Luciano Kan Horiuchi
Possui graduação em Matématica pela Pontifícia Universidade Católica de Campinas (1992) e grau de técnico em Mecânica pelo Colégio Técnico da Unicamp - COTUCA. Atualmente trabalhando como consultor de telecomunicações em ênfase em tecnologia DWDM para CESAR.
Informações coletadas do Lattes em 11/03/2026
Acadêmico
Formação acadêmica
Mestrado em andamento em Engenharia Elétrica
2000 - Atual
Universidade Estadual de Campinas
Orientador:;
Curso técnico/profissionalizante em Técnico Em Mecânica
1985 - 1988
Idiomas
Inglês
Compreende Razoavelmente, Fala Razoavelmente, Lê Razoavelmente, Escreve Razoavelmente.
Espanhol
Compreende Razoavelmente, Fala Razoavelmente, Lê Razoavelmente, Escreve Razoavelmente.
Japonês
Compreende Razoavelmente, Fala Razoavelmente, Lê Razoavelmente, Escreve Razoavelmente.
Áreas de atuação
Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Probabilidade e Estatística / Subárea: Estatística/Especialidade: Análise de Dados.
Grande área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica / Subárea: Telecomunicações/Especialidade: Sistemas de Telecomunicações.
Produções bibliográficas
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HORIUCHI, L. K. . 4 x 2.5 Gb/s WDM Transmission using PDFFA over two fiber types : SMF and DSF. Ecoc, 2000.
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HORIUCHI, L. K. . Composition fluctuation on the growth of GaAlAs/GaAs and GaInAs/InP structures by AP-MOCVD. Journal of Applied Physics , 1990.
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HORIUCHI, L. K. . Effect of M.O. composition fluctuation on AP-MOVPE growth of GaAlAs/GaAs and GaInAs/InP structures. Journal of Applied Physics , 1990.
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HORIUCHI, L. K. . Growth and characterization of GaAlAs/GaAs and GaInAs/InP structures: the effects of a pulsed metalorganic flow. Journal Of Applied Physics Letter, 1990.
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HORIUCHI, L. K. . Type I type II heterostructure at In0.52 (Al1-xGax) 0.48 As/InP interfaces, 5th., Brazilian School on Semiconductor Physics. In: 5th., Brazilian School on Semiconductor Physics, 1990, Água de Lindóia, M.G. - Brazi, 1990.
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HORIUCHI, L. K. . MOVPE growth and characterization of GaAlAs/GaAs and GaInAs/InP using high and low vapor pressure Ga M.O. sources. In: 5th. Brazilian School on Semiconductor Physics, 1990, Água de Lindóia, M.G, 1990.
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HORIUCHI, L. K. . Crescimento de camadas (AlGa1-x) 0.47In0.53As (x-1) sobre InP pela técnica MOCVD. In: XIII Encontro Nacional de Física de Matéria Condensada, 1990, 1990.
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HORIUCHI, L. K. . Crescimento epitaxial InP:Fe semi-isolante por MOCVD. In: XIII Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada, 1990, 1990.
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HORIUCHI, L. K. . MOVPE reactor with flow mixer for sharp GaAs/GaAlAs interface with uniform layer thicknesses. In: Conference Epitaxial Growth, 1990, Hungary, 1990.
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HORIUCHI, L. K. . MOVPE Reactor with flow mixer for sharp GaAs/GaAlAs interfaces with uniform layer thicknesses. In: International on Epitaxial Crystal Growth, 1989.
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HORIUCHI, L. K. . Crescimento MOCVD e caracterização de camadas espessas de GaInAs sobre substrato de InP. In: 4a Escola Brasileira de Física de Semicondutores, 1989, 1989.
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HORIUCHI, L. K. . Otimização de um sistema MOCVD para crescimento de semicondutores com interfaces abruptas. In: X CBRAVIC-Congresso Brasileiro de Vácuo, 1989, 1989.
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HORIUCHI, L. K. . Intermixing of InXGa (1-X) As/GaAs strained layer quantum wells by Zn diffusiony. In: Conference on Superlattices Quantum Wells and MBE Technolog, 1989, 1989.
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HORIUCHI, L. K. . Effects of interface abruptness and Al composition in the barriers on optical properties of GaAs/AlXGa (1-X) As quantum well structures. In: Conference on Superlattices Quantum Wells and MBE Technology, 1989, 1989.
Histórico profissional
Endereço profissional
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Centro de Estudos e Sistemas Avançados do Recife, CESAR. , Rua Jasmim, 466, Apto 81A, Chacara Primavera, 13087460 - Campinas, SP - Brasil - Caixa-postal: 50030220, Telefone: (19) 9989815320, URL da Homepage:
Experiência profissional
1998 - 2001
Fundação Centro de Pesquisa e Desenvolvimento em Telecomunicações, CPqDVínculo: Servidor Público, Enquadramento Funcional: Analista de Sistemas, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações: - Caracterizei fibra óptica utilizando OTDR (ReflectômetroÓptico no Domínio do Tempo), PMD (Dispersão porPolarização de Modo) e CD (Dispersão Cromático) nolaboratório e em campo; - Participei da caracterização de receptor eletro-óptico (2.5,10 e 40Gbits/s na Fujitsu Compound, San Jose/EUA); - Desenvolvi sistema de supervisão óptico (C/DWDM)utilizando a ferramenta C++ / Delphi.
1996 - 1998
Fundação Centro de Pesquisa e Desenvolvimento em Telecomunicações, CPqDVínculo: Servidor Público, Enquadramento Funcional: Técnico de Laboratório, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações: - Participei e atuei na elaboração de edital do protocolo desinalização SS7; - Participei na implantação e teste do sistema de monitoraçãoSSX (supervisão de central telefônica) em campo elaboratório; - Participei e atuei no Help Desk (Hardware e Software) naequipe TMN; - Participei e atuei no desenvolvimento de software para telemedição
1993 - 1995
Fundação Centro de Pesquisa e Desenvolvimento em Telecomunicações, CPqDVínculo: Servidor Público, Enquadramento Funcional: Técnico de Laboratório, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações: - Organizei a preparação, confecção e análise do materialsemicondutor (grupo III-V da tabela periódica) utilizando atecnologia MOCVD (Metal Organic Chemical VaporDeposition);- Habilidade em operar o microscópio eletrônico para analisarmaterial semicondutor; - Habilidade em construir, operar e fazer manutenção dosistema MOCVD; - Habilidade em operar máquina de solda, torno, fresa, soldae furadeira.
1988 - 1988
Fundação Centro de Pesquisa e Desenvolvimento em Telecomunicações, CPqDVínculo: Bolsista, Enquadramento Funcional: Estágiário Técnico, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações: - Organizei a preparação, confecção e análise do materialsemicondutor (grupo III-V da tabela periódica) utilizando atecnologia MOCVD (Metal Organic Chemical VaporDeposition);- Habilidade em operar o microscópio eletrônico para analisarmaterial semicondutor; - Habilidade em construir, operar e fazer manutenção dosistema MOCVD; - Habilidade em operar máquina de solda, torno, fresa, soldae furadeira.
Atividades
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01/1995
Serviços técnicos especializados , Divisão de Sistemas Ópticos.Serviço realizado, medidas de caracterização de fibra óptica.
2018 - 2020
Padtec - Optical Components and SystemsVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Coordenador de Controle de Qualidade, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações:- Coordenei e suportei equipe de teste sistêmico, demontagem e de controle de qualidade; - Apliquei, avaliei e redefini processo para qualificar osprodutos produzidos; - Apliquei, avaliei e redefini processo para pré-configuração eteste pelo NOC.
2016 - 2018
Padtec - Optical Components and SystemsVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Especialista de Operação, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações:- Coordenei e suportei equipe de desenvolvimento e teste;- Implantei sistema DWDM/PTN em campo (instalação, testee aceitação);- Coordenei e suportei equipe de implantação de campo;- Coordenei e suportei equipe de viabilidade (qualificar eanalisar projetos DWDM);- Coordenei e suportei equipe de documentação;- Planejei, agendei e fiz logística da equipe de campo;- Apliquei, avaliei e redefini processo de melhoria contínuainterno/externo para aumento de produtividade na operação;- Coordenei e suportei equipe de VSAT PADTEC paratroubleshooting da VIVO;- Coordenei e suportei equipe do NOC PADTEC paratroubleshooting da Oi, Embratel, Sílica e Ufinet;
2013 - 2016
Padtec - Optical Components and SystemsVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Gerente de Operação, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações:- Coordenei e suportei equipe de desenvolvimento e teste;- Implantei sistema DWDM/PTN em campo (instalação, testee aceitação);- Coordenei e suportei equipe de implantação de campo;- Coordenei e suportei equipe de viabilidade (qualificar eanalisar projetos DWDM);- Coordenei e suportei equipe de documentação;- Planejei, agendei e fiz logística da equipe de campo;- Apliquei, avaliei e redefini processo de melhoria contínuainterno/externo para aumento de produtividade na operação;- Coordenei e suportei equipe de VSAT PADTEC paratroubleshooting da VIVO;- Coordenei e suportei equipe do NOC PADTEC paratroubleshooting da Oi, Embratel, Sílica e Ufinet;
2007 - 2013
Padtec - Optical Components and SystemsVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Técnico Especialista, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações:- Coordenei e suportei equipe de desenvolvimento e teste;- Implantei sistema DWDM/PTN em campo (instalação, testee aceitação);- Coordenei e suportei equipe de implantação de campo;- Coordenei e suportei equipe de viabilidade (qualificar eanalisar projetos DWDM);- Coordenei e suportei equipe de documentação;- Planejei, agendei e fiz logística da equipe de campo;- Apliquei, avaliei e redefini processo de melhoria contínuainterno/externo para aumento de produtividade na operação;- Coordenei e suportei equipe de VSAT PADTEC paratroubleshooting da VIVO;- Coordenei e suportei equipe do NOC PADTEC paratroubleshooting da Oi, Embratel, Sílica e Ufinet;
2004 - 2006
Padtec - Optical Components and SystemsVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Gerente de Implantação, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações:- Coordenei e suportei equipe de desenvolvimento e teste;- Implantei sistema DWDM/PTN em campo (instalação, testee aceitação);- Coordenei e suportei equipe de implantação de campo;- Coordenei e suportei equipe de viabilidade (qualificar eanalisar projetos DWDM);- Coordenei e suportei equipe de documentação;- Planejei, agendei e fiz logística da equipe de campo;- Apliquei, avaliei e redefini processo de melhoria contínuainterno/externo para aumento de produtividade na operação;- Coordenei e suportei equipe de VSAT PADTEC paratroubleshooting da VIVO;- Coordenei e suportei equipe do NOC PADTEC paratroubleshooting da Oi, Embratel, Sílica e Ufinet;
2001 - 2004
Padtec - Optical Components and SystemsVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Analista de Sistemas, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações: - Desenvolvi sistema de supervisão óptico (C/DWDM)utilizando a ferramenta C++ / Delphi.
2021 - 2023
Disys BrasilVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Analista de Telecom, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações:- Efetuar e validar teste de aceitação de equipamento DWDMda Nokia e da Padtec como terceirizado da Claro/Logicalis;- Criação/acompanhamento de SGIR (Registro De AtividadeNoturna) da Nokia/Padtec.
2024 - Atual
Centro de Estudos e Sistemas Avançados do RecifeVínculo: Bolsista, Enquadramento Funcional: Consultor, Carga horária: 30, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Suportar a equipe de desenvolvimento de software do CESAR com conhecimento de equipamentos DWDM da Padtec e redes ópticas
1989 - 1990
Fundação de Desenvolvimento da UNICAMPVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Técnico de Laboratório, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações:- Organizei a preparação, confecção e análise do materialsemicondutor (grupo III-V da tabela periódica) utilizando atecnologia MOCVD (Metal Organic Chemical VaporDeposition);- Habilidade em operar o microscópio eletrônico para analisarmaterial semicondutor;- Habilidade em construir, operar e fazer manutenção dosistema MOCVD;- Habilidade em operar máquina de solda, torno, fresa, soldae furadeira.
1991 - 1993
Fundação Tropical de Pesquisas e Tecnologia André ToselloVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Técnico de Laboratório, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações: - Organizei a preparação, confecção e análise do materialsemicondutor (grupo III-V da tabela periódica) utilizando atecnologia MOCVD (Metal Organic Chemical VaporDeposition);- Habilidade em operar o microscópio eletrônico para analisarmaterial semicondutor; - Habilidade em construir, operar e fazer manutenção dosistema MOCVD; - Habilidade em operar máquina de solda, torno, fresa, soldae furadeira.
1995 - 1996
NEC SAGAMIHARAVínculo: Bolsista, Enquadramento Funcional: Estagiário Técnico, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Realizações:- Capacitei, acompanhei e atuei no processo de fabricaçãoCMOS (Complementary MetalOxideSemiconductor);- Capacitei e atuei na operação do equipamento SEM(Scanning Electron Microscope).
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