Composto, composição, processo para estabilizar material orgnico e uso
- Número do pedido da patente:
- PI 9504359-4 A2
- Data do depósito:
- 10/10/1995
- Data da publicação:
- 08/10/1996
- Prioridade unionista:
-
País Número Data
SUIÇA
365/95 08/02/1995
SUIÇA
364/95 08/02/1995
SUIÇA
3039/94 10/10/1994
- Classificação:
-
G03C 1/73;Materiais fotossens?veis; / Composições fotossens?veis n?o abrangidas pelos grupos ; / contendo compostos orgânicos;C07D 251/24;Compostos heteroc?clicos contendo an?is 1,3,5-triazina; / n?o-condensados com outros an?is; / tendo tr?s duplas liga??es entre membros do anel ou entre membros do anel e n?o membros do anel; / com ?tomos de hidrog?nio ou de carbono diretamente ligados a pelo menos um ?tomo de carbono do anel; / a tr?s ?tomos de carbono do anel;
- Nome do procurador:
- Dannemann, Siemsen, Bigler & Ipanema Moreira
Patente de Invenção: . "COMPOSTO, COMPOSIÇÃO, PROCESSO PARA ESTABILIZAR MATERIAL ORGNICO E USO". . Os compostos da fórmula I em que R~ 1~ e R~ 5~, independentemente um do outro, são alquila de C~ 1~-C~ 12~; R~ 2~, R~ 3~ e R~ 4~, independentemente um do outro, são H: alquila de C~ 1~-C~ 12~; alquenila de C~ 2~-C~ 6~; alcóxi C~ 1~-C~ 12~; alquenilóxi de C~ 2~-C~ 18~; halogênio; triflúormetila; fenilalquila de C~ 7~-C~ 11~; fenila; fenila que é substituída por alquila de C~ 1~-C~ 18~, alcóxi de C~ 1~-C~ 18~ ou halogênio; fenóxi; ou fenóxi que é substituído por alquila de C~ 1~-C~ 18~, alcóxi de C~ 1~-C~ 18~ ou halogênio; os dois radicais R~ 7~ são idênticos ou diferentes e são hidrogênio ou alquila de C~ 1~-C~ 18~ ou são alquila de C~ 1~-C~ 18~ que é substituída por OH, alcóxi de C~ 1~-C~ 18~, alquenilóxi de C~ 3~-C~ 6~, halogênio, - COOH, -COOR~ 8~, -CONH~ 2~, -CONH~ 9~, - CON(R~ 9~) (R~ 10~), -NH~ 2~, -NHR~ 9~, -N(R~ 9~) (R~ 10~), -NH~ 2~, -NH~ 9~, -N(R~ 9~) (R~ 10~), -NHCOR~ 11~, -CN, OCO~ 11~, fenóxi e/ou fenóxi que é substituído por alquila C~ 1~-C~ 18~, alcóxi de C~ 1~-C~ 18~ ou halogênio; ou os radicais R~ 7~ são alquila de C~ 3~-C~ 50~ que é interrompida por -O- e pode ser substituida por OH, fenóxi ou alquilfenóxi de C~ 7~-C~ 18~; ou os radicais R~ 7~ são alquenila de C~ 3~-C~ 6~; glicidila; cicloalquila de C~ 5~-C~ 12~, cicloalquila de C~ 5~-C~ 12~, que é substituída por OH, alquila de C~ 1~-C~ 4~ ou -OCOR~ 11~; fenilaquila de C~ 7~-C~ 11~ que é insubstituída ou substituída por OH, CL ou CH~ 3~; alquenila de C~ 4~-C~ 14~ que é substituída por OH ou OCOR11; -COR~ 12~ ou -SO~ 2 ~ -R~ 13~; e R~ 8~ A R ~ 14~ são como definidos na reivindicação 1, são altamente adequados para estabilizar material orgânico, incluindo material de registro fotográfico.
Confirma a exclusão?