Joao Carlos Gomes Cancio

Possui graduação em Bacharelado em Física pela Universidade Federal Fluminense(1983), especialização em Física pela Pontifícia Universidade Católica do Rio de Janeiro(1988) e mestrado em Electronique: Composants et Systemes pela Université Montpellier 2 Sciences et Techniques(2000). Tem experiência na área de Física, com ênfase em Física da Matéria Condensada. Atuando principalmente nos seguintes temas:microscopia de força eletrostática.

Informações coletadas do Lattes em 30/10/2024

Acadêmico

Formação acadêmica

Mestrado em Electronique: Composants et Systemes

1999 - 2000

Université Montpellier 2 Sciences et Techniques
Orientador: Paul Girard
Palavras-chave: microscopia de força eletrostática.Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada / Especialidade: Superfícies e Interfaces; Películas e Filamentos. Grande Área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada / Especialidade: Estruturas Eletrônicas e Propriedades Elétricas de Superfícies; Interf. e Partículas. Setores de atividade: Atividades profissionais, científicas e técnicas; Informação e comunicação; Eletricidade e gás.

Especialização em Física

1986 - 1988

Pontifícia Universidade Católica do Rio de Janeiro, PUC-Rio
Orientador: Luiz Carlos Scavarda do Carmo
Bolsista do(a): Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior.

Graduação em Bacharelado em Física

1977 - 1983

Universidade Federal Fluminense

Formação complementar

2005 - 2005

Characterization and Metrology for Wafer Process. (Carga horária: 8h). , AMERICAN VACUUM SOCIETY.

2005 - 2005

Plasma Etching and RIE,. (Carga horária: 8h). , AMERICAN VACUUM SOCIETY.

2005 - 2005

Thin and Ultra-thin Film Analysis. (Carga horária: 8h). , AMERICAN VACUUM SOCIETY.

2005 - 2005

Nucleation and Growth of Thin Films.. (Carga horária: 8h). , AMERICAN VACUUM SOCIETY.

2005 - 2005

X-Ray Photon-electron Spectroscopy-XPS. (Carga horária: 8h). , AMERICAN VACUUM SOCIETY.

2005 - 2005

Secondary Ion Mass Spectroscopy-SIMS. (Carga horária: 8h). , AMERICAN VACUUM SOCIETY.

2005 - 2005

Sputter Deposition.. (Carga horária: 8h). , AMERICAN VACUUM SOCIETY.

2005 - 2005

Reactive Sputtering and Deposition. (Carga horária: 8h). , AMERICAN VACUUM SOCIETY.

2004 - 2004

Production and Application of Protective Coatings. (Carga horária: 40h). , Fraunhofer Gesellschaft.

2004 - 2004

Characterization of Thin Films. (Carga horária: 40h). , Fraunhofer Gesellschaft.

2004 - 2004

Difração de raios-X. (Carga horária: 40h). , Empresa Bruker Corporation.

2004 - 2004

Refletividade de raios - X. (Carga horária: 40h). , Empresa Bruker Corporation.

1999 - 1999

Magnetische Schichtsysteme-Magnetic ML-Systems. (Carga horária: 80h). , Institut für Festkörper Forschung.

1998 - 1998

Stresses and Thin Films for the Microelectronics. (Carga horária: 40h). , Massachusetts Institute of Technology.

1998 - 1998

Physik der Nanostrukturen -Phys. of Nanostructures. (Carga horária: 80h). , Institut für Festkörper Forschung.

Idiomas

Inglês

Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.

Espanhol

Compreende Razoavelmente, Fala Razoavelmente, Lê Razoavelmente, Escreve Razoavelmente.

Italiano

Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Razoavelmente.

Francês

Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.

Alemão

Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.

Áreas de atuação

Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada.

Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada/Especialidade: Superfícies e Interfaces; Películas e Filamentos.

Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada/Especialidade: Estruturas Eletrônicas e Propriedades Elétricas de Superfícies; Interf. e Partículas.

Grande área: Engenharias / Área: Engenharia de Materiais e Metalúrgica / Subárea: Metalurgia de Transformação/Especialidade: Recobrimentos.

Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada/Especialidade: Propriedades Mecânicas e Acústicas da Matéria Condensada.

Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Geociências / Subárea: Geofísica/Especialidade: Geofísica Aplicada.

Participação em eventos

International Congress on Metallurgical Coatings and Thin Films - ICMCTF. Interface Smoothening In Multilayers Deposited by Reactive Unbalanced Magnetron Sputtering.. 2005. (Congresso).

Produções bibliográficas

CANCIO, J. C. G. . Sputtering as a technique for Thin Film Deposition. 2007. (Apresentação de Trabalho/Conferência ou palestra).
CANCIO, J. C. G. . Stresses in Thin Films. 1998. (Apresentação de Trabalho/Seminário).

Prêmios

2004

Gratificação por Desenvolvimento de Tecnicas Analíticas - Capacitação Laboratorial, EMPA.

Histórico profissional

Experiência profissional

2007 - 2010

Università degli Studi di Modena e Reggio Emilia

Vínculo: Pesquisador Bolsista, Enquadramento Funcional: COLABORAÇÃO CIENTIFICA, Regime: Dedicação exclusiva.

Outras informações:
Bolsista de Colaboração Centífica no Laboratorio de Filmes Finos - Depto de Física Desenvolvimento de Processos de Deposição de Filmes Nitretos de Metais de Transição e Multicamadas de Sistemas de Compostos Ternarios usando Magnetron Sputtering Reativo, Modos DC e RF Cartas de referencia disponiveis.

2002 - 2005

Swiss Federal Laboratories for Materials Testing and Research

Vínculo: Bolsista, Enquadramento Funcional: Trabalho de Doutorado EMPA-EPFL, Regime: Dedicação exclusiva.

Outras informações:
Departamento de Nanociencia e Magnetismo - Desenvolvimento de Revestimentos Duros - Multicamadas de Sistemas Nanoestruturados. Desenvolvimento de metotologias para cararcterização de Filmes Nanoestruturados: Refletividade de raios - X e Ondas Acústicas Superfciais

2000 - 2000

Platit AG

Vínculo: Empregado, Enquadramento Funcional: Físico, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.

Outras informações:
Platit AG Linha de produção de revestimentos "duros" empregados no tratamento e beneficiamento de utensilios de corte e aplicações tribológicas. Otimização de processos de deposição por Sputtering e Arco Catódico de monofilmes e multicamadas de materiais duros e lubrificantes sólidos.

1996 - 1999

Centro Brasileiro de Pesquisas Físicas

Vínculo: Bolsita DTI, Enquadramento Funcional: Técnico, CBPF-PCI, Regime: Dedicação exclusiva.

Outras informações:
Programa de Capacitação Institucional, Grupo de Filmes Finos, Pesquisadora Responsável: Elisa Baggio Saitovitch

1989 - 1990

Microeletronica

Vínculo: Funcionário, Enquadramento Funcional: Técnico - Linha de Metalização, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.

Outras informações:
Multitel Microeletronica SA Supervisor na linha de produção de dispositivos hybridos para aplicações em microondas. Caracterização do sistema de deposição SPUTRON II na Firma Balzers no Principado de Liechtenstein. Instalação e Startup na Linha de Produção. Processos de metalização por sputtering em modo reativo de filmes com TCR controlados.Tecnicas de pós-processamento para delineamento de estruturas em ambiente de sala limpa - processos a plasma e por via úmida: eletrodeposição, fotolitografia e etching. Controle de resistividade.

1988 - 1989

Mettler Instrumente AG

Vínculo: Estagiário, Enquadramento Funcional: Linha de Produção, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.

Outras informações:
Mettler Instrumente AG Tecnologias de vácuo e de deposição de filmes finos. Processos de deposição a plasma PVD e CVD empregados na produção de sensores do tipo Strain Gauges . Operação de sistemas de deposição por sputtering e reatores PECVD. Processamento e estruturação de mono e multicamadas empregando tecnicas a plasma e por via umida, técnicas de microlitografia em ambientes de sala limpa. Caracterização e otimização de parâmetros de processos de deposição para a fabricação de sensores baseados em filmes finos.