Horst Niehus
Possui doutorado em Fisica pela Technische Universität Clausthal(1975) e pós-doutorado pela IBM - T.J. Watson Research Center(1988). Atualmente é Colaborador do Instituto Nacional de Metrologia, Qualidade e Tecnologia e Full Professor da Humboldt University of Berlin. Tem experiência na área de Física, com ênfase em Física da Matéria Condensada.
Informações coletadas do Lattes em 04/11/2022
Acadêmico
Formação acadêmica
Doutorado em Fisica
1972 - 1975
Technische Universität Clausthal, TU/Clausthal
Título: In situ comparison of surface analysis with ion and electron beams
Orientador: Prof. Doc. Ernst Bauer
Pós-doutorado
1990 - 0000
Livre-docência. , Rheinische Friedrich-Wilhelms-Universität Bonn. , Título: Ion scattering spectroscopic methods in surface science, Ano de obtenção: 1990.
1987 - 1988
Pós-Doutorado. , IBM - T.J. Watson Research Center.
Idiomas
Inglês
Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.
Alemão
Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.
Áreas de atuação
Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada/Especialidade: Superfícies e Interfaces; Películas e Filamentos.
Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada/Especialidade: Estrutura de Líquidos e Sólidos; Cristalografia.
Produções bibliográficas
-
VALADARES, GEORGE C.S. ; MENDES, F.M.T. ; DIONÍZIO MOREIRA, M. ; LEITÃO, A.A. ; NIEHUS, H. ; CAPAZ, RODRIGO B. ; ACHETE, C.A. . Structural determination of stable MoOx monolayers on O/Cu3Au(100): DFT calculations. Chemical Physics (Print) , v. 406, p. 47-49, 2012.
-
WINDOW, A. J. ; HENTZ, A. ; SHEPPARD, D. C. ; PARKINSON, G. S. ; NIEHUS, H. ; AHLBEHRENDT, D. ; NOAKES, T. C. Q. ; BAILEY, P. ; WOODRUFF, D. P. . V_{2}O_{3}(0001) Surface Termination: Phase Equilibrium. Physical Review Letters (Print) , v. 107, p. 016105, 2011.
-
LEITÃO, ALEXANDRE ; DIAS, L. ; DIONÍZIO MOREIRA, M. ; STAVALE, F. ; NIEHUS, H. ; ACHETE, C. ; CAPAZ, RODRIGO . Signatures of oxygen on Cu_{3}Au(100): From isolated impurity to oxide regimes. Physical Review. B, Condensed Matter and Materials Physics , v. 82, p. 045408, 2010.
-
; ACHETE, C.A. . Ultra thin V2O3 films grown on oxidized Si(111). Surface Science , v. 603, p. 2721-2724, 2009.
-
BLUM, R.-P ; NIEHUS, H. ; HUCHO, C. ; FORTRIE, R. ; GANDUGLIA-PIROVANO, M. ; SAUER, J. ; SHAIKHUTDINOV, S. ; FREUND, H.-J. . Surface Metal-Insulator Transition on a Vanadium Pentoxide (001) Single Crystal. Physical Review Letters (Print) , v. 99, p. 226103, 2007.
-
NIEHUS, H. ; KÖHLER, U. K. ; COPEL, M. ; DEMUTH, J. E. . A real space investigation of the dimer defect structure of Si(001)-(2times8). Journal of Microscopy (Print) , v. 152, p. 735-742, 1988.
-
NIEHUS, H. ; BAUER, E. . Quantitative aspects of Ion Scattering Spectroscopy (ISS). Surface Science , v. 47, p. 222-233, 1975.
Outras produções
NIEHUS, HORST . FAN. 2005.
Histórico profissional
Endereço profissional
-
Instituto Nacional de Metrologia, Qualidade e Tecnologia, Diretoria de Metrologia Científica e Industrial. , Av. N. S. das Graças, 50 - DIMAT Predio 3, xerem, 25250-020 - Duque de Caxias, RJ - Brasil, Telefone: (21) 26799108, Fax: (21) 2679910, URL da Homepage:
Experiência profissional
1976 - 1993
Forschungszentrum JülichVínculo: Formal labor contract, Enquadramento Funcional: Senior Scientist, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
1993 - Atual
Humboldt University of BerlinVínculo: Formal labor contract, Enquadramento Funcional: Full Professor, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.
Outras informações:
Chair of Experimental Physics: Atomic Collisions and Surface Science
2005 - Atual
Instituto Nacional de Metrologia, Qualidade e TecnologiaVínculo: Professor vistante, Enquadramento Funcional: Colaborador, Carga horária: 40
Criando um monitoramento
Nossos robôs irão buscar nos nossos bancos de dados todos os processos de Horst Niehus e sempre que o nome aparecer em publicações dos Diários Oficiais, avisaremos por e-mail e pelo painel do usuário
Criando um monitoramento
Nossos robôs irão buscar nos nossos bancos de dados todas as movimentações desse processo e sempre que o processo aparecer em publicações dos Diários Oficiais e nos Tribunais, avisaremos por e-mail e pelo painel do usuário
Confirma a exclusão?