Peter Jürgen Tatsch
Possui graduação em Engenharia Elétrica pela Universidade de São Paulo(1975), mestrado em Engenharia Elétrica pela Universidade Estadual de Campinas(1982) e doutorado em Engenharia Elétrica pela Universidade Estadual de Campinas(1988). Atualmente é Professor MS-4 da Universidade Estadual de Campinas. Tem experiência na área de Engenharia Elétrica, com ênfase em Materiais Elétricos. Atuando principalmente nos seguintes temas:oxidação do silício, plasma.
Informações coletadas do Lattes em 23/10/2022
Acadêmico
Formação acadêmica
Doutorado em Engenharia Elétrica
1983 - 1988
Universidade Estadual de Campinas
Título: Estudo da viabilidade da oxidação do silício por plasma em reator planar.
Edmundo da sSilva Braga. Palavras-chave: oxidação do silício; plasma.Grande área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica / Subárea: Materiais Elétricos / Especialidade: Materiais e Componentes Semicondutores. Setores de atividade: Industria Eletro-Eletrônica.
Mestrado em Engenharia Elétrica
1978 - 1982
Universidade Estadual de Campinas
Carlos Ignacio Z Mammana.Palavras-chave: crscimento de cristais; purificação de materiais; fusão zonal.Grande área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica / Subárea: Materiais Elétricos / Especialidade: Materiais e Componentes Semicondutores. Setores de atividade: Industria Eletro-Eletrônica.
Áreas de atuação
Grande área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica / Subárea: Materiais Elétricos.
Produções bibliográficas
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TATSCH, P. J. ; DINIZ, J. A. ; SWART, J. W. ; MACHIDA, M. . Deposition of silicon nitride by low-pressure electron-cyclotronresonance-plasma-enhanced chemical vapor deposition in N2/Ar/SiH4. J. Vasc. Sci. Technol. B, Estados Unidos, v. 15, n.6, p. 2682-2687, 1997.
-
TATSCH, P. J. ; DINIZ, J. A. ; PUDENZI, M. A. A. . Oxynitride films formed by low energy NO+ implantation into silicon. Applied Physics Letters , Estados Unidos, v. 69, n.15, p. 2214-2215, 1996.
-
TATSCH, P. J. ; DAMIANI, F. ; MANZOLLI, J. ; MAIA, P. J. . A gestural control for a non-linear sound synthesis method. In: Third IEEE Conference, 2000, Cancun, 2000.
-
TATSCH, P. J. ; DINIZ, J. A. ; COUTO, L. ; DDANILOV, I. ; SWART, J. W. . Silicon oxynitride deposited by N2/O2/Ar/SiH4 ECR-CVD plasma or grown by N2/Os/Ar ECR Plasma Oxidation on Si Subsdtraates for MOS devices. In: International Conference on Microelectronics and Packaging - ICMP 99, 1999, Campinas. Proceedings of the ICMp 99, 1996. v. 1. p. 164-167.
-
TATSCH, P. J. ; SARAGOSSA, A. C. ; DINIZ, J. A. ; SWART, J. W. . ECR etching of III-V compound semiconductors in BCL3/Ar at low BCL3 flows. In: International Conference on Microelectronics and Packaging, 1999, Campinas. Proceedings of the ICMP 99, 1999. v. 1. p. 29-32.
-
TATSCH, P. J. ; LUJAN, G. S. ; DINIZ, J. A. ; SWART, J. W. . ECR plasma surface passivation for enhanced thermal stability of WNx/GaAs schottky contacts. In: International Conference on Microelectronics and Packaging - ICMP 99, 1999, Campinas, 1999. v. 1. p. 292-294.
-
TATSCH, P. J. ; SOTERO, A. P. F. M. ; DINIZ, F. A. ; SWART, J. W. . Silicon oxide grown by microwave plasma oxidation on Si substrates for MOS devices . In: Internaational conference on Microelectronics and Packaging - ICMP 99, 1999, Campinas, 1999. v. 1. p. 160-163.
-
TATSCH, P. J. ; DAMIANI, F. ; MANZOLI, J. . A non-linear algorithm for the design and production of digitally synthesized sounds. In: International Conference on Microelectronics and Packaging - ICMP 99, 1999, Campinas. Proceedings of the ICMP 99, 1999. p. 196-199.
-
TATSCH, P. J. ; DINIZ, J. A. ; LUJAN, G. S. ; SWART, J. W. . Silicon nitride deposited by ECR-CVD on GaAs substrates for surface passivation and MIS devices. In: International Conference on Microelectronics and Packaging - ICMP'98, 1998, Curitiba. Proceedings of XIII SBMICRO, 1998. v. 1. p. 185-189.
-
TATSCH, P. J. ; DINIZ, J. A. ; CARLI, E. ; SWART, J. W. . Silicon nitride deposition by electron cyclotron resonance plasma enhanced chemical vapor deposition for micromachining applications. In: Symposium on Micromachining and Microfabrication '98, 1998, California. Proceedings of the SPIE's 1998, 1998. v. 1. p. 20-22.
-
TATSCH, P. J. ; DINIZ, J. A. ; RAMOS, C. . Spectroscopic determinaation of elctron parameters in low-pressure high density ECR plasma in Ar/N2//SiH4 used for silicon nitride deposition. In: Fourteenth European Conf. on the atomic and moleculaaar physics of ionised gases, europhysics conference abastracts, 1998, Malahide, 1998. v. 22H.
-
TATSCH, P. J. ; DINIZ, J. A. ; PUDENZI, M. A. . SIMS analysis of silicon-oxinitride films formed by N2+ and NO+ implantation. In: 11th International Conference on secondary Ion Mass Spectrometry, 1997, Orlando. Proceedings of the 11th Intern. Conf. on Secondary Ion Mass Spectrometry, 1997. p. 186.
-
TATSCH, P. J. ; DINIZ, J. A. ; MOSHKALYOV, S. A. ; SWART, J. W. . Silicon nitride deposited by ECR-CVD at room temperature. In: XII Conference of the Brazilian Miroelectronics Society, 1997, Caxambu. Proceedings of XII SBMICRO, 1996. v. 1. p. 33-34.
-
TATSCH, P. J. ; DINIZ, J. A. ; PUDENZI, M. A. A. ; KRETLY, L. C. ; HERION, J. K. . Thin nitrided-oxide films formed by low-energy and medium dose nitrogen implantation. In: XI Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, 1996, Águas de Lindoia. Anais do XI SBMICRO, 1996. p. 402-407.
-
TATSCH, P. J. ; OLIVEIRA, C. ; SWART, J. W. . Remote plasma chemical vapor deposition of tungsten. In: XI Congresso da SBMICRO, 1996, Águas de Lindoia. Anais da XI SBMICRO, 1996. p. 415-418.
-
TATSCH, P. J. ; DINIZ, J. A. ; KRETLY, L. C. ; QUEIROZ, J. E. ; GODOY FILHO, J. . Formation of ultra-thin oxynitride films by low-energy nitrogen implantation. In: Materials Research Society 1995 Fall Meeting, 1995, Boston. Proceedings of the MRS Fall Meeting, 1995. v. 396.
-
TATSCH, P. J. ; MARIANI, W. C. ; OLIVEIRA, C. ; SWART, J. W. . Silicon oxide deposition by low frequency remote plasma CVD with SiH4 and O2 or N2O gas mixtures. In: X congresso da SBMICRO e I Ibero American Microelectronics Conference, 1995, Canela. Anais da X SBMICRO. p. 401-409.
-
TATSCH, P. J. ; DINIZ, J. A. ; KRETLY, L. C. ; QUEIROZ, J. E. ; GODOY FILHO, J. . Formation of thin silicon oxynitride layers by low-energy implantation. In: X Congresso da SBMICRO e I Ibero American Microlectronics Conference, 1995, Canela. Anais da X SBMICRO, 1995. p. 383-391.
-
TATSCH, P. J. ; HOSHIOKA, R. T. ; SWART, J. W. . Decapagem de fotorresiste por plasma de O2 e SF6 e sua aplicação no processo de fabricação de air bridge. In: IX Congresso Brasileiro de Microeletrônica, 1994, Rio de Janeiro. Anais do IX Congresso Brasileiro de Microeletrônica, 1994. p. 267-274.
-
TATSCH, P. J. ; RAMOS, A. C. ; SWART, J. W. ; SANTOS FILHO, J. S. G. ; RIBEIRO, E. ; PRINCE, F. C. . Design and characterization of an RIE equipment and its application in tungsten etching. In: VIII Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, 1993, Águas de Lindóia. Anais do VIII SBMICRO, 1993. p. 13-19.
-
TATSCH, P. J. ; GONÇALVES, J. L. ; CLERICE, J. H. . Purificação de indio de grau eletrônico a partir de soluções de InP, InGaAs e InGaAsP e sua reutilização em crescimento epitaxial. In: X Congresso Brasileiro de engenhaaaria e Ciência dos Materiais - CBCIMAT, 1992, Campinas. Anais do X CBCIMAT, 1992. p. 1073-1075.
-
TATSCH, P. J. ; DAMIANI, F. ; MARRANGUELLO, N. . Aspects of microcomputer use as an aid to engineering educaation. In: Intern. Symposium on Higher engineering education, 1990, hangshou. Proceedings of the Intern symposium on Higher engineering education. v. 1. p. 368-370.
-
TATSCH, P. J. ; DAMIANI, F. ; MAARRANGUELLO, N. . A software for computer aided engineering education. In: National educational computing conference, 1990, Nashville. Proceedings of the National Educational computing conference, 1990. v. 1. p. 62-64.
-
TATSCH, P. J. ; DAMIANI, F. ; MAARRANGUELLO, N. . IUSEE - an user-interactive software package for electronic engineering education. In: DECONIA'90, 1989, Nsukka. Proceedings of the Deconia'90, 1989. v. 1.
-
TATSCH, P. J. ; BARANAUSKAS, V. ; BRAGA, E. S. . On teaching integrated circuits technology. In: IEEE Latincon, 1984, México. Proceedings of the IEEE Latincon, 1984. v. 1.
-
TATSCH, P. J. ; BARANAUSKAS, V. ; BRAGA, E. S. ; REY, A. . Contribuição ao ensino da tecnologia de circuitos integrados na graduação. In: III simpósio Brasileiro de Microeletrônica, 1983, São Paulo. Anais do II Simpósio Brasileiro de Microeletrônica, 1983. p. 133-147.
-
TATSCH, P. J. ; REY, A. ; MAMMANA, C. I. Z. . Aplicação do laser na fabricação de circuitos integrados com silício. In: II Simpósio Brasileiro de Microeletrônica, 1982, São Paulo. Anais do II Simpósio Brasileiro de Microeletrônica, 1982. p. 47-49.
-
TATSCH, P. J. ; BARANAUSKAS, V. ; MAMMANA, C. I. Z. . Epitaxia de silício induzida por laser. In: I Simpósio Brasileira de Microeletrônica, 1981, São Paulo, 1981. p. 487-498.
Histórico profissional
Endereço profissional
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Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação, Departamento de Semicondutores Instrumentos e Fotônica. , Av. Albert Einstein, 400, Cidade Universitária, 13083970 - Campinas, SP - Brasil - Caixa-postal: 6101, Telefone: (19) 7883707, Fax: (19) 2891395, URL da Homepage:
Experiência profissional
1983 - Atual
Universidade Estadual de CampinasVínculo: Servidor público ou celetista, Enquadramento Funcional: Professor MS-4, Carga horária: 40
Atividades
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04/1997
Direção e administração, Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação, Departamento de Semicondutores Instrumentos e Fotônica.,Cargo ou função, Chefe de Departamento.
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03/1988
Ensino, Engenharia Elétrica, Nível: Pós-Graduação,Disciplinas ministradas, Dispositivos semicondutores, Dispositivos MOS I, T[opicos em Microeletrônica : medidas de caracterização para microeletr6onica, VHDL como ferramenta de projetos de circuitos, VHDL linguagem para modelamento de circuitos
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03/1976
Ensino,,Disciplinas ministradas, Laboratório de Tecnologia eletrônica, Tecnologia eletr6onica II, Laboraatóiro de engenhaaria elétrica I, Laboraatório de engenhaaria elétrica N2, Laboratório de Mateeriais elétricos, Circuitos elétricos I, Laboratório de eletromagnetismo, Laboratório de dispositivos eletrônicos, Laboratório de eletr6onica, Tecnologia eletr6onica I
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02/1976
Pesquisa e desenvolvimento , Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação, Departamento de Semicondutores Instrumentos e Fotônica.,Linhas de pesquisa
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