Processo e aparelho de tratamento continuo de plasma

  • Número do pedido da patente:
  • PI 8000275-7 A2
  • Data do depósito:
  • 16/01/1980
  • Data da publicação:
  • 22/02/2000
  • Prioridade unionista:
  • País Número Data
    ESTADOS UNIDOS ESTADOS UNIDOS 007.487 26/01/1979
Inventores:

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