Processo para a preparação de imidas e processo para a preparação de polímeros.

  • Número do pedido da patente:
  • PI 8500407-3 A2
  • Data do depósito:
  • 30/01/1985
  • Data da publicação:
  • 10/09/1985
  • Prioridade unionista:
  • País Número Data
    SUIÇA SUIÇA 4796/84 05/10/1984
    SUIÇA SUIÇA 450/84 31/01/1984
Inventores:
  • Classificação:
  • H01B 3/30
    Isoladores ou corpos isolantes caracterizados pelos materiais isolantes; Utiliza??o de materiais espec?ficos devido a suas propriedades isolantes ou diel?tricas; / consistindo, principalmente, de substâncias org?nicas; / pl?sticos; resinas; ceras;
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    C08F 2/00
    Processos de polimeriza??o;
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    C09J 133/04
    Adesivos ? base de homopol?meros ou copol?meros de compostos tendo um ou mais radicais alif?ticos insaturados, cada qual tendo somente uma liga??o dupla carbono-carbono, e pelo menos um deles sendo terminado por somente um radical carboxila, ou de seus sais anidridos, ?steres, amidas, imidas, ou nitrilas; Adesivos ? base de tais pol?meros; / Homopol?meros ou copol?meros de ?steres;
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    C07D 209/48
    Compostos heteroc?clicos contendo an?is de cinco membros condensados com outros an?is, com um ?tomo de nitrog?nio como o ?nico hetero?tomo do anel; / condensados com um anel carboc?clico; / Isoind?is; Isoind?is hidrogenados; / com ?tomos de oxig?nio nas posi??es 1 e 3, p. ex. ftalimida;
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    C08L 33/24
    Composi??es de homopol?meros ou copol?meros de compostos tendo um ou mais radicais alif?ticos insaturados, tendo cada qual apenas uma dupla liga??o carbono-carbono, e sendo somente um terminado por um ?nico radical carboxila, ou seus sais, anidridos, ?steres, amidas, imidas ou nitrilas; Composi??es de derivados desses pol?meros; / Homopol?meros ou copol?meros de amidas ou imidas;
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    C09J 135/00
    Adesivos ? base de homopol?meros ou copol?meros de compostos tendo um ou mais radicais alif?ticos insaturados, cada qul tendo somente uma liga??o dupla carbono-carbono, e pelo menos um deles sendo terminado por um radical carboxila, e contendo pelo menos um outro radical carboxila na mol?cula, ou de sais, anidridos, ?steres, amidas, imidas ou nitrilas dos mesmos; Adesivos ? base de derivados de tais pol?meros;
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