Celso Renato Peter
Engenheiro eletrônico, especializado em microeletrônica, com 35 anos de experiência na indústria e instituições de pesquisa, onde ocupou cargos de engenheiro de desenvolvimento até a gerência, posição em que vem atuando nos últimos 20 anos. Atualmente atua como Coordenador do Instituto de Semicondutores da Universidade do Vale do Rio dos Sinos ? Unisinos. Trabalhou por 13 anos na SID Microeletrônica no desenvolvimento de produtos e processos de fabricação de circuitos integrados e por 5 anos na Implantação do CEITEC (fábrica de chips) em Porto Alegre ? RS. Especialista em processos de fabricação de semicondutores (front end e back end), tecnologia de salas limpas, microfabricação, sensores, processos de manufatura de produtos eletrônicos, qualidade, confiabilidade, transferência de tecnologia e gerenciamento de projetos.
Informações coletadas do Lattes em 07/01/2026
Acadêmico
Formação acadêmica
Formação complementar
1997 - 1997
MBA em Gestão da Qualidade Total. (Carga Horária: 396h). , Fundação Getúlio Vargas, FGV, Brasil.
Idiomas
Inglês
Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.
Francês
Compreende Razoavelmente, Fala Razoavelmente, Lê Razoavelmente, Escreve Razoavelmente.
Alemão
Compreende Razoavelmente, Fala Razoavelmente, Lê Razoavelmente, Escreve Razoavelmente.
Áreas de atuação
Grande área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica.
Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física.
Participação em eventos
Chip on the Island. Chip on the Island. 2005. (Congresso).
X SBMicro. X Congresso Brasileiro de Microeletrônica. 1995. (Congresso).
III Brazilian Microelectronics School.III Brazilian Microelectronics School. 1994. (Simpósio).
Workshop on Ion Implantation.Workshop on Ion Implantation. 1993. (Oficina).
II Brazilian Microelectronics School.II Brazilian Microelectronics School. 1992. (Simpósio).
VII SBMicro. VII Congresso Brasileiro de Microeletrônica. 1992. (Congresso).
I Brazilian Microelectronics School.I Brazilian Microelectronics School. 1990. (Simpósio).
V SBmicro. V Congresso Brasileiro de Microeletrônica. 1990. (Congresso).
IV SBMicro. IV Congresso Brasileiro de Microeletrônica. 1989. (Congresso).
PVD-89.PVD-89 Métodos Físicos de Deposição de Filmes Finos. 1989. (Oficina).
III SBmicro. III Congresso Brasileiro de Microeletrônica. 1988. (Congresso).
II SBmicro. II Congresso Brasileiro de Microeletrônica. 1987. (Congresso).
V SBC. V Congresso da Sociedade Brasileira de Computação. 1985. (Congresso).
Produções bibliográficas
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WREGE, RODRIGO ; PETER, CELSO ; WESLING, BRUNO N. ; RAMBO, CARLOS R. ; SCHNEIDER, MARCIO CHEREM ; GALUP-MONTORO, CARLOS . A CMOS test chip with simple post-processing steps for dry characterization of ISFET arrays. IEEE SENSORS JOURNAL , v. 21, p. 1-1, 2020.
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FERNANDES, IARA J. ; AROCHE, ANGÉLICA F. ; SCHUCK, ARIADNA ; LAMBERTY, PAOLA ; PETER, CELSO R. ; HASENKAMP, WILLYAN ; ROCHA, TATIANA L. A. C. . Silver nanoparticle conductive inks: synthesis, characterization, and fabrication of inkjet-printed flexible electrodes. Scientific Reports , v. 10, p. 10,8878, 2020.
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PETER, C. R. ; SOUZA, J. P. . Prolonged and Rapid Thermal Annealing of Boron Implanted Silicon. Journal of Applied Physics, v. 5, n.64, p. 2696-2699, 1988.
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PETER, C. R. ; VILELA, J. M. C. . Atomic Force Microscopy of Metallurgical Interactions in Integrated Circuits Contacts. In: Second International Conference on Physics and Industrial Development, 1996, Belo Horizonte. Anais do Second International Conference on Physics and Industrial Development, 1996.
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PETER, C. R. ; VILELA, J. M. C. . In Situ Observations by Atomic Force Microscopy of Corrosin of an Alluminum Film in a Solution of HCl. In: Second International Conference on Physics and Industrial Development, 1996, Belo Horizonte. Anais do Second International Conference on Physics and Industrial Development, 1996.
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PETER, C. R. . Siloxane Spin-on Glass for Interlayer Dielectric Planarization. In: X Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, 1995, Canela. Anais do X SBMicro, 1995.
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PETER, C. R. ; VILELA, J. M. C. . Microscopia de Força Atômica Aplicada a Avaliação de Metalização de Circuitos Integrados. In: Micromat 94, 1994, São Paulo. Anais do Micromat 94, 1994.
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PETER, C. R. . Metalização com Al-1%Si em Processos de Fabricação de Circuitos Integrados. In: Congresso da Sociedade Brasileira de Materiais, 1993, Rio de Janeiro. Anais do 48 Congresso da ABM, 1993.
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PETER, C. R. ; PAAVOLA, C. I. . Modelamento do Crescimento e Decrescimento de Falhas de Empilhamento para Otimização de Oxidações. In: IV Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, 1989, Porto Alegre. Anais do IV SBMicro, 1989.
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PETER, C. R. ; SOUZA, J. P. . Recozimento de Silício Implantado com Boro por Oxidações com HCl e Processo Isotérmico Rápido. In: III Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, 1988, São Paulo. Anais do III SBMicro, 1988.
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PETER, C. R. ; SOUZA, J. P. . Recozimento de Defeitos de Silício Implantado com Boro por Porcesso Isotérmico Lento e Rápido. In: II Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica, 1987, São Paulo. Anais do II Congresso da SBmicro, 1987.
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PETER, C. R. . Sistema de Pulverização Catódica para Deposição de Filmes Finos de Dióxido se Silício. In: V Congresso da Sociedade Brasileira de Computação, 1985, Porto Alegre. Anais do V Congresso da SBC, 1985.
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COLLING, F. A ; PETER, C. R. ; PETER, C. R. . Numerical Evaluation of Warpage in PoP Encapsulated Semiconductors. In: 30th Symposium on Microelectronics Technology and Devices, KMEPS 2015, 2015, Seul. 30th Symposium on Microelectronics Technology and Devices,2015, 2015. v. 1. p. 31-31.
Histórico profissional
Endereço profissional
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Universidade do Vale do Rio dos Sinos, itt Chip - Instituto Tecnológico de Semicondutores. , Avenida Unisinos,950 predio F04, Cristo Rei, 93022750 - São Leopoldo, RS - Brasil, Telefone: (51) 30267243
Experiência profissional
2010 - Atual
Universidade do Vale do Rio dos SinosVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Coordenador do Instituto de semicondutores, Carga horária: 40
Atividades
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01/2010
Pesquisa e desenvolvimento, Centro de Ciências Exatas e Tecnológicas.,Linhas de pesquisa
2005 - 2009
Centro Nacional de Tecnologia Eletrônica AvançadaVínculo: Servidor Público, Enquadramento Funcional: Gerente da Fábrica de Wafers, Carga horária: 40
Atividades
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01/2005
Serviços técnicos especializados , Wafer Fab.,Serviço realizado, Planejamento e implantação de fábrica de semicondutores - Wafer Fab.
2003 - 2013
Micromos Engenharia SS LtdaVínculo: sócio-gerente, Enquadramento Funcional: sócio-gerente
Atividades
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01/2003
Conselhos, Comissões e Consultoria, Gerência.,Cargo ou função, Sócio gerente.
2004 - 2005
Nansen S.A. Instrumentos de MediçãoVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Consultor, Carga horária: 40
Outras informações:
Consultoria para o desenvolvimento de novos fornecedores e novos produtos, desenvolvimento de medidores de energia elétrica eletrônicos e melhorias nos medidores eletromecânicos para atendimento das normas IEC.
Atividades
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06/2004 - 07/2005
Pesquisa e desenvolvimento.,Linhas de pesquisa
2001 - 2003
Johnson Controls Automotive ElectronicsVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Gerente de Engenharia de Desenvolvimento, Carga horária: 44
Outras informações:
Gerencimanto de uma equipe de 20 engenheiros no desenvolvimento de módulos eletrônicos, sensores e eletroválvulas para a industria automotiva.
Atividades
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08/2001 - 08/2003
Direção e administração, .,Cargo ou função, Gerente de Engenharia de Desenvolvimento.
1999 - 2001
Lear do Brasil LtdaVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Gerente da Qualidade/Engenhria de Processo, Carga horária: 44, Regime: Dedicação exclusiva.
Atividades
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11/1999 - 07/2001
Direção e administração, .,Cargo ou função, Gerente da Qualidade e Engenharia de Processo.
1987 - 1999
Sid Microeletronica S/AVínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Engenheiro de Desenvolvimento/Coordenador, Carga horária: 44
Outras informações:
Atuação no desenvolvimento de processos de fabricação de circuitos integrados, bipolares, CMOS e I2L. Desenvolvimento de novos produtos, principalmente ASICs (Application Specific Integrated Circuits). Implantação de linha SMT para fabricação de módulos de memória DRAM. Implantação de Sistema da Qualidade. Coordenação de equipes de engenharia.
Atividades
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01/1987 - 07/1999
Pesquisa e desenvolvimento.,Linhas de pesquisa
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