Material de registro sensível à luz e processo para sua preparação

  • Número do pedido da patente:
  • PI 9505053-1 B1
  • Data do depósito:
  • 01/11/1995
  • Data da publicação:
  • 14/10/1997
  • Data da concessão:
  • 26/11/2002
  • Prioridade unionista:
  • País Número Data
    ALEMANHA ALEMANHA P 44 39 184.6 03/11/1994
Inventores:
  • Classificação:
  • G03F 7/11
    Produ??o fotomec?nica, p. ex. fotolitografia, produ??o de superf?cies texturizadas ou estampadas, p. ex. superf?cies para impress?o; Materiais para esse fim, p. ex. compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim; / Materiais fotossens?veis; / caracterizadas pelos detalhes estruturais, p. ex. suportes; camadas auxiliares; / tendo camadas de cobertura ou intermedi?rias, p. ex. camadas de substrato;
    ;
    G03F 7/016
    Produ??o fotomec?nica, p. ex. fotolitografia, produ??o de superf?cies texturizadas ou estampadas, p. ex. superf?cies para impress?o; Materiais para esse fim, p. ex. compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim; / Materiais fotossens?veis; / Sais ou compostos de diaz?nio;
    ;

Patente de Invenção: "MATERIAL DE REGISTRO SENSÍVEL À LUZ E PROCESSO PARA SUA PREPARAÇÃO": Um material de registro sensível à luz com uma camada de suporte, uma camada sensível à luz trabalhando negativamente, que contém um sal de diazônio e um aglutinante polimérico insolúvel em água, solúvel ou inchável em soluções aquosas alcalinas, e uma camada de cobertura descontínua formando uma superfície áspera, que consiste de polímeros, insolúveis em água, dispersáveis em água na presença de agentes de dispersão aniônicos/não-aniônicos, com um teor de grupos ácido livres ou neutralizados por formação de sal menor do que 0,8 mol/g, sendo que o tamanho médio da partícula é de 2 até 6 µm, o tamanho máximo é mrnor do que 10 µm, o diâmetro médio horizontal é menor do que 40 µm, o diâmetro máximo é menor do que 80 µm e o número das partículas é de 100 até 10.000 por cada cm^ 2^. o material é apropriado para preparação de placas de impressão planas e necesita apenas de tempos de sucção curtos na moldura de cópia a vácuo. O material é revelado livre de resíduos após a exposição, sendo que a superfície áspera se mantém nos locais expostos.

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