Pascal Hayoz - Patentes

Propriedade Intelectual

Patentes 13
Tipo Título Data depósito
INVENTOR Composto, material, camada ou componente semicondutor orgnico, dispositivo, semicondutor, e, uso de um composto. 30/03/2010
INVENTOR Composição de revestimento, processo para a preparação da mesma, substrato, processo para a preparação de um substrato marcado, e, composto. 05/03/2008
INVENTOR Uso não terapêutico de derivados de triazina simétrica, sua preparação cosmética, bem como seu processo de preparação 19/03/2004
INVENTOR Mistura estabilizadora 14/12/2000
INVENTOR Composições adesivas estabilizadas contendo absorventes de uv de hidroxifenil-s-triazina fotoestáveis, de extinção elevada, altamente solúveis e artigos laminados derivados das mesmas 20/04/2000
INVENTOR Mistura, composição, processo de estabilização de material orgnico contra dano por luz, oxigênio e/ou calor, uso da referida mistura e composto 15/09/1997
INVENTOR Hidroxifeniltriazinas 15/09/1997
INVENTOR Derivados de triazina substituída e ligada com polialquileno, e de benzotriazola e benzofenono como absorvedores de uv 07/07/1997
INVENTOR Triazinas substituídas por bifenila como estabilizantes de luz, processos para sua preparação, benzoxazizona, seu processo de preparação, composição, método para aumentar o fator de proteção solar de materiais de fibras têxtis, processo para estabilizar material orgnico contra danos causados pela luz, oxigênio e/ou calor, preparado cosmético, bem como uso das referidas triazinas 06/03/1996
INVENTOR Mistura, composição, processo para estabilizar material orgnico e uso 18/01/1996
INVENTOR "composto, composto polimérico, processo para a incorporação de 2-hidroxifeniltriazinas em polímeros orgnicos, polímero orgnico, material orgnico, processo para a estabilização de material e uso". 04/10/1995
INVENTOR Material de registro fotográfico contendo absorvedor de uv 04/10/1995
INVENTOR Processo para a estabilização de material e uso 04/10/1995