Ronaldo Ruas

Possui graduação em Materiais Processos e Componentes Eletrônicos pela Universidade Estadual Paulista Júlio de Mesquita Filho (1998). Mestrado em Engenharia Elétrica pela Universidade de São Paulo (2001). Doutorado em Engenharia Elétrica pela Universidade de São Paulo (2006). Atualmente colabora como pesquisador convidado no laboratório de sistemas integráveis (LSI ), na área de plasmas e novos materiais pela Escola Politécnica da Universidade de São Paulo. Ministra disciplinas nas áreas de eletrônica, Microprocessadores e Eletricidade Aplicada na Faculdade de Tecnologia de Osasco, onde é coordenador do curso Superior Tecnologia de Automação Industrial.

Informações coletadas do Lattes em 16/12/2025

Acadêmico

Formação acadêmica

Doutorado em Engenharia Elétrica

2001 - 2006

Universidade de São Paulo
Título: Mecânismos induzidos em processo de corrosão por plasma
Orientador: Patrick Bernard Verdonk
Palavras-chave: Plasma; Corrosão por Plasma.Grande área: EngenhariasGrande Área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica / Subárea: Sistemas digitais. Grande Área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica / Subárea: Microeletrônica / Especialidade: Deposição de Filmes Finos.

Mestrado em Engenharia Elétrica

1999 - 2001

Universidade de São Paulo
Título: Influência do material de eletrodo em processos de corrosão por plasma, Ano de Obtenção: 2001
Orientador: Patrick Bernard Verdonck
Bolsista do(a): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo, FAPESP, Brasil. Palavras-chave: Plasma.Setores de atividade: Outros.

Graduação em Materiais Processos e Componentes Elêtronicos

1995 - 1998

Universidade Estadual Paulista Júlio de Mesquita Filho
Título: Processamento Computacional de interferogramas
Orientador: Eduardo Acedo Barbosa

Formação complementar

2023 -

MBA em Executivo em Gestão Estratégica e Ecônomica de Negócios. , Fundação Getulio Vargas - Matriz, FGV/SP UNIC, Brasil.

2021 - 2021

Smart Manufacturing:Moving form static to dynamic Manufacturing operations. (Carga horária: 80h). , Massachusetts Institute of Technology, MIT, Estados Unidos.

2002 - 2002

Descargas Elétricas. , Instituto Tecnológico de Aeronáutica, ITA, Brasil.

Idiomas

Inglês

Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.

Espanhol

Compreende Pouco, Fala Pouco, Lê Razoavelmente, Escreve Pouco.

Participação em bancas

Aluno: Guilherme Bellini de Souza

SECKLER, M. M.; TSCHIPTSCHIN, A. P.;Ruas, R.. Estudo do comportamento tribológico e frente à corrosão em revestimentos PVD de (TiCr)CN e TiCN para aplicações decorativas. 2022. Dissertação (Mestrado em Engenharia Química) - Universidade de São Paulo.

Aluno: SÉRGIO BIMBI JUNIOR

FLEURY, A. T.; ALMEIDA, R. Z. H.;RUAS, Ronaldo. Redução de distorção em filtros FIR por aproximação através de fator de janela em coeficientes de funções. 2018. Dissertação (Mestrado em Mestrado em Processos Industriais) - Instituto de Pesquisas Tecnológicas do Estado de São Paulo.

Aluno: MAURÍCIO ISOLDI

ZAMBON, L. S.; MANSANO, R. D.;RUAS, Ronaldo. Construção de uma tocha indutiva para obtenção de plasma térmico a pressão atmosférica. 2012. Dissertação (Mestrado em Mestrado em Ciências - Engenharia Elétrica) - Universidade de São Paulo.

Aluno: Guilherme Bellini de Souza

TSCHIPTSCHIN, A.; PINEDO, D. C.;Ruas, R.. Estudo do comportamento tribológico e frente à corrosão em revestimentos PVD de (TiCr)CN e TiCN para aplicações decorativas. 2021. Exame de qualificação (Mestrando em Mestrado em Engenharia Química) - Universidade de São Paulo.

Aluno: Sergio Bimbi Junior

FLEURY, A. T.; ALMEIDA, R. Z. H.;Ruas, R.. Redução de distorção em filtros FIR por aproximação através de fator de janela em coeficientes de funções. 2017. Exame de qualificação (Mestrando em Mestrado em Processos Industriais) - Instituto de Pesquisas Tecnológicas do Estado de São Paulo.

Aluno: TÂNIA MARA DOS SANTOS RIBEIRO

ZAMBOM, L. S.;MANSANO, Ronaldo DominguesRUAS, Ronaldo. Deposição de filmes duros de CrN. 2007. Trabalho de Conclusão de Curso (Graduação em Materiais , Processos e Componentes Eletrônicos) - Faculdade de Tecnologia de São Paulo.

Produções bibliográficas

ARRUDA, Antonio Carlos Santos de ; MANSANO, R. D. ; ORDONEZ, Nelson ; RUAS, Ronaldo ; DURRANT, STEVEN FREDERICK . Ag Behavior on TiN Thin Films for Decorative Coatings. Coatings , v. 14, p. 322, 2024.
BIMBI JUNIOR, SERGIO ; DE TOLEDO FLEURY, AGENOR ; RUAS, Ronaldo ; CHAVES DE OLIVEIRA, VITOR . Application of Distortion Reduction in FIR Filters in Dynamic Systems through Computational Methods. SET INTERNATIONAL JOURNAL OF BROADCAST ENGINEERING , v. 2, p. 5-8, 2016.
BIMBI JUNIOR, SERGIO ; DE TOLEDO FLEURY, AGENOR ; RUAS, Ronaldo ; CHAVES DE OLIVEIRA, VITOR . Distortion Reduction in FIR Filters by Approximation through Window Factor on Function Coefficients. SET INTERNATIONAL JOURNAL OF BROADCAST ENGINEERING , v. 2, p. 13-22, 2016.
Costa, M.Y.P. ; Venditti, M.L.R. ; Cioffi, M.O.H. ; Voorwald, H.J.C. ; GuimarÃ£es, V.A. ; RUAS, Ronaldo . Fatigue behavior of PVD coated Tiâ¿"6Alâ¿"4V alloy. International Journal of Fatigue , v. 33, p. 759-765, 2011.
MANSANO, Ronaldo Domingues ; RUAS, Ronaldo ; MOUSINHO, A. P. ; ZAMBON, L. S. ; JESUS, Terezinha de ; Garcia-Amoedo, L.H. ; Massi, M. . Use of diamond-like carbon with tungsten (W-DLC) films as biocompatible material. Surface and Coatings Technology , v. 202, p. 2813-2816, 2008.
MANSANO, R. D. ; RUAS, Ronaldo ; MOUSINHO, A. P. ; ZAMBOM, L. S. ; PINTO, T. J. A. ; AMOEDO, L. H. G. ; MASSI, M. . Use of diamond-like carbon with tungsten (W-DLC) films as biocompatible material. Surface & Coatings Technology , v. 202, p. 2813-2816, 2008.
Moreira, Adir José ; MANSANO, Ronaldo Domingues ; JESUS, Terezinha de ; RUAS, Ronaldo ; ZAMBON, L. S. ; Silva, Monica Valero da ; VERDONCK, P. B. . Sterilization by oxygen plasma. Applied Surface Science , v. 235, p. 151-155, 2004.
VERDONCK, P. B. ; MELENDEZ, H. V. ; RUAS, Ronaldo ; AOKI, I. V. . Characterization by Coulometric Reduction of Surface Chemical Components Formed on Copper in Fluorine-Containing Plasmas. Electrochemical and Solid-State Letters , v. 6, p. 55-58, 2003.
MANSANO, Ronaldo Domingues ; RUAS, Ronaldo ; MOUSINHO, A. P. ; ARRUDA, A. C. S. ; VERDONCK, P. B. . Characterization of reactive sputtering deposition processes of amorphous hydrogenated carbon. Czechoslovak Journal of Physics , v. 52, p. A1-A6, 2002.
RUAS, Ronaldo ; VERDONCK, P. B. ; MANSANO, Ronaldo Domingues . Characterization of the influence of electrode material on capacitively coupled plasmas. Czechoslovak Journal of Physics , v. 52, p. A465-A475, 2002.
ZAMBON, L. S. ; MANSANO, Ronaldo Domingues ; MOUSINHO, A. P. ; RUAS, Ronaldo ; Gonçalves Neto, Luiz . Filme fino de oxinitreto de silício utilizado como camada protetora anti-risco para policarbonato. In: 59th Annual International Congresso da Associação Brasileira de Materiais, 2004, São Paulo. 59th Annual International Congresso da Associação Brasileira de Materiais, 2004. p. 4144-4151.
MANSANO, Ronaldo Domingues ; RUAS, Ronaldo ; MOUSINHO, A. P. ; ORDONEZ, N. . Estudo da deposição de filmes de carbeto de tungstênio hidrogenado(WC:H) por sputtering reativo. In: 59th Annual International Congresso da Associação Brasileira de Materiais, 2004, São Paulo. 59th Annual International Congresso da Associação Brasileira de Materiais, 2004. p. 340-348.
RUAS, Ronaldo ; MANSANO, Ronaldo Domingues ; MOUSINHO, A. P. ; ZAMBON, L. S. ; Massi, M. . Diamond-like Carbon films contained metals for metallic orthopedics implants application. In: IVC-16 (16th International Vacuum congress)/ ICSS-12 (12th International Conference on Surface Science)/ Nano-8 (8th International Conference on nanometer-Scale Science and Technology)/ AIV-17 (17th Vacuum Italian Symposium), 2004. IVC-16 (16th International Vacuum congress)/ ICSS-12 (12th International Conference on Surface Science)/ Nano-8 (8th International Conference on nanometer-Scale Science and Technology)/ AIV-17 (17th Vacuum Italian Symposium), 2004. p. 641.
Moreira, Adir José ; MANSANO, Ronaldo Domingues ; JESUS, Terezinha de ; RUAS, Ronaldo ; ZAMBON, L. S. ; SILVA, M. V. ; VERDONCK, P. B. . Sterilization by oxygen plasma. In: European Vacuum Congress 2003, 2003, Berlin. European Vacuum Congress 2003, 2003.
ARRUDA, A. C. S. ; CIRINO, G. A. ; MANSANO, Ronaldo Domingues ; VERDONCK, P. B. ; RUAS, Ronaldo . Low-cost polymeric microlenses array fabricated by silicon wet-etch micromachining and polymer spin casting. In: X Congresso Brasileiro de Microondas e Optoeletrônica,X Congresso Brasileiro de Microondas e Optoeletrônica,, 2002. X Congresso Brasileiro de Microondas e Optoeletrônica,, 2002. p. 400-402.
ARRUDA, A. C. S. ; MANSANO, Ronaldo Domingues ; RUAS, Ronaldo ; MOUSINHO, A. P. . Study of UV curing treatment in polymers for application in integrated optics. In: 4th International Conference on low dimensional structures and devices, 2002. 4th International Conference on low dimensional structures and devices, 2002.
RUAS, Ronaldo ; VERDONCK, P. B. ; MANSANO, Ronaldo Domingues . Characterization of the influence of electrode material on capacitively coupled plasmas. In: 20th Symposium on plasma physics and technology, 2002, Praga. 20th Symposium on plasma physics and technology, 2002.
MANSANO, Ronaldo Domingues ; RUAS, Ronaldo ; MOUSINHO, A. P. . PVD deposition of hard chromium nitride. In: 13th International Conference on Solid Films and Surfaces, 2006, San Carlos de Bariloche. PVD deposition of hard chromium nitride, 2006.
Costa, M. Y. P. ; Venditti, M L. R. ; Cioffi, M.O. H ; Voorwald, H. J. C ; Guimarães, V. A ; RUAS, Ronaldo . Fatigue behavior of PVD coated Ti-6Al-4V alloy. Surface & Coatings Technology , 2010.

Outras produções

RUAS, Ronaldo . Characterization of the Influence of Electrode Material on Capacitively Coupled Plasmas. 2002.

RUAS, Ronaldo . Microondas e Optoeletrônica: Evolução, Tendências e Perspectivas. 2002.

RUAS, Ronaldo . Characterization of Reactive Sputtering Deposition Processes of Amorphous Hydrogenated Carbon. 2002.

RUAS, Ronaldo . Otimização de Etapas de Revelação por Plasma Utilizadas em Processamento de Polímeros. 2001.

RUAS, Ronaldo . The Influence of Electrode Material on Argon Plasmas. 2001.

RUAS, Ronaldo . Optimization of Thermal Process Employed in Polymer Micromachines and Microlithography. 2001.

RUAS, Ronaldo . The Influence of Annealing Thermal in Polymers Employed in Microeletronics. 2001.

RUAS, Ronaldo . The Effects of Electrode Materials on Etching Mechanisms. 2001.

RUAS, Ronaldo . Consumo de Enxofre pelo Material de Eletrodo.. 2001.

RUAS, Ronaldo . Study of the Electrode Material Influence in Plasma Ptch Process of Silicon. 2000.

RUAS, Ronaldo . Oxygen plasma etching of PMMA. 2000.

RUAS, Ronaldo . Análise da Influência do Material de Eletrodo com Espectrometria de Emissão e Sondas Eletrostáticas. 2000.

RUAS, Ronaldo . Processamento Computacional de Interferogramas. 1999.

Projetos de pesquisa

2001 - Atual

Esterilização de materiais por Plasma, Descrição: Este projeto busca viabilizar o processo de esterilização por plasma de instrumentos cirurgicos , de forma a melhorar a eficiência de esterilização em relação oas métodos atuais.Até o momento é possivel verificar que há uma grande eficácia neste método apresentando bons resultados.. , Situação: Em andamento; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Graduação: (0) / Especialização: (0) / Mestrado acadêmico: (0) / Mestrado profissional: (0) / Doutorado: (3) . , Integrantes: Ronaldo Ruas - Integrante / Ronaldo Domingues Mansano - Coordenador / Terezinha de Jesus - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Auxílio financeiro., Número de produções C, T & A: 2

Histórico profissional

Endereço profissional

Dexco SA. , Rua Francisco Luís de Souza Júnior - até 193/194, Água Branca, 05037000 - São Paulo, SP - Brasil, Telefone: (11) 36039910, URL da Homepage:

Experiência profissional

2022 - Atual

DEXCO SA

Vínculo: Contrato de trabalho, Enquadramento Funcional: Coordenador Engenharia Industrial, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.

2020 - 2021

Ionbond - IHI Group

Vínculo: Contrato de Trabalho, Enquadramento Funcional: Plant Manager, Carga horária: 44

2014 - 2020

Duratex - Matriz

Vínculo: Contrato de Trabalho, Enquadramento Funcional: Cordenador Eng. Fábrica, Carga horária: 40

2007 - 2013

Bodycote Brasimet Processamento Térmico - Matriz

Vínculo: Celetista formal, Enquadramento Funcional: Especialista em Processo, Carga horária: 40

2010 - 2018

Faculdade de Tecnologia de Osasco

Vínculo: Servidor Público, Enquadramento Funcional: Professor Associado, Carga horária: 12

2002 - 2007

Brasimet

Vínculo: Colaborador, Enquadramento Funcional: Especialista em Processos, Carga horária: 40

Atividades

10/2002 - 02/2006
Pesquisa e desenvolvimento, Brasimet.Linhas de pesquisa

1999 - Atual

Universidade de São Paulo

Vínculo: Professor Visitante, Enquadramento Funcional: Outro, Carga horária: 8

Atividades

02/1999
Pesquisa e desenvolvimento, Escola Politécnica, Laboratório de Sistemas Integráveis.Linhas de pesquisa

2001 - 2008

Centro Universitário Fieo

Vínculo: Professor, Enquadramento Funcional: Professor, Carga horária: 18

Atividades

02/2007
Ensino, Engenharia da Computação, Nível: GraduaçãoDisciplinas ministradas, Arquitetura de Computadores, Eletricidade Básica, Sistemas Digitais, Laboratório de Microprocessadores

2002 - 2002

faculdade de tecnologia de sao paulo

Vínculo: Professor Visitante, Enquadramento Funcional: Professor, Carga horária: 4

Atividades

08/2002 - 12/2002
Ensino, Materiais , Processos e Componentes Eletrônicos, Nível: GraduaçãoDisciplinas ministradas, Etapas de Processos II, Etapas de Processo I