Cícero Luiz Alves Cunha

Formação complementar

Áreas de atuação

Participação em eventos

Produções bibliográficas

• CUNHA, CÍCERO L. A. ; PIMENTA, TALES C. ; FRAGA, MARIANA A. . Growth and properties of sputtered highly (100)-oriented oxygenated AlN thin films for SAW sensing applications. MICROSYSTEM TECHNOLOGIES-MICRO-AND NANOSYSTEMS-INFORMATION STORAGE AND PROCESSING SYSTEMS , v. 27, p. 1-7, 2021.

• BOUZEKOVA-PENKOVA, A. ; GRIGOROV, K. ; DATCHEVA, M. ; Cícero Alves Cunha . Influence of the Outer Space on Nanohardness Properties of Al‑based Alloy. COMPTES RENDUS DE L ACADEMIE BULGARE DES SCIENCES , v. 69, p. 1351-1354, 2016.

• Grigorov, K.G. ; Oliveira, I.C. ; Maciel, H.S. ; MASSI, M. ; Oliveira, Jr., M.S. ; Amorim, J. ; Cunha, C.A. . Optical and morphological properties of N-doped TiO2 thin films. Surface Science , v. 605, p. 775-782, 2011.

• SISMANOGLU, B.N. ; CUNHA, C.L.A. ; GOMES, M.P. ; Grigorov, K.G. ; CAETANO, R. . Optical and electrical diagnostics of microdischarges at moderate to high pressure in argon. Brazilian Journal of Physics (Impresso) , v. 40, p. 459-463, 2010.

• CUNHA, C.L.A. ; PIMENTA, TALES C. ; FRAGA, MARIANA A. . Development and Applications of Aluminum Nitride Thin Film Technology. In: Dongfang Yang. (Org.). Thin Film Deposition - Fundamentals, Processes, and Applications. 1ed.London: IntechOpen, 2022, v. 1, p. 1-1.

• BALACHOV, S. M. ; PEREIRA, I. A. ; CUNHA, C. L. A. ; ZUBEN, E. F. Z. A. V. ; ROCHA, J. M. . Zero stress and mass loading packages for SAW based lab-on-chips. In: SEMINATEC 2024 - XVIII Workshop on Semiconductors and Micro & Nano Technology, 2024, São Paulo. Proceedings of XVIII SEMINATEC 2024. São Paulo: Escola Politécnica - Universidade de São Paulo, 2024. p. 93-94.

• WAKAVAIACHI, S. M. ; MACIEL, Homero Santiago ; PESSOA, R. S. ; FRAGA, M. A. ; TEZANI, L. L. ; CUNHA, C. L. A. ; MASSI, M. . INFLUÊNCIA DA CONCENTRAÇÃO DE OXIGÊNIO NA MORFOLOGIA DO SILÍCIO CORROÍDO POR JATO DE PLASMA DE SF6/O2. In: VI Congresso Nacional de Engenharia Mecânica, CONEM 2010, 2010, Campina Grande - Paraíba. VI Congresso Nacional de Engenharia Mecânica, CONEM 2010, 2010.

• FRAGA, M. A. ; FURLAN, H. ; WAKAVAIACHI, S. M. ; CUNHA, C. L. A. ; MASSI, M. ; MACIEL, Homero Santiago . Characterization of SOI Resistors as Strain Gauges. In: 20th International Congress of Mechanical Engineering, 2009, Gramado. Proceedings of COBEM 2009. Rio de Janeiro: ABCM, 2009.

• GRIGOROV, K. G. ; CUNHA, C. L. A. ; OLIVEIRA, I. C. ; J. Amorim ; MASSI, M. ; MACIEL, Homero Santiago . Selective optical TiN(x) compounds obtained by RF magnetron sputtering. In: 11th International Conference on Advanced Materials - ICAM 2009, 2009, Rio de Janeiro. 11th International Conference on Advanced Materials - ICAM 2009. Rio de Janeiro, 2009.

• CUNHA, C. L. A. ; MASSI, M. ; GRIGOROV, K. G. ; OLIVEIRA, I. C. ; FRAGA, M. A. ; MACIEL, Homero Santiago ; da SILVA SOBRINHO, A. S. . Desenvolvimento de Sensores SAW em Filmes de AlN Produzidos por RF Magnetron Sputtering. In: 4º Workshop Nanoaeroespacial, 2009, São José dos Campos. 4º Workshop Nanoaeroespacial. São José dos Campos: IEAv, 2009.

• FRAGA, M. A. ; CUNHA, C. L. A. ; MASSI, M. ; OLIVEIRA, I. C. ; PEPE, I. M. ; SILVA, A. F. ; SILVA, M. V. S. . Optical and Structural Characteristics of a-SiC and a-SiCxNy Thin Films. In: 14 Brazilian Workshop on Semiconductor Physics (BWSP14), 2009, Curitiba. 14 Brazilian Workshop on Semiconductor Physics (BWSP14). Curitiba: BWSP14 - Abstract, 2009.

• CUNHA, C.L.A. ; BALACHOV, S. M. ; PEREIRA, I. A. ; Natanael Lopes Dias ; Antônio Carlos Camargo do Amaral ; Ígor Leandro de Oliveira . Desenvolvimento de Biossensores de SAW. 2023. (Apresentação de Trabalho/Seminário).

• FRAGA, M. A. ; CUNHA, C. L. A. ; MASSI, M. ; OLIVEIRA, I. C. ; PEPE, I. M. ; SILVA, A. F. ; SILVA, M. V. S. . Optical and Structural Characteristics of a-SiC and a-SiCxNy Thin Films. 2009. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

• CUNHA, C. L. A. ; MASSI, M. ; GRIGOROV, K. G. ; OLIVEIRA, I. C. ; FRAGA, M. A. ; MACIEL, Homero Santiago . Desenvolvimento de Sensores SAW em Filmes de AlN Produzidos por RF Magnetron Sputtering. 2009. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

Projetos de pesquisa

• 2010 - 2012

  Fabricação e Caracterização de Acelerômetros MEMS Baseados em Filmes de SiC e AlN, Descrição: O objetivo geral deste projeto é consolidar as pesquisas sobre a confecção de sensores MEMS (Micro Electrical Mechanical Systems), piezoresistivos de carbeto de silício (SiC) e SAW (surface acoustic wave) de nitreto de alumínio (AlN), que estão em andamento no Laboratório de Plasmas e Processos (LPP) do Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA) visando contribuir para o desenvolvimento tecnológico e científico do país na área de microdispositivos para aplicações aeroespaciais. Destaca-se que assim como a autonomia na área espacial, a microeletrônica é de fundamental importância para a soberania nacional. Neste contexto, nos últimos anos o LPP-ITA tem direcionado suas pesquisas para síntese, caracterização e corrosão de filmes finos de diferentes materiais utilizados em microeletrônica como o SiC, o DLC, o AlN e o TiO2 com intuito de utilizá-los como base para a fabricação de dispositivos eletrônicos, eletromecânicos e opto-eletrônicos capazes de suportar condições adversas como altas temperaturas e radiação intensa. Até o momento, já foram desenvolvidos protótipos de sensores de pressão de SiC e transistores de filmes finos de DLC. Atualmente, estão em andamento um pós-doutorado sobre fabricação de acelerômetros piezoresistivos de SiC e um doutorado sobre sensores SAW de AlN. O projeto aqui proposto almeja o fortalecimento e avanço dessas pesquisas, o que contribuirá para o desenvolvimento de uma tecnologia nacional para fabricação de dispositivos MEMS com propriedades otimizadas para aplicações em sistemas aeroespaciais, bem como com a formação de recursos humanos qualificados para atuar nesta área.. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Doutorado: (1) . , Integrantes: Cícero Luiz Alves Cunha - Integrante / Homero Santiago Maciel - Integrante / Marcos Massi - Coordenador / Ivo de Castro Oliveira - Integrante / Mariana Amorim Fraga - Integrante., Financiador(es): Agência Espacial Brasileira - Auxílio financeiro.

• 2008 - 2012

  Construção e Caracterização de Dispositivos SAW com Base em SiC e AlN Depositados por Processos a Plasma (Edital MCT-SEPIN/CNPq/CT-INFO 13/2007 - Programa Nacional de Microeletrônica - PNM Design - Processo 142038/2008-3 - Bolsa de Doutorado), Descrição: A tecnologia de ondas acústicas superficiais (SAW) é de extrema importância tecnológica para aplicação em processamentos de sinais e sensores. Atualmente, os dispositivos que empregam esta tecnologia são largamente utilizados em escala industrial, particularmente na indústria automotiva, aeronáutica e aeroespacial onde esta tecnologia é usada na fabricação de sensores de pressão e temperatura. O funcionamento básico de um dispositivo SAW consiste na propagação de uma onda mecânica através da superfície de um determinado material. A eficiência deste dispositivo depende da capacidade de conversão da energia mecânica em energia elétrica, o chamado acoplamento eletromecânico do material e da velocidade de propagação dessas ondas mecânicas através de sua superfície. A obtenção de materiais que satisfaçam essas duas condições é um dos fatores cruciais no sucesso desta tecnologia. Neste contexto, em razão de suas propriedades e facilidade de obtenção, o filme fino de nitreto de alumínio (AlN) é um dos materiais mais adequados à fabricação de um dispositivo SAW. Muitos trabalhos que envolvem o AlN como material para o estudo da tecnologia SAW, mostram que o substrato utilizado na deposição de filmes finos de AlN interferem de maneira significativa nas características do dispositivo. Portanto, além da utilização do AlN como material piezelétrico, é necessária a utilização de substratos cujas estruturas cristalinas apresentem boa compatibilidade com o filme fino de AlN. Como o carbeto de silício (SiC) apresenta baixo grau de incompatibilidade de estrutura cristalina (~1%) com o AlN, este trabalho tem por objetivo a deposição de filmes finos de AlN, por sputtering reativo, sobre substratos policristalinos de SiC para medidas da velocidade da onda acústica superficial e coeficiente de acoplamento eletromecânico. Uma espessa camada deste material (2µm a 3µm) será depositada sobre silício (Si). Os substratos de SiC serão obtidos pelo processo de deposição por sputtering.. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Doutorado: (1) . , Integrantes: Cícero Luiz Alves Cunha - Integrante / Homero Santiago Maciel - Integrante / Marcos Massi - Integrante / Ivo de Castro Oliveira - Integrante / Ronaldo Domingues Mansano - Integrante / José Edimar Barbosa de Oliveira - Integrante / Argemiro Soares da Silva Sobrinho - Coordenador., Financiador(es): Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico - Bolsa.

Prêmios