Composição adequada para uso como uma composição de limpeza, processo para lavagem de tecido e processo para deposição de corre sem eletrólise
- Número do pedido da patente:
- PI 9610165-2 A2
- Data do depósito:
- 29/08/1996
- Data da publicação:
- 04/08/1998
- Prioridade unionista:
-
País Número Data
ESTADOS UNIDOS
60/300.041 30/08/1995
- Classificação:
-
C11D 3/33;Outros ingredientes de composições detergentes abrangidas no grupo ; / Compostos orgânicos; / contendo nitrog?nio; / ?cidos amino carbox?licos;B01D 53/52;Separa??o de gases ou vapores; Recuperação de vapores de solventes vol?teis a partir dos gases; Purifica??o qu?mica ou biol?gica de gases de exaust?o p. ex. gases de exaust?o de motores, fuma?as, fumos ou gases de exaust?o, aeros?is; / Purifica??o qu?mica ou biol?gica de gases residuais; / Remo??o de componentes de estrutura definida; / Compostos de enxofre; / Sulfeto de hidrog?nio;B01D 53/60;Separa??o de gases ou vapores; Recupera??o de vapores de solventes vol?teis a partir dos gases; Purifica??o qu?mica ou biol?gica de gases de exaust?o p. ex. gases de exaust?o de motores, fuma?as, fumos ou gases de exaust?o, aeros?is; / Purifica??o qu?mica ou biol?gica de gases residuais; / Remo??o de componentes de estrutura definida; / Elimina??o simult?nea de ?xidos de enxofre e ?xidos de nitrog?nio;C23C 18/40;Revestimento qu?mico por decomposi??o tanto de elementos qu?micos como solu??es de elementos formadores de revestimento, sem deixar produtos reacionais do material da superf?cie no revestimento; Dep?sito por contato; / por redu??o ou substitui??o, i.e. revestimento n?o eletrol?tico; / Revestimento com metais; / Revestimento com cobre; / usando agentes de redu??o;G03C 7/42;Processos fotogr?ficos multicores ou agentes para esse fim; Regenera??o de ditos agentes de processamento; Materiais fotossens?veis para processos multicores; / Processos em cores que utilizam subst?ncias para combina??o das cores; Materiais para esse fim; Prepara??o ou processamento de tais materiais; / Alvejamento e fixa??o ou agentes para esse fim;
- Nome do depositante:
- The Dow Chemcial Company
- Nome do procurador:
- Antonio Mauricio Pedras Arnaud
- Início da fase nacional:
- 02/03/1998
- PCT:
- Número: US9613939 Data:29/08/1996
- WO:
- Número: 97/08287 Data: 06/03/1997
"COMPOSIÇÃO ADEQUADA PARA USO COMO UMA COMPOSIÇÃO DE LIMPEZA, PROCESSO PARA LAVAGEM DE TECIDO E PROCESSO PARA DEPOSIÇÃO DE COBRE SEM ELETRÓLISE", compreendendo ácidos poliamino monosuccínicos que são quelantes eficazes para uso em condicionamento de gás (preferivelmente envolvendo o ácido poliamino monosuccínico na forma de um quelante metálico, preferivelmente um complexo de ferro). Sulfeto de hidrogênio pode ser removido de um fluido pelo contato de dito fluido com uma solução aquosa em um pH adequado para remover sulfeto de hidrogênio onde a citada solução contém pelo menos um quelante metálico polivalente de maior valência de pelo menos um ácido poliamino monosuccínico. O NO~ x~ pode ser removido de um fluido pelo contato do fluido com uma solução aquosa de um quelante metálico polivalente de pelo menos um estado menor de valência de pelo menos um ácido poliamino monosuccínico. Os quelantes de cobre também são úteis em deposições de cobre sem eletrólise. Em deposição sem eletrólise, a invenção inclui um método de deposição de cobre sem eletrólisse sobre uma superfície não metálica receptiva ao cobre depositado incluindo uma etapa de contatar superfície não metálica com uma solução aquosa compreendendo um sal de cobre solúvel e pelo menos um ácido poliamino monosuccínico e banhos de deposição apropriados para tal uso. Outro aspecto da invenção inclui o uso de ácidos poliamino monosuccínicos em composições de detergente de lavanderia contendo um tensoativo e construtor detergente.
Confirma a exclusão?