Composição fotoendurecível

  • Número do pedido da patente:
  • PI 8801410-0 B1
  • Data do depósito:
  • 28/03/1988
  • Data da publicação:
  • 01/11/1988
  • Data da concessão:
  • 06/02/2001
  • Prioridade unionista:
  • País Número Data
    SUIÇA SUIÇA 1152/87 26/03/1987
Inventores:
  • Classificação:
  • C08F 2/50
    Processos de polimeriza??o; / Polimeriza??o iniciada por energia de ondas ou por irradia??o de part?culas; / pela luz ultravioleta ou vis?vel; / com agentes sensibilizantes;
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    G03F 7/00
    Produ??o fotomec?nica, p. ex. fotolitografia, produ??o de superf?cies texturizadas ou estampadas, p. ex. superf?cies para impress?o; Materiais para esse fim, p. ex. compreendendo fotoresistes; Aparelhos especialmente adaptados para esse fim;
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    C07D 295/10
    Compostos heteroc?clicos contendo an?is de polimetilenoimina com pelo menos an?is de cinco membros, 3-azabiciclo [3.2.2] nonano, piperazina, morfolina ou tiomorfolina, tendo apenas ?tomos de hidrog?nio ligados diretamente aos ?tomos de carbono do anel; / com radicais de hidrocarbonetos substitu?dos por hetero?tomos ligados a ?tomos de nitrog?nio do anel; / substitu?dos por ?tomos de oxig?nio ou de enxofre ligados por duplas liga??es;
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    C07C 225/02
    Compostos contendo grupos amino e ?tomos de oxig?nio unidos por liga??o dupla ligados ao mesmo esqueleto de carbono, pelo menos um dos ?tomos de oxig?nio unidos por liga??o dupla n?o fazendo parte de um grupo CHO, p. ex. amino-cetonas; / com grupos amino ligados a ?tomos de carbono ac?clicos do esqueleto de carbono;
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