍCIO". . Processo e aparelho para refinamento de silício pelo tratamento em um vaso de frafite com irradiação com um feixe de elétrons, enquanto se remove quaisquer elementos de impureza por evaporação. Uma único vaso de grafite é usado, ou vasos de grafite plurais são dispostos em seqüência. Durante o tratamento em vasos de gradite sucessivos, o silício fundido é vazado em sucessão de um vaso para o outro. O uso de vasos de grafite melhora a eficiência térmica, evita a contaminação e produz silício refinado contendo teores muito baixos de impurezas.