Alexander Flacker

Formação complementar

Idiomas

Áreas de atuação

Organização de eventos

Participação em eventos

Produções bibliográficas

• DO NASCIMENTO, FELLYPE ; KOSTOV, KONSTANTIN GEORGIEV ; MACHIDA, MUNEMASA ; FLACKER, ALEXANDER . Properties of DBD Plasma Jets Using Powered Electrode With and Without Contact With the Plasma. IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE , v. 49, p. 1293-1301, 2021.

• FARIA, ALINE M. ; PEIXOTO, ELISA B. M. I. ; ADAMO, CRISTINA B. ; FLACKER, ALEXANDER ; LONGO, ELSON ; MAZON, TALITA . Controlling parameters and characteristics of electrochemical biosensors for enhanced detection of 8-hydroxy-2--deoxyguanosine. Scientific Reports , v. 9, p. 7411, 2019.

• FINARDI, CÉLIO ; PONCHET, ANDRÉ ; ADAMO, CRISTINA ; FLACKER, ALEXANDER ; TEIXEIRA, RICARDO COTRIN ; PANEPUCCI, ROBERTO . Alternative technological development for RF hybridization. Materials Research Express , v. 4, p. 036305, 2017.

• ADAMO, CRISTINA B. ; FLACKER, ALEXANDER ; CAVALCANTI, H. M. ; TEIXEIRA, R. ; ROTONDARO, ANTONIO L. P. ; MANERA, L. T. . Development of MCMD Technology with Photosensitive Benzocyclobutene. JICS. Journal of Integrated Circuits and Systems (Ed. Português) , v. 11, p. 19-26, 2016.

• ADAMO, C. B. ; FLACKER, ALEXANDER ; FREITAS, W. ; TEIXEIRA, R. ; SILVA, M. O. ; A. L. P. Rotondaro . Multi-Chip Module (MCM-D) Using Thin Film Tecnology. JICS. Journal of Integrated Circuits and Systems (Ed. Português) , v. 10, p. 21-29, 2015.

• ADAMO, CRISTINA B. ; FLACKER, ALEXANDER ; FREITAS, WILSON ; TEIXEIRA, RICARDO C. ; DA SILVA, MICHELE O. ; ROTONDARO, ANTONIO L. P. . Multi-Chip Module (MCM-D) using thin film technology. Multi-Chip Module (MCM-D) using thin film technology , v. 1, p. 1-4, 2014.

• CAMPOS,C.D.M. ; FLACKER, A. ; Moshkalev S. A. ; NOBREGA,E.G.O. . Comparative analysis of thin Ni and CoNiMnP magnetic films. Thin Solid Films , v. 520, p. 4871-4874, 2012.

• R. Savu ; SILVEIRA, ; FLACKER, A. ; A.R.Vaz ; E.JOANI, ; A.C.PINTO, ; A.L.GOOBI, ; T.E.A.SNTOS, ; A. L. P. Rotondaro ; S.A.Moshkalev . Micro-reactors for characterização of nanostructure-based sensors. Review of Scientific Instruments , v. 83, p. 055104-1-055104-6, 2012.

• COSTA, J. S. ; FLACKER, A. ; NAKASHIMA, M. H. S. ; FRUETT, F. ; ZAMPIERI, M. ; LONGO, E. . Integration of Microfabricated Capacitive Bridge and Thermistor on the Alumina Substrates. ECS Transactions , v. 49, p. 451-458, 2012.

• SAVU, R. ; SILVEIRA, J. V. ; FLACKER, A. ; VAZ, A. R. ; JOANNI, E. ; GOBBI, A. L. ; ROTONDARO, A. L. P. ; MOSHKALEV, S. A. . Micro-Reactors for Testing Sensor Devices Based on Suspended Carbon Nanotubes. ECS Transactions , v. 49, p. 191-197, 2012.

• CAMPOS,C.D.M. ; FLACKER, A. ; A.R.Vaz ; S.A.Moshkalev ; E.G.O.Nobrega . Electroplated Nickel Permanent Magnetic Films over Polymeric Membranes. Journal of the Electrochemical Society , v. 158, p. D330-D334, 2011.

• LEON, J. ; FLACKER, A. ; VAZ, A. R. ; VERISSIMO, C. ; MORAES, M. B. ; Moshkalev S. A. . Electrical Characterization of Multi-Walled Carbon Nanotubes. Journal of Nanoscience and Nanotechnology , v. 10, p. 1-6, 2010.

• COSTA, J. S. ; FLACKER, A. ; FRUETT, F. . A new fabrication technique of planar metallic microstructures on alumina substrate. ECS transactions , v. 23, p. 327-334, 2009.

• Moshkalev S. A. ; C. Veríssimo ; FLACKER, A. ; VAZ, . Controlled Deposition and Electrical Characterization of Multi-Wall Carbon Nanotubes. Journal of Nano Research (Online) , v. 3, p. 25-32, 2008.

• NUNES, A. M. ; Moshkalev S. A. ; FLACKER, A. . Electroless Deposited Nickel Hard Mask for high Density Plasma Etching Applications. ECS Transactions , v. 1, p. 403-411, 2008.

• LEON, J. ; Moshkalev S. A. ; FLACKER, A. ; VAZ, A. R. ; C. Veríssimo . Electrical Characterization of Multi-Walled Carbon Nanotubes in 2 and 4 Terminals Configurations. ECS Transactions , v. 14, p. 423-432, 2008.

• LEON, J. ; VAZ, A. R. ; FLACKER, A. ; Moshkalev S. A. ; MORAES, M. B. ; SWART, J. W. . Contact Improvement For Carbon Nanotubes Deposited By Dielectrophoresis. ECS Transactions , v. 9, p. 213-218, 2007.

• Zocall ; CABREIRA, C. ; YAMAMOTO, S. ; FLACKER, A. ; Diniz J. A. . 10 GHz RF passive components obtained by MCM-D technology. ECS Transactions , v. 9, p. 405-414, 2007.

• FLACKER, A. ; C.A.FINARDI, ; ALMEIDA, A. ; MOLINA, J. ; M.BARNETT, . Tecnologia de Baixo Custo para Placas de Alta Densidade de Interconexão. Revista Tratamento de Superfície, São Paulo, v. 88, n.88, p. 28-33, 1998.

• FLACKER, A. ; C.A.FINARDI, ; MOLINA, J. ; B.M.SAMUEL, ; ALMEIDA, A. . Metalizaçào Química Sobre Substrato Cerâmico. Revista Tratamento de Superfície, São Paulo, n.86, p. 36-40, 1997.

• FLACKER, A. ; A.C.PAGOTO, ; A.C.GOZZI, ; ALMEIDA, A. ; C.A.FINARDI, ; MOLINA, J. ; M.F.SANTOS, ; M.BARNETT, . An Innovative And Low Cost Deposition Technology Applied To MCM-D Fabrication. Journal of Solid-State Devices and Circuits , São Paulo, v. 4, n.2, p. 7-11, 1996.

• FLACKER, A. ; ALMEIDA, A. ; M.BARNETT, ; C.A.FINARDI, ; A.C.GOZZI, ; MOLINA, J. ; A.C.PAGOTO, ; M.F.SANTOS, . A Novel Low Cost MCM-D Tecnology. IEEE, p. 172-1976, 1994.

• FLACKER, A. ; A.C.PAGOTO, ; A.FISSORE, . Deposição Reativa de Filmes de Nitreto de Slício Obtidos Através de um Sistema Planar Magnetron Sputtering. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, Campinas-SP, v. 11, n.1, p. 46-49, 1992.

• FLACKER, A. ; C.A.FINARDI, ; M.R.FINARDI, . Uma nova Tecnologia para Circuítos Hibridos de Microondas em Filme Fino. Revista Tratamento de Superfície, São Paulo, v. 5, n.18, p. 32-35, 1985.

• FLACKER, A. ; C.A.FINARDI, . Métodos de Deposição por Bombardeamento. Revista Tratamento de Superfície, São Paulo, n.13, p. 4-7, 1985.

• FLACKER, A. ; FONSECA, F. ; ANDRADE, A. . Películas de Dióxido de Titânio para uso em Conversão Fotovoltaica Depositadas por Bombardeamento Reativo. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, Rio de Janeiro, v. 4, n.1 e 2, p. 53-61, 1984.

• FLACKER, A. ; JLAMORAES, ; PCSPAULA, ; MSAITO, ; J.K.C.PINTO, ; M.MORI, . Técnicas de Fabricação de Elementos Concentrados por Técnicas de Bombardeamento a Vácuo. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, Rio de Janeiro, v. 4, n.1 e 2, p. 63-69, 1984.

• FLACKER, A. ; C.A.FINARDI, ; J.K.C.PINTO, . Caracterização de Contatos para Resistores em Filme Fino. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, Rio de Janeiro, v. 2, n.2, p. 73-80, 1982.

• FLACKER, A. ; MSAITO, ; J.K.C.PINTO, . Processo de Obtenção de "Gate"e contatos de Dreno e Fonte de GaAs pelos Métodos de Metalização por "LIFT-OFF" e Sombra. Revista Brasileira de Aplica,cões de Vácuo, Rio de Janeiro, v. 1, n.1, p. 80-87, 1981.

• FLACKER, A. ; C.A.FINARDI, ; L.C.MANTOVANI, ; J.K.C.PINTO, . Desenvolvimento de Fotomáscaras de Cromo Aplicando a Técnica de Deposição por Bombardeamento. Revista Brasileira de Aplicações de Vácuo, Rio de Janeiro, v. 1, n.1, p. 88-94, 1981.

• FLACKER, A. ; J.R.A.AMAZONAS, ; J.AUGUSTO, ; M.I.PEREIRA, ; N.COMPARINI, . Estudo de Estruturas Multicamadas para uso em Grades Coletoras de Células Solares. Revista Brasileira de Vácuo, Rio de Janeiro, v. 1, n.1, p. 120-126, 1981.

• FLACKER, ALEXANDER ; ADAMO, CRISTINA B. ; TEIXEIRA, R. . alumina metalizada quimicamente com níquel-fósforo e ouro integrando circuítos LEDs. tratamento de superfície, p. 42 - 45, 15 jan. 2016.

• ADAMO, CRISTINA ; FLACKER, A. ; MEDEIROS, R. C. ; CASTILLO, S. O. ; PONCHET, A. ; TEIXEIRA, R. . Microfabricated ISM Band Inductors using MCM-D Technology over Alumina Substrates. In: 33rd Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2018, Bento Gonçalves. 2018 33rd Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2018.

• FINARDI, CELIO A. ; PONCHET, ANDRE F. ; ADAMO, CRISTINA B. ; TEIXEIRA, RICARDO C. ; PANEPUCCI, ROBERTO R. ; FLACKER, ALEXANDER . A 40 GHz-platform using soft substrates. In: 2016 31st Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2016, Belo Horizonte. 2016 31st Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2016. p. 1-4.

• ADAMO, CRISTINA B. ; FLACKER, A. ; CAVHercilio M. CavalcantiALCANTI, H. M. ; TEIXEIRA, R. ; ROTONDARO, A. L. P. ; MANERA, L. T. . Development of MCM-D Technology With Photosensitive Benzocyclobutene. In: 2015 Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2015, Salvador. 2015 Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2015.

• CIOLDIN, F. ; SANTOS, M. ; DOI, I. ; DINIZ, J. ; FLACKER, A. ; M., R. ; O., T. ; BONUGLI, L. ; ZAMBOTI, E. ; FILHO, J. ; FLACKER, A. . Raman Study of Nickel-Platinum Silicide Formed by RTP Process. In: 2013 Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2013, Curitiba. Microelectronics Technology and Devices, 2013.

• FREITAS, W. ; FLACKER, A. ; ADAMO, C. B. ; ROTOMDARO, A. . Development of Multi-Chip Module-D Technology Testchip. In: 2013 Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2013, Curitiba. Technology and Devices, 2013.

• R. Savu ; FLACKER, A. ; N. A. Carvalho ; E. Joanni ; T. E. A. Santos ; GOBBI, A. ; M. T. Biasoli ; A. L. P. Rotondaro ; S. A. Moshkalev . Design and fabrication of micro-reactors for the characterization of pressure sensors based on pristine carbon nanotubes. In: 1st Brazilian-German workshop on micro- and nano-electronics, 2010, Porto Alegre. Proceedings of the 1st Brazilian-German workshop on micro- and nano-electronics 2010, 2010.

• Zocall ; CABREIRA, C. ; YAMAMOTO, S. ; FLACKER, A. ; Diniz J. A. ; SWART, J. W. . RF passive components in MCMD. In: International Microwave and Optoelectronics Conference, 2007. SBMO/IEEE MTT-S International, 2007. p. 122-126.

• ELY, F. ; NOME, R. C. ; AMARAL, A. C. C. ; ADAMO, CRISTINA ; FLACKER, A. . Nickel-coated fabrics for textile touch sensors. In: XVI Brazil MRS Meeting, 2017, Gramado. Proceedings XVI Brazil MRS Meeting, 2017.

• ADAMO, CRISTINA ; FLACKER, A. ; NASCIMENTO, P. H. ; TIMM, R. A. ; ELY, F. ; KUBOTA, L. T. ; Moshkalev S. A. . Electrophoretic deposition of graphene oxide over silicon substrate. In: XV Brazil MRS Meeting, 2017, Campinas. Proceedings of XV Brazil MRS Meeting, 2016.

• FLACKER, A. ; SILVA, M. O. ; MEDEROS, M. ; GOMES, G. ; TEIXEIRA, R. . electroless deposition over polished alumina using wet surface treatment. In: Worksshop on semiconductors and & nano technology (seminatec), 2021, São Paulo (USP). Proceedings X worksshop on semiconductors and & nano technology (seminatec), 2021.

• MEDEROS, M. ; FLACKER, A. ; TEIXEIRA, RICARDO C. . Metallization of high purity Al2O3 substrate with NiP/Au thin films for interconnections in MCM technology. In: Worsshop on semiconductors and micro & nano technology (seminatec), 2021, São Paulo (USP). Proceedings X worksshop on semiconductors and micro & nano technology (seminatec), 2021.

• MEDEROS, M. ; ADAMO, C. B. ; FLACKER, A. ; TEIXEIRA, R. . Morphology Study for Electrolytic Gold-Thin-Films for MCM-D Application. In: XII Workshop on Semiconductors and Micro & Nano Technology, 2017, São Paulo. XII Workshop on Semiconductors and Micro & Nano Technology, 2017.

• VESSALLI, B. A. ; FARIA, A. M. ; PRADO, E. M. P. ; ADAMO, CRISTINA ; FLACKER, A. ; MAZON, T. . Growth and Characterization of ZnO nanostructures and ZnO: RGO nanohybrids on bare electrochemical sensor made on Printed Circuit Board (PCB). In: XVI Brazil MRS Meeting, 2017, 2017, Gramado. Proceedings XVI Brazil MRS Meeting, 2017.

• SILVA JUNIOR, S. M. ; STEINS, J. ; S. A. Moshkalev ; SWART, J. W. ; FLACKER, A. ; ZHANG, Y. ; MATVEJEV, V. ; VANDERMEIREN, W. ; TANDT, C. . Microfluidic devices and Gigahertz sensor applied to measurements of liquid mixtures concentration. In: VII Workshop em Microfluídica, 2017, São Paulo. Proceedings VII Workshop em Microfluídica, 2017.

• Finardi ; ADAMO, C. B. ; FLACKER, ALEXANDER ; PONCHET, A. F. ; TEIXEIRA, RICARDO C. ; PANEPUCCI, R. R. . An Alternative Technology for RF Packaging Solutions Based on soft Substrates. In: XV Brazil MRS meeting, 2016, Campinas. Proceedings of XV Brazil MRS meeting, 2016.

• ADAMO, CRISTINA B. ; FLACKER, ALEXANDER ; PCSPAULA, ; TIMM, R. A. ; ELY, F. ; TATSUO, K. L. ; S. A. Moshkalev . Electrophoretic deposition of graphene oxide over silicon substrate. In: XV Brazil MRS meeting, 2016, Campinas SP. Proceedings of XV Brazil MRS meeting, 2016.

• FLACKER, ALEXANDER ; ADAMO, CRISTINA B. ; TEIXEIRA, R. . High power SMD LEDs connected with planar metallic structures over alumina substrates. In: XI worksshop on semiconductors and micro & nano technology (Seminatec), 2016, Campinas (S P). Proceedings XI worksshop on semiconductors and micro & nano technology (Seminatec), 2016.

• SILVA JUNIOR, S. M. ; SWART, J. W. ; A.R.Vaz ; FLACKER, A. ; S.A.Moshkalev ; PIAZZETTA, M. H. O. . Microfluidic Devices on Glass, Silicon and Polidimetilsiloxane with Micropillars Applyiing to Micromixers. In: XI Workshop on Semiconductors and Micro & Nano Technology (SEMINATEC), 2016, Campinas. Proceedings XI SEMINATEC, 2016.

• FLACKER, A. . Obtenção de filmes de Cu para tecnologia multichip module deposition (MCM-D). 2021. (Apresentação de Trabalho/Seminário).

• FLACKER, ALEXANDER ; ADAMO, CRISTINA B. ; TEIXEIRA, R. . High Power SMD LEDs Connected with Planar Metallic Structures over Alumina Substrates. 2016. (Apresentação de Trabalho/Seminário).

• SILVA JUNIOR, S. M. ; SWART, J. W. ; VAZ, ; FLACKER, ALEXANDER ; S. A. Moshkalev ; PIAZZETTA, M. H. O. . Microfluidic Devices on Glass, Silicon and Polidimetilsiloxane with Micropillars Applying to Micromixers. 2016. (Apresentação de Trabalho/Seminário).

• FLACKER, ALEXANDER ; ADAMO, CRISTINA B. ; TEIXEIRA, R. . Electrical characterization of metallic structure (Ni-P) over alumina substrate. 2015. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

• FLACKER, A. ; ROTONDARO, ANTONIO L. P. ; ADAMO, C. B. ; FREITAS, W. J. ; TEIXEIRA, R. . Desenvolvimento de Tecnologia MCM-D. 2014. (Apresentação de Trabalho/Seminário).

• ADAMO, C. B. ; FLACKER, A. ; FREITAS, W. J. ; TEIXEIRA, RICARDO C. ; ROTONDARO, ANTONIO L. P. . Multi-Chip-Module (MCM) process using alumina as substrate. 2014. (Apresentação de Trabalho/Seminário).

• TEIXEIRA, R. ; ADAMO, C. B. ; FLACKER, A. ; FREITAS, W. J. ; ROTONDARO, A. L. P. . Surface Plasma Treatment of Electroless NI-P. 2013. (Apresentação de Trabalho/Seminário).

• FLACKER, A. ; ROTONDARO, A. L. P. ; ADAMO, C. B. ; FREITAS, W. ; DINIZ, J. A. . Desenvolvimento da Tecnologia Multichip Module. 2012. (Apresentação de Trabalho/Seminário).

• FLACKER, A. ; A. L. P. Rotondaro ; COSTA, J. S. ; ADAMO, C. B. ; FREITAS, W. ; DINIZ, J. A. . Processo para Desenvolvimento de Tecnologia Multichip Module (MCM) e Fabricação de Micro Estrutura em Substrato de Alumina. 2012. (Apresentação de Trabalho/Seminário).

• BERTOLUCCI, E. C. ; KAUFMANN, P. ; FERNANDES, L. O. ; ZAKIA, M. B. ; DINIZ, J. A. ; FLACKER, A. ; TIMOFEESKY, A. V. ; NIKOLAEV, V. A. . THz band-pass resonant metal mesh filters for a space solar photometry experiment. 2012. (Apresentação de Trabalho/Simpósio).

• ROTONDARO, A. L. P. ; FLACKER, A. ; ADAMO, C. B. ; Tales P. Tomaz ; FREITAS, W. . Multi-Chip Module Tecnology with Embedded Passive Components. 2012. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

• R. Savu ; J. V. da Silveira ; A. Alaferdov ; FLACKER, A. ; E. Joanni ; GOBBI, A. ; CANESQUI, M. A. ; D. S. DE Lara ; A. L. P. Rotondaro ; S. A. Moshkalev . Micro-Reactors and gas sensors based on locally heated carbon nanotubes decorated with Ti nanoparticles. 2012. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

• T.P.Thomas ; FLACKER, A. ; FREITAS, W. ; ROTONDARO, A. L. P. . Desenvolvimento da Tecnologia Multichip Module. 2012. (Apresentação de Trabalho/Seminário).

• T.P.Thomas ; FLACKER, A. ; R. Savu ; A. L. P. Rotondaro . A Novel Method of Fabricating 3D Microeletronic Circuit Using Metal Wet Deposition. 2011. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

• FLACKER, A. . Molhabilidade de Ligas Ativas Sobre Substrato Cerâmico com Deposição de Ni, Obtidas em Forno a Vácuo. 1998. (Apresentação de Trabalho/Comunicação).

• FLACKER, A. ; C.A.FINARDI, ; ALMEIDA, A. ; MOLINA, J. ; M.BARNETT, . Tecnologia de Baixo Custo para Placas de Alta Densidade de Interconexão. 1997. (Apresentação de Trabalho/Conferência ou palestra).

• FLACKER, A. ; C.A.FINARDI, ; MOLINA, J. ; B.M.SAMUEL, ; ALMEIDA, A. . Metalização Química sobre Substrato Cerâmico. 1997. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

• FLACKER, A. ; A.C.PAGOTO, ; A.FISSORE, . Deposição de Filmes Finos de Nitreto de Silício obtidos através de um Sistema RF Planar Magnetron Sputtering. 1991. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

• FLACKER, A. ; A.C.PAGOTO, ; A.FISSORE, . Deposição Reativa de Filmes de Nitreto de Silício Obtidos Através de um Sistema RF. 1991. (Apresentação de Trabalho/Outra).

• FLACKER, A. . Metalização à Vácuo por Processo Térmico e por Bombardeamento (Sputtering). 1984. (Apresentação de Trabalho/Conferência ou palestra).

Outras produções

Projetos de pesquisa

• 1976 - 1984

  Pesquisa e Desenvolvimento, Descrição: Desenvolvimentos: - Deposição de metais e ligas (Ouro, Níquel-Cromo, Nitreto de Tântalo e Pentóxido de Fósforo, para confecção de Resistor e Capacitor á filme fino. - Deposição química de liga de Níquel-Fósforo sobre Silício. - Tratamento de superfície, através das técnicas de anodização e alodização. - Deposição química de Cobre em superfície de fibra de vidro e fenolite. - Obtenção de fotomáscaras de oxido de Cromo e filme de Dióxido de Titânio pelo metodo da deposição reativa a vácuo através da técnica de Sputtering. - Participação na produção de circuítos híbridos sobre base cerâmica, para confecção de amplificador de microondas.. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / J.K.C.Pinto - Integrante / M.R.Finardi - Integrante / Edmar Camargo - Integrante / Tereza Mori - Integrante / Celio Antônio Finardi - Integrante.

Projetos de desenvolvimento

• 2010 - Atual

  Desenvolvimento de tecnologia MCM, Descrição: O processo em desenvolvimento para fabricação de dispositivos MCM-D é baseado na tecnologia de filme fino e dielétrico benzocyclobutene (BCB) e consiste atualmente de 90 etapas. A técnica de fabricação de placas multicamadas envolve uma sequência repetitiva de processos do tipo "plating" para deposição e configuração das camadas condutoras e dielétricas. O processamento consiste em; - Preparação dos substratos (limpeza e aumento de rugosidade) - Deposição da primeira camada condutora - Obtenção do elemento passivo - Aplicação do dielétrico - Abertura e preenchimento metálico deas vias - Transferência de padrões e definição dos condutores. , Situação: Em andamento; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2009 - 2009

  Nanotubos de Carbono: Ciência e Aplicações, Descrição: - Estudo bibliográfico sobre soluções químicas de Paládio (Pd) - Depositar filmes metálicos de Níquel-Fósforo (Ni-P) variando a temperatura o pH e o estabilizador. - Estudar o comportamento de diversas soluções químicas de Pd variando a concentração dos reagentes, temperatura e pH. - Verificar o comportamento da granulação do deposito dos filmes metálicos de Ni-P e Pd. - Medidas de resistência elètrica entre contatos do nanotubo revestidos com Pd. - Comportamento da resistência elètrica entre contatos do nanotubo metalizado com NI-P. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Stanislav - Integrante / Jacobus W. Swart - Integrante.

• 2005 - 2008

  Desenvolvimento de Tecnologia Microwave Integrated Circuit (MIC) aplicada a dispositivos de Radio Frequency (RF), Descrição: - Implantação de laboratorio químico, aquisição de material de consumo e permanente. - Treinamento de uma técnica em química e 2 alunos de iniciação científica - Tornar operacional um equipamento de vácuo (Magnetron-Sputtering). - Caracterização do filme de alumínio-silício depositado a vácuo no Magnetron. - Estudo de tecnologia Multi Chip Model (MCM-D) utilizando polimero Benzocyclobutene (BCB) para fabricação de circuitos de microondas. - Aprimoramento da tecnalogia de deposição química (electroless) da liga de Níquel -Fósforo e Ouro sobre substrato cerâmico do tipo alumina 96%. -. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Alunos envolvidos: Graduação: (2) / Especialização: (3) / Mestrado acadêmico: (1) / Mestrado profissional: (0) / Doutorado: (0) . , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Clovis Cabreira - Integrante / Eliana Anete Gomes - Integrante / Silas Yamamoto - Integrante., Financiador(es): Celestica do Brasil - Auxílio financeiro.

• 2004 - 2005

  Confecção de Prototipos Exploratórios., Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2003 - 2004

  Confecção de Microlentes na Extremidade da Fibra Óptica., Descrição: Confecção de Microlentes(Cunha e Angular) na extremidade da Fibra Óptica, através de polimento mecânico utilizando pastas diamantadas e lixas. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Wagner Alves Ribeiro Novaes - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa., Número de produções C, T & A: 5

• 2002 - 2005

  Desenvolvimento de Metalização Via Química de Níquel-Fósforo e Ouro sobre a Superfíce da Fibra Óptica, e adequação desta Tecnologia sobre a Superfície do Quartzo e da Alumina, Descrição: Estudo de soluções químicas de Níquel-Fósforo e Ouro,para obter filmes aderentes e uniformes sobre a superfície da Fibra Óptica, em laminas de Quartzo e sobre a Cerâmica do tipo Almnina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2005

  Desenvolvimento da Tecnologia de Metalização de Fibra Óptica por Processo Químico., Descrição: Metalizar via química a superfície da Fibra Óptica. Este processo consiste em: Limpeza,Microcorrosão,Nucleação e Deposição química de Níquel-Fósforo e Ouro.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2004

  Definição de Processo, Especificação e Aquisição de Insumos., Descrição: Definição de etapas do processo,especificação de materiais de consumo(vidraria,produtos químicos,materiais metálicos etc.) e permanentes Por Ex.:Estufa,Balança Analitica,pHmetro,Fonte de Corrente entre outros.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2001 - 2002

  Implantação de Laboratório Químico., Descrição: Montagem de laboratório químico que compreendeu: Confecção de bancada,Capela,Aquisição de material de consumo e material permanente.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 1993 - 1999

  Pesquisa e Desenvolvimento de Circuítos Multicamada, e Dispositivos de Ondas Acusticas Superficiais, Descrição: - Desenvolvimento de tecnologia para confeçcão de circuítos multicamada (MCM) utilizando dielétrico organico e base cerâmica. - Participação na transferência de tecnologia de tecnologia de fabricação de dispositivos SAW, para a fundação. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Integrante / A.M. Almeida - Integrante / J.P. Molina - Integrante / M.Barnett - Integrante / A.C.Pagoto - Integrante / M Helena - Integrante / Clovis Cabreira - Integrante / Celio Antônio Finardi - Coordenador.

• 1987 - 1992

  Pesquisa e Desenvolvimento de filmes finos, Descrição: - Desenvolvimento de filme de nitreto de silicio, atraves da técnica de deposição a vácuo pelo método Sputtering. - Desenvolvimento de tecnologia de metalização química (Electroless) de Níquel - Boro sobre superfície cerâmica do tipo alumina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / A.C.Pagoto - Integrante / A.Fissore - Integrante.

• 1972 - 1975

  Pesquisa e Desenvolvimento, Descrição: - Limpeza Química em superfícies de : Quartzo, Silício, Alumina, Latão, Alumínio, Ferrite e Cobre. - Metalização a vácuo pelo processo térmico de: Alumínio, Níquel- Cromo e Ouro. - Polimento Químico de: Latão, Cobre e Alumínio. - Corrosão química de: Cobre, Ouro, Prata, Níquel e Alumínio. - Deposição eletrolítica de Níquel, Cobre, Prata, e Ouro. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2010 - Atual

  Desenvolvimento de tecnologia MCM, Descrição: O processo em desenvolvimento para fabricação de dispositivos MCM-D é baseado na tecnologia de filme fino e dielétrico benzocyclobutene (BCB) e consiste atualmente de 90 etapas. A técnica de fabricação de placas multicamadas envolve uma sequência repetitiva de processos do tipo "plating" para deposição e configuração das camadas condutoras e dielétricas. O processamento consiste em; - Preparação dos substratos (limpeza e aumento de rugosidade) - Deposição da primeira camada condutora - Obtenção do elemento passivo - Aplicação do dielétrico - Abertura e preenchimento metálico deas vias - Transferência de padrões e definição dos condutores. , Situação: Em andamento; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2009 - 2009

  Nanotubos de Carbono: Ciência e Aplicações, Descrição: - Estudo bibliográfico sobre soluções químicas de Paládio (Pd) - Depositar filmes metálicos de Níquel-Fósforo (Ni-P) variando a temperatura o pH e o estabilizador. - Estudar o comportamento de diversas soluções químicas de Pd variando a concentração dos reagentes, temperatura e pH. - Verificar o comportamento da granulação do deposito dos filmes metálicos de Ni-P e Pd. - Medidas de resistência elètrica entre contatos do nanotubo revestidos com Pd. - Comportamento da resistência elètrica entre contatos do nanotubo metalizado com NI-P. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Stanislav - Integrante / Jacobus W. Swart - Integrante.

• 2005 - 2008

  Desenvolvimento de Tecnologia Microwave Integrated Circuit (MIC) aplicada a dispositivos de Radio Frequency (RF), Descrição: - Implantação de laboratorio químico, aquisição de material de consumo e permanente. - Treinamento de uma técnica em química e 2 alunos de iniciação científica - Tornar operacional um equipamento de vácuo (Magnetron-Sputtering). - Caracterização do filme de alumínio-silício depositado a vácuo no Magnetron. - Estudo de tecnologia Multi Chip Model (MCM-D) utilizando polimero Benzocyclobutene (BCB) para fabricação de circuitos de microondas. - Aprimoramento da tecnalogia de deposição química (electroless) da liga de Níquel -Fósforo e Ouro sobre substrato cerâmico do tipo alumina 96%. -. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Alunos envolvidos: Graduação: (2) / Especialização: (3) / Mestrado acadêmico: (1) / Mestrado profissional: (0) / Doutorado: (0) . , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Clovis Cabreira - Integrante / Eliana Anete Gomes - Integrante / Silas Yamamoto - Integrante., Financiador(es): Celestica do Brasil - Auxílio financeiro.

• 2004 - 2005

  Confecção de Prototipos Exploratórios., Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2003 - 2004

  Confecção de Microlentes na Extremidade da Fibra Óptica., Descrição: Confecção de Microlentes(Cunha e Angular) na extremidade da Fibra Óptica, através de polimento mecânico utilizando pastas diamantadas e lixas. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Wagner Alves Ribeiro Novaes - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa., Número de produções C, T & A: 5

• 2002 - 2005

  Desenvolvimento de Metalização Via Química de Níquel-Fósforo e Ouro sobre a Superfíce da Fibra Óptica, e adequação desta Tecnologia sobre a Superfície do Quartzo e da Alumina, Descrição: Estudo de soluções químicas de Níquel-Fósforo e Ouro,para obter filmes aderentes e uniformes sobre a superfície da Fibra Óptica, em laminas de Quartzo e sobre a Cerâmica do tipo Almnina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2005

  Desenvolvimento da Tecnologia de Metalização de Fibra Óptica por Processo Químico., Descrição: Metalizar via química a superfície da Fibra Óptica. Este processo consiste em: Limpeza,Microcorrosão,Nucleação e Deposição química de Níquel-Fósforo e Ouro.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2004

  Definição de Processo, Especificação e Aquisição de Insumos., Descrição: Definição de etapas do processo,especificação de materiais de consumo(vidraria,produtos químicos,materiais metálicos etc.) e permanentes Por Ex.:Estufa,Balança Analitica,pHmetro,Fonte de Corrente entre outros.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2001 - 2002

  Implantação de Laboratório Químico., Descrição: Montagem de laboratório químico que compreendeu: Confecção de bancada,Capela,Aquisição de material de consumo e material permanente.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 1993 - 1999

  Pesquisa e Desenvolvimento de Circuítos Multicamada, e Dispositivos de Ondas Acusticas Superficiais, Descrição: - Desenvolvimento de tecnologia para confeçcão de circuítos multicamada (MCM) utilizando dielétrico organico e base cerâmica. - Participação na transferência de tecnologia de tecnologia de fabricação de dispositivos SAW, para a fundação. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Integrante / A.M. Almeida - Integrante / J.P. Molina - Integrante / M.Barnett - Integrante / A.C.Pagoto - Integrante / M Helena - Integrante / Clovis Cabreira - Integrante / Celio Antônio Finardi - Coordenador.

• 1987 - 1992

  Pesquisa e Desenvolvimento de filmes finos, Descrição: - Desenvolvimento de filme de nitreto de silicio, atraves da técnica de deposição a vácuo pelo método Sputtering. - Desenvolvimento de tecnologia de metalização química (Electroless) de Níquel - Boro sobre superfície cerâmica do tipo alumina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / A.C.Pagoto - Integrante / A.Fissore - Integrante.

• 1972 - 1975

  Pesquisa e Desenvolvimento, Descrição: - Limpeza Química em superfícies de : Quartzo, Silício, Alumina, Latão, Alumínio, Ferrite e Cobre. - Metalização a vácuo pelo processo térmico de: Alumínio, Níquel- Cromo e Ouro. - Polimento Químico de: Latão, Cobre e Alumínio. - Corrosão química de: Cobre, Ouro, Prata, Níquel e Alumínio. - Deposição eletrolítica de Níquel, Cobre, Prata, e Ouro. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2010 - Atual

  Desenvolvimento de tecnologia MCM, Descrição: O processo em desenvolvimento para fabricação de dispositivos MCM-D é baseado na tecnologia de filme fino e dielétrico benzocyclobutene (BCB) e consiste atualmente de 90 etapas. A técnica de fabricação de placas multicamadas envolve uma sequência repetitiva de processos do tipo "plating" para deposição e configuração das camadas condutoras e dielétricas. O processamento consiste em; - Preparação dos substratos (limpeza e aumento de rugosidade) - Deposição da primeira camada condutora - Obtenção do elemento passivo - Aplicação do dielétrico - Abertura e preenchimento metálico deas vias - Transferência de padrões e definição dos condutores. , Situação: Em andamento; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2009 - 2009

  Nanotubos de Carbono: Ciência e Aplicações, Descrição: - Estudo bibliográfico sobre soluções químicas de Paládio (Pd) - Depositar filmes metálicos de Níquel-Fósforo (Ni-P) variando a temperatura o pH e o estabilizador. - Estudar o comportamento de diversas soluções químicas de Pd variando a concentração dos reagentes, temperatura e pH. - Verificar o comportamento da granulação do deposito dos filmes metálicos de Ni-P e Pd. - Medidas de resistência elètrica entre contatos do nanotubo revestidos com Pd. - Comportamento da resistência elètrica entre contatos do nanotubo metalizado com NI-P. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Stanislav - Integrante / Jacobus W. Swart - Integrante.

• 2005 - 2008

  Desenvolvimento de Tecnologia Microwave Integrated Circuit (MIC) aplicada a dispositivos de Radio Frequency (RF), Descrição: - Implantação de laboratorio químico, aquisição de material de consumo e permanente. - Treinamento de uma técnica em química e 2 alunos de iniciação científica - Tornar operacional um equipamento de vácuo (Magnetron-Sputtering). - Caracterização do filme de alumínio-silício depositado a vácuo no Magnetron. - Estudo de tecnologia Multi Chip Model (MCM-D) utilizando polimero Benzocyclobutene (BCB) para fabricação de circuitos de microondas. - Aprimoramento da tecnalogia de deposição química (electroless) da liga de Níquel -Fósforo e Ouro sobre substrato cerâmico do tipo alumina 96%. -. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Alunos envolvidos: Graduação: (2) / Especialização: (3) / Mestrado acadêmico: (1) / Mestrado profissional: (0) / Doutorado: (0) . , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Clovis Cabreira - Integrante / Eliana Anete Gomes - Integrante / Silas Yamamoto - Integrante., Financiador(es): Celestica do Brasil - Auxílio financeiro.

• 2004 - 2005

  Confecção de Prototipos Exploratórios., Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2003 - 2004

  Confecção de Microlentes na Extremidade da Fibra Óptica., Descrição: Confecção de Microlentes(Cunha e Angular) na extremidade da Fibra Óptica, através de polimento mecânico utilizando pastas diamantadas e lixas. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Wagner Alves Ribeiro Novaes - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa., Número de produções C, T & A: 5

• 2002 - 2005

  Desenvolvimento de Metalização Via Química de Níquel-Fósforo e Ouro sobre a Superfíce da Fibra Óptica, e adequação desta Tecnologia sobre a Superfície do Quartzo e da Alumina, Descrição: Estudo de soluções químicas de Níquel-Fósforo e Ouro,para obter filmes aderentes e uniformes sobre a superfície da Fibra Óptica, em laminas de Quartzo e sobre a Cerâmica do tipo Almnina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2005

  Desenvolvimento da Tecnologia de Metalização de Fibra Óptica por Processo Químico., Descrição: Metalizar via química a superfície da Fibra Óptica. Este processo consiste em: Limpeza,Microcorrosão,Nucleação e Deposição química de Níquel-Fósforo e Ouro.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2004

  Definição de Processo, Especificação e Aquisição de Insumos., Descrição: Definição de etapas do processo,especificação de materiais de consumo(vidraria,produtos químicos,materiais metálicos etc.) e permanentes Por Ex.:Estufa,Balança Analitica,pHmetro,Fonte de Corrente entre outros.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2001 - 2002

  Implantação de Laboratório Químico., Descrição: Montagem de laboratório químico que compreendeu: Confecção de bancada,Capela,Aquisição de material de consumo e material permanente.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 1993 - 1999

  Pesquisa e Desenvolvimento de Circuítos Multicamada, e Dispositivos de Ondas Acusticas Superficiais, Descrição: - Desenvolvimento de tecnologia para confeçcão de circuítos multicamada (MCM) utilizando dielétrico organico e base cerâmica. - Participação na transferência de tecnologia de tecnologia de fabricação de dispositivos SAW, para a fundação. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Integrante / A.M. Almeida - Integrante / J.P. Molina - Integrante / M.Barnett - Integrante / A.C.Pagoto - Integrante / M Helena - Integrante / Clovis Cabreira - Integrante / Celio Antônio Finardi - Coordenador.

• 1987 - 1992

  Pesquisa e Desenvolvimento de filmes finos, Descrição: - Desenvolvimento de filme de nitreto de silicio, atraves da técnica de deposição a vácuo pelo método Sputtering. - Desenvolvimento de tecnologia de metalização química (Electroless) de Níquel - Boro sobre superfície cerâmica do tipo alumina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / A.C.Pagoto - Integrante / A.Fissore - Integrante.

• 1972 - 1975

  Pesquisa e Desenvolvimento, Descrição: - Limpeza Química em superfícies de : Quartzo, Silício, Alumina, Latão, Alumínio, Ferrite e Cobre. - Metalização a vácuo pelo processo térmico de: Alumínio, Níquel- Cromo e Ouro. - Polimento Químico de: Latão, Cobre e Alumínio. - Corrosão química de: Cobre, Ouro, Prata, Níquel e Alumínio. - Deposição eletrolítica de Níquel, Cobre, Prata, e Ouro. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2010 - Atual

  Desenvolvimento de tecnologia MCM, Descrição: O processo em desenvolvimento para fabricação de dispositivos MCM-D é baseado na tecnologia de filme fino e dielétrico benzocyclobutene (BCB) e consiste atualmente de 90 etapas. A técnica de fabricação de placas multicamadas envolve uma sequência repetitiva de processos do tipo "plating" para deposição e configuração das camadas condutoras e dielétricas. O processamento consiste em; - Preparação dos substratos (limpeza e aumento de rugosidade) - Deposição da primeira camada condutora - Obtenção do elemento passivo - Aplicação do dielétrico - Abertura e preenchimento metálico deas vias - Transferência de padrões e definição dos condutores. , Situação: Em andamento; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2009 - 2009

  Nanotubos de Carbono: Ciência e Aplicações, Descrição: - Estudo bibliográfico sobre soluções químicas de Paládio (Pd) - Depositar filmes metálicos de Níquel-Fósforo (Ni-P) variando a temperatura o pH e o estabilizador. - Estudar o comportamento de diversas soluções químicas de Pd variando a concentração dos reagentes, temperatura e pH. - Verificar o comportamento da granulação do deposito dos filmes metálicos de Ni-P e Pd. - Medidas de resistência elètrica entre contatos do nanotubo revestidos com Pd. - Comportamento da resistência elètrica entre contatos do nanotubo metalizado com NI-P. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Stanislav - Integrante / Jacobus W. Swart - Integrante.

• 2005 - 2008

  Desenvolvimento de Tecnologia Microwave Integrated Circuit (MIC) aplicada a dispositivos de Radio Frequency (RF), Descrição: - Implantação de laboratorio químico, aquisição de material de consumo e permanente. - Treinamento de uma técnica em química e 2 alunos de iniciação científica - Tornar operacional um equipamento de vácuo (Magnetron-Sputtering). - Caracterização do filme de alumínio-silício depositado a vácuo no Magnetron. - Estudo de tecnologia Multi Chip Model (MCM-D) utilizando polimero Benzocyclobutene (BCB) para fabricação de circuitos de microondas. - Aprimoramento da tecnalogia de deposição química (electroless) da liga de Níquel -Fósforo e Ouro sobre substrato cerâmico do tipo alumina 96%. -. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Alunos envolvidos: Graduação: (2) / Especialização: (3) / Mestrado acadêmico: (1) / Mestrado profissional: (0) / Doutorado: (0) . , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Clovis Cabreira - Integrante / Eliana Anete Gomes - Integrante / Silas Yamamoto - Integrante., Financiador(es): Celestica do Brasil - Auxílio financeiro.

• 2004 - 2005

  Confecção de Prototipos Exploratórios., Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2003 - 2004

  Confecção de Microlentes na Extremidade da Fibra Óptica., Descrição: Confecção de Microlentes(Cunha e Angular) na extremidade da Fibra Óptica, através de polimento mecânico utilizando pastas diamantadas e lixas. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Wagner Alves Ribeiro Novaes - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa., Número de produções C, T & A: 5

• 2002 - 2005

  Desenvolvimento de Metalização Via Química de Níquel-Fósforo e Ouro sobre a Superfíce da Fibra Óptica, e adequação desta Tecnologia sobre a Superfície do Quartzo e da Alumina, Descrição: Estudo de soluções químicas de Níquel-Fósforo e Ouro,para obter filmes aderentes e uniformes sobre a superfície da Fibra Óptica, em laminas de Quartzo e sobre a Cerâmica do tipo Almnina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2005

  Desenvolvimento da Tecnologia de Metalização de Fibra Óptica por Processo Químico., Descrição: Metalizar via química a superfície da Fibra Óptica. Este processo consiste em: Limpeza,Microcorrosão,Nucleação e Deposição química de Níquel-Fósforo e Ouro.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2004

  Definição de Processo, Especificação e Aquisição de Insumos., Descrição: Definição de etapas do processo,especificação de materiais de consumo(vidraria,produtos químicos,materiais metálicos etc.) e permanentes Por Ex.:Estufa,Balança Analitica,pHmetro,Fonte de Corrente entre outros.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2001 - 2002

  Implantação de Laboratório Químico., Descrição: Montagem de laboratório químico que compreendeu: Confecção de bancada,Capela,Aquisição de material de consumo e material permanente.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 1993 - 1999

  Pesquisa e Desenvolvimento de Circuítos Multicamada, e Dispositivos de Ondas Acusticas Superficiais, Descrição: - Desenvolvimento de tecnologia para confeçcão de circuítos multicamada (MCM) utilizando dielétrico organico e base cerâmica. - Participação na transferência de tecnologia de tecnologia de fabricação de dispositivos SAW, para a fundação. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Integrante / A.M. Almeida - Integrante / J.P. Molina - Integrante / M.Barnett - Integrante / A.C.Pagoto - Integrante / M Helena - Integrante / Clovis Cabreira - Integrante / Celio Antônio Finardi - Coordenador.

• 1987 - 1992

  Pesquisa e Desenvolvimento de filmes finos, Descrição: - Desenvolvimento de filme de nitreto de silicio, atraves da técnica de deposição a vácuo pelo método Sputtering. - Desenvolvimento de tecnologia de metalização química (Electroless) de Níquel - Boro sobre superfície cerâmica do tipo alumina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / A.C.Pagoto - Integrante / A.Fissore - Integrante.

• 1972 - 1975

  Pesquisa e Desenvolvimento, Descrição: - Limpeza Química em superfícies de : Quartzo, Silício, Alumina, Latão, Alumínio, Ferrite e Cobre. - Metalização a vácuo pelo processo térmico de: Alumínio, Níquel- Cromo e Ouro. - Polimento Químico de: Latão, Cobre e Alumínio. - Corrosão química de: Cobre, Ouro, Prata, Níquel e Alumínio. - Deposição eletrolítica de Níquel, Cobre, Prata, e Ouro. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2010 - Atual

  Desenvolvimento de tecnologia MCM, Descrição: O processo em desenvolvimento para fabricação de dispositivos MCM-D é baseado na tecnologia de filme fino e dielétrico benzocyclobutene (BCB) e consiste atualmente de 90 etapas. A técnica de fabricação de placas multicamadas envolve uma sequência repetitiva de processos do tipo "plating" para deposição e configuração das camadas condutoras e dielétricas. O processamento consiste em; - Preparação dos substratos (limpeza e aumento de rugosidade) - Deposição da primeira camada condutora - Obtenção do elemento passivo - Aplicação do dielétrico - Abertura e preenchimento metálico deas vias - Transferência de padrões e definição dos condutores. , Situação: Em andamento; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2009 - 2009

  Nanotubos de Carbono: Ciência e Aplicações, Descrição: - Estudo bibliográfico sobre soluções químicas de Paládio (Pd) - Depositar filmes metálicos de Níquel-Fósforo (Ni-P) variando a temperatura o pH e o estabilizador. - Estudar o comportamento de diversas soluções químicas de Pd variando a concentração dos reagentes, temperatura e pH. - Verificar o comportamento da granulação do deposito dos filmes metálicos de Ni-P e Pd. - Medidas de resistência elètrica entre contatos do nanotubo revestidos com Pd. - Comportamento da resistência elètrica entre contatos do nanotubo metalizado com NI-P. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Stanislav - Integrante / Jacobus W. Swart - Integrante.

• 2005 - 2008

  Desenvolvimento de Tecnologia Microwave Integrated Circuit (MIC) aplicada a dispositivos de Radio Frequency (RF), Descrição: - Implantação de laboratorio químico, aquisição de material de consumo e permanente. - Treinamento de uma técnica em química e 2 alunos de iniciação científica - Tornar operacional um equipamento de vácuo (Magnetron-Sputtering). - Caracterização do filme de alumínio-silício depositado a vácuo no Magnetron. - Estudo de tecnologia Multi Chip Model (MCM-D) utilizando polimero Benzocyclobutene (BCB) para fabricação de circuitos de microondas. - Aprimoramento da tecnalogia de deposição química (electroless) da liga de Níquel -Fósforo e Ouro sobre substrato cerâmico do tipo alumina 96%. -. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Alunos envolvidos: Graduação: (2) / Especialização: (3) / Mestrado acadêmico: (1) / Mestrado profissional: (0) / Doutorado: (0) . , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Clovis Cabreira - Integrante / Eliana Anete Gomes - Integrante / Silas Yamamoto - Integrante., Financiador(es): Celestica do Brasil - Auxílio financeiro.

• 2004 - 2005

  Confecção de Prototipos Exploratórios., Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2003 - 2004

  Confecção de Microlentes na Extremidade da Fibra Óptica., Descrição: Confecção de Microlentes(Cunha e Angular) na extremidade da Fibra Óptica, através de polimento mecânico utilizando pastas diamantadas e lixas. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Wagner Alves Ribeiro Novaes - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa., Número de produções C, T & A: 5

• 2002 - 2005

  Desenvolvimento de Metalização Via Química de Níquel-Fósforo e Ouro sobre a Superfíce da Fibra Óptica, e adequação desta Tecnologia sobre a Superfície do Quartzo e da Alumina, Descrição: Estudo de soluções químicas de Níquel-Fósforo e Ouro,para obter filmes aderentes e uniformes sobre a superfície da Fibra Óptica, em laminas de Quartzo e sobre a Cerâmica do tipo Almnina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2005

  Desenvolvimento da Tecnologia de Metalização de Fibra Óptica por Processo Químico., Descrição: Metalizar via química a superfície da Fibra Óptica. Este processo consiste em: Limpeza,Microcorrosão,Nucleação e Deposição química de Níquel-Fósforo e Ouro.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2004

  Definição de Processo, Especificação e Aquisição de Insumos., Descrição: Definição de etapas do processo,especificação de materiais de consumo(vidraria,produtos químicos,materiais metálicos etc.) e permanentes Por Ex.:Estufa,Balança Analitica,pHmetro,Fonte de Corrente entre outros.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2001 - 2002

  Implantação de Laboratório Químico., Descrição: Montagem de laboratório químico que compreendeu: Confecção de bancada,Capela,Aquisição de material de consumo e material permanente.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 1993 - 1999

  Pesquisa e Desenvolvimento de Circuítos Multicamada, e Dispositivos de Ondas Acusticas Superficiais, Descrição: - Desenvolvimento de tecnologia para confeçcão de circuítos multicamada (MCM) utilizando dielétrico organico e base cerâmica. - Participação na transferência de tecnologia de tecnologia de fabricação de dispositivos SAW, para a fundação. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Integrante / A.M. Almeida - Integrante / J.P. Molina - Integrante / M.Barnett - Integrante / A.C.Pagoto - Integrante / M Helena - Integrante / Clovis Cabreira - Integrante / Celio Antônio Finardi - Coordenador.

• 1987 - 1992

  Pesquisa e Desenvolvimento de filmes finos, Descrição: - Desenvolvimento de filme de nitreto de silicio, atraves da técnica de deposição a vácuo pelo método Sputtering. - Desenvolvimento de tecnologia de metalização química (Electroless) de Níquel - Boro sobre superfície cerâmica do tipo alumina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / A.C.Pagoto - Integrante / A.Fissore - Integrante.

• 1972 - 1975

  Pesquisa e Desenvolvimento, Descrição: - Limpeza Química em superfícies de : Quartzo, Silício, Alumina, Latão, Alumínio, Ferrite e Cobre. - Metalização a vácuo pelo processo térmico de: Alumínio, Níquel- Cromo e Ouro. - Polimento Químico de: Latão, Cobre e Alumínio. - Corrosão química de: Cobre, Ouro, Prata, Níquel e Alumínio. - Deposição eletrolítica de Níquel, Cobre, Prata, e Ouro. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2010 - 2016

  Desenvolvimento de tecnologia MCM, Descrição: O processo em desenvolvimento para fabricação de dispositivos MCM-D é baseado na tecnologia de filme fino e dielétrico benzocyclobutene (BCB) e consiste atualmente de 90 etapas. A técnica de fabricação de placas multicamadas envolve uma sequência repetitiva de processos do tipo "plating" para deposição e configuração das camadas condutoras e dielétricas. O processamento consiste em; - Preparação dos substratos (limpeza e aumento de rugosidade) - Deposição da primeira camada condutora - Obtenção do elemento passivo - Aplicação do dielétrico - Abertura e preenchimento metálico deas vias - Transferência de padrões e definição dos condutores. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2009 - 2009

  Nanotubos de Carbono: Ciência e Aplicações, Descrição: - Estudo bibliográfico sobre soluções químicas de Paládio (Pd) - Depositar filmes metálicos de Níquel-Fósforo (Ni-P) variando a temperatura o pH e o estabilizador. - Estudar o comportamento de diversas soluções químicas de Pd variando a concentração dos reagentes, temperatura e pH. - Verificar o comportamento da granulação do deposito dos filmes metálicos de Ni-P e Pd. - Medidas de resistência elètrica entre contatos do nanotubo revestidos com Pd. - Comportamento da resistência elètrica entre contatos do nanotubo metalizado com NI-P. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Stanislav - Integrante / Jacobus W. Swart - Integrante.

• 2005 - 2008

  Desenvolvimento de Tecnologia Microwave Integrated Circuit (MIC) aplicada a dispositivos de Radio Frequency (RF), Descrição: - Implantação de laboratorio químico, aquisição de material de consumo e permanente. - Treinamento de uma técnica em química e 2 alunos de iniciação científica - Tornar operacional um equipamento de vácuo (Magnetron-Sputtering). - Caracterização do filme de alumínio-silício depositado a vácuo no Magnetron. - Estudo de tecnologia Multi Chip Model (MCM-D) utilizando polimero Benzocyclobutene (BCB) para fabricação de circuitos de microondas. - Aprimoramento da tecnalogia de deposição química (electroless) da liga de Níquel -Fósforo e Ouro sobre substrato cerâmico do tipo alumina 96%. -. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Alunos envolvidos: Graduação: (2) / Especialização: (3) / Mestrado acadêmico: (1) / Mestrado profissional: (0) / Doutorado: (0) . , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Clovis Cabreira - Integrante / Eliana Anete Gomes - Integrante / Silas Yamamoto - Integrante., Financiador(es): Celestica do Brasil - Auxílio financeiro.

• 2004 - 2005

  Confecção de Prototipos Exploratórios., Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2003 - 2004

  Confecção de Microlentes na Extremidade da Fibra Óptica., Descrição: Confecção de Microlentes(Cunha e Angular) na extremidade da Fibra Óptica, através de polimento mecânico utilizando pastas diamantadas e lixas. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Wagner Alves Ribeiro Novaes - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa., Número de produções C, T & A: 5

• 2002 - 2005

  Desenvolvimento de Metalização Via Química de Níquel-Fósforo e Ouro sobre a Superfíce da Fibra Óptica, e adequação desta Tecnologia sobre a Superfície do Quartzo e da Alumina, Descrição: Estudo de soluções químicas de Níquel-Fósforo e Ouro,para obter filmes aderentes e uniformes sobre a superfície da Fibra Óptica, em laminas de Quartzo e sobre a Cerâmica do tipo Almnina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2005

  Desenvolvimento da Tecnologia de Metalização de Fibra Óptica por Processo Químico., Descrição: Metalizar via química a superfície da Fibra Óptica. Este processo consiste em: Limpeza,Microcorrosão,Nucleação e Deposição química de Níquel-Fósforo e Ouro.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2004

  Definição de Processo, Especificação e Aquisição de Insumos., Descrição: Definição de etapas do processo,especificação de materiais de consumo(vidraria,produtos químicos,materiais metálicos etc.) e permanentes Por Ex.:Estufa,Balança Analitica,pHmetro,Fonte de Corrente entre outros.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2001 - 2002

  Implantação de Laboratório Químico., Descrição: Montagem de laboratório químico que compreendeu: Confecção de bancada,Capela,Aquisição de material de consumo e material permanente.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 1993 - 1999

  Pesquisa e Desenvolvimento de Circuítos Multicamada, e Dispositivos de Ondas Acusticas Superficiais, Descrição: - Desenvolvimento de tecnologia para confeçcão de circuítos multicamada (MCM) utilizando dielétrico organico e base cerâmica. - Participação na transferência de tecnologia de tecnologia de fabricação de dispositivos SAW, para a fundação. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Integrante / A.M. Almeida - Integrante / J.P. Molina - Integrante / M.Barnett - Integrante / A.C.Pagoto - Integrante / M Helena - Integrante / Clovis Cabreira - Integrante / Celio Antônio Finardi - Coordenador.

• 1987 - 1992

  Pesquisa e Desenvolvimento de filmes finos, Descrição: - Desenvolvimento de filme de nitreto de silicio, atraves da técnica de deposição a vácuo pelo método Sputtering. - Desenvolvimento de tecnologia de metalização química (Electroless) de Níquel - Boro sobre superfície cerâmica do tipo alumina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / A.C.Pagoto - Integrante / A.Fissore - Integrante.

• 1972 - 1975

  Pesquisa e Desenvolvimento, Descrição: - Limpeza Química em superfícies de : Quartzo, Silício, Alumina, Latão, Alumínio, Ferrite e Cobre. - Metalização a vácuo pelo processo térmico de: Alumínio, Níquel- Cromo e Ouro. - Polimento Químico de: Latão, Cobre e Alumínio. - Corrosão química de: Cobre, Ouro, Prata, Níquel e Alumínio. - Deposição eletrolítica de Níquel, Cobre, Prata, e Ouro. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2010 - 2016

  Desenvolvimento de tecnologia MCM, Descrição: O processo em desenvolvimento para fabricação de dispositivos MCM-D é baseado na tecnologia de filme fino e dielétrico benzocyclobutene (BCB) e consiste atualmente de 90 etapas. A técnica de fabricação de placas multicamadas envolve uma sequência repetitiva de processos do tipo "plating" para deposição e configuração das camadas condutoras e dielétricas. O processamento consiste em; - Preparação dos substratos (limpeza e aumento de rugosidade) - Deposição da primeira camada condutora - Obtenção do elemento passivo - Aplicação do dielétrico - Abertura e preenchimento metálico deas vias - Transferência de padrões e definição dos condutores. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento.

• 2009 - 2009

  Nanotubos de Carbono: Ciência e Aplicações, Descrição: - Estudo bibliográfico sobre soluções químicas de Paládio (Pd) - Depositar filmes metálicos de Níquel-Fósforo (Ni-P) variando a temperatura o pH e o estabilizador. - Estudar o comportamento de diversas soluções químicas de Pd variando a concentração dos reagentes, temperatura e pH. - Verificar o comportamento da granulação do deposito dos filmes metálicos de Ni-P e Pd. - Medidas de resistência elètrica entre contatos do nanotubo revestidos com Pd. - Comportamento da resistência elètrica entre contatos do nanotubo metalizado com NI-P. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento.

• 2005 - 2008

  Desenvolvimento de Tecnologia Microwave Integrated Circuit (MIC) aplicada a dispositivos de Radio Frequency (RF), Descrição: - Implantação de laboratorio químico, aquisição de material de consumo e permanente. - Treinamento de uma técnica em química e 2 alunos de iniciação científica - Tornar operacional um equipamento de vácuo (Magnetron-Sputtering). - Caracterização do filme de alumínio-silício depositado a vácuo no Magnetron. - Estudo de tecnologia Multi Chip Model (MCM-D) utilizando polimero Benzocyclobutene (BCB) para fabricação de circuitos de microondas. - Aprimoramento da tecnalogia de deposição química (electroless) da liga de Níquel -Fósforo e Ouro sobre substrato cerâmico do tipo alumina 96%. -. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Alunos envolvidos: Graduação: (2) / Especialização: (3) / Mestrado acadêmico: (1) / Mestrado profissional: (0) / Doutorado: (0) . , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Clovis Cabreira - Integrante / Eliana Anete Gomes - Integrante / Silas Yamamoto - Integrante.Financiador(es): Celestica do Brasil - Auxílio financeiro.

• 2004 - 2005

  Confecção de Prototipos Exploratórios., Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento.

• 2003 - 2004

  Confecção de Microlentes na Extremidade da Fibra Óptica., Descrição: Confecção de Microlentes(Cunha e Angular) na extremidade da Fibra Óptica, através de polimento mecânico utilizando pastas diamantadas e lixas. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento.

• 2002 - 2005

  Desenvolvimento de Metalização Via Química de Níquel-Fósforo e Ouro sobre a Superfíce da Fibra Óptica, e adequação desta Tecnologia sobre a Superfície do Quartzo e da Alumina, Descrição: Estudo de soluções químicas de Níquel-Fósforo e Ouro,para obter filmes aderentes e uniformes sobre a superfície da Fibra Óptica, em laminas de Quartzo e sobre a Cerâmica do tipo Almnina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento.

• 2001 - 2005

  Desenvolvimento da Tecnologia de Metalização de Fibra Óptica por Processo Químico., Descrição: Metalizar via química a superfície da Fibra Óptica. Este processo consiste em: Limpeza,Microcorrosão,Nucleação e Deposição química de Níquel-Fósforo e Ouro.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento.

• 2001 - 2004

  Definição de Processo, Especificação e Aquisição de Insumos., Descrição: Definição de etapas do processo,especificação de materiais de consumo(vidraria,produtos químicos,materiais metálicos etc.) e permanentes Por Ex.:Estufa,Balança Analitica,pHmetro,Fonte de Corrente entre outros.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento.

• 2001 - 2002

  Implantação de Laboratório Químico., Descrição: Montagem de laboratório químico que compreendeu: Confecção de bancada,Capela,Aquisição de material de consumo e material permanente.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento.

• 1993 - 1999

  Pesquisa e Desenvolvimento de Circuítos Multicamada, e Dispositivos de Ondas Acusticas Superficiais, Descrição: - Desenvolvimento de tecnologia para confeçcão de circuítos multicamada (MCM) utilizando dielétrico organico e base cerâmica. - Participação na transferência de tecnologia de tecnologia de fabricação de dispositivos SAW, para a fundação. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento.

• 1987 - 1992

  Pesquisa e Desenvolvimento de filmes finos, Descrição: - Desenvolvimento de filme de nitreto de silicio, atraves da técnica de deposição a vácuo pelo método Sputtering. - Desenvolvimento de tecnologia de metalização química (Electroless) de Níquel - Boro sobre superfície cerâmica do tipo alumina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento.

• 1972 - 1975

  Pesquisa e Desenvolvimento, Descrição: - Limpeza Química em superfícies de : Quartzo, Silício, Alumina, Latão, Alumínio, Ferrite e Cobre. - Metalização a vácuo pelo processo térmico de: Alumínio, Níquel- Cromo e Ouro. - Polimento Químico de: Latão, Cobre e Alumínio. - Corrosão química de: Cobre, Ouro, Prata, Níquel e Alumínio. - Deposição eletrolítica de Níquel, Cobre, Prata, e Ouro. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento.

• 2019 - 2021

  Obtenção de filmes finos de Cu para tecnologia MCM-D, Descrição: O projeto se insere na área de empacotamento eletrônico, dentro do contexto de desenvolvimento e caracterização de camadas depositadas de filmes finos para aplicação em dispositivos MCM-D (Muitichip Modules0. O presente estudo visa pesquisar em detalhes os parâmetros que influenciam uma das diversas etapas do processo de fabricação destes dispositivos a saber o filme de Cu depositado via química (electroless) tecnologia ainda indisponível no DEE, e proporcionara uma alternativa de menor custo em comparação a técnica de deposição atual que é ouro depositado eletrólise.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Integrante / R.C. Teixeira - Coordenador.

• 2010 - 2016

  Desenvolvimento de tecnologia MCM, Descrição: O processo em desenvolvimento para fabricação de dispositivos MCM-D é baseado na tecnologia de filme fino e dielétrico benzocyclobutene (BCB) e consiste atualmente de 90 etapas. A técnica de fabricação de placas multicamadas envolve uma sequência repetitiva de processos do tipo "plating" para deposição e configuração das camadas condutoras e dielétricas. O processamento consiste em; - Preparação dos substratos (limpeza e aumento de rugosidade) - Deposição da primeira camada condutora - Obtenção do elemento passivo - Aplicação do dielétrico - Abertura e preenchimento metálico deas vias - Transferência de padrões e definição dos condutores. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2009 - 2009

  Nanotubos de Carbono: Ciência e Aplicações, Descrição: - Estudo bibliográfico sobre soluções químicas de Paládio (Pd) - Depositar filmes metálicos de Níquel-Fósforo (Ni-P) variando a temperatura o pH e o estabilizador. - Estudar o comportamento de diversas soluções químicas de Pd variando a concentração dos reagentes, temperatura e pH. - Verificar o comportamento da granulação do deposito dos filmes metálicos de Ni-P e Pd. - Medidas de resistência elètrica entre contatos do nanotubo revestidos com Pd. - Comportamento da resistência elètrica entre contatos do nanotubo metalizado com NI-P. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Stanislav - Integrante / Jacobus W. Swart - Integrante.

• 2005 - 2008

  Desenvolvimento de Tecnologia Microwave Integrated Circuit (MIC) aplicada a dispositivos de Radio Frequency (RF), Descrição: - Implantação de laboratorio químico, aquisição de material de consumo e permanente. - Treinamento de uma técnica em química e 2 alunos de iniciação científica - Tornar operacional um equipamento de vácuo (Magnetron-Sputtering). - Caracterização do filme de alumínio-silício depositado a vácuo no Magnetron. - Estudo de tecnologia Multi Chip Model (MCM-D) utilizando polimero Benzocyclobutene (BCB) para fabricação de circuitos de microondas. - Aprimoramento da tecnalogia de deposição química (electroless) da liga de Níquel -Fósforo e Ouro sobre substrato cerâmico do tipo alumina 96%. -. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Alunos envolvidos: Graduação: (2) / Especialização: (3) / Mestrado acadêmico: (1) / Mestrado profissional: (0) / Doutorado: (0) . , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Clovis Cabreira - Integrante / Eliana Anete Gomes - Integrante / Silas Yamamoto - Integrante., Financiador(es): Celestica do Brasil - Auxílio financeiro.

• 2004 - 2005

  Confecção de Prototipos Exploratórios., Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2003 - 2004

  Confecção de Microlentes na Extremidade da Fibra Óptica., Descrição: Confecção de Microlentes(Cunha e Angular) na extremidade da Fibra Óptica, através de polimento mecânico utilizando pastas diamantadas e lixas. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Wagner Alves Ribeiro Novaes - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa., Número de produções C, T & A: 5

• 2002 - 2005

  Desenvolvimento de Metalização Via Química de Níquel-Fósforo e Ouro sobre a Superfíce da Fibra Óptica, e adequação desta Tecnologia sobre a Superfície do Quartzo e da Alumina, Descrição: Estudo de soluções químicas de Níquel-Fósforo e Ouro,para obter filmes aderentes e uniformes sobre a superfície da Fibra Óptica, em laminas de Quartzo e sobre a Cerâmica do tipo Almnina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2005

  Desenvolvimento da Tecnologia de Metalização de Fibra Óptica por Processo Químico., Descrição: Metalizar via química a superfície da Fibra Óptica. Este processo consiste em: Limpeza,Microcorrosão,Nucleação e Deposição química de Níquel-Fósforo e Ouro.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / Denise Furigo de Melo - Integrante., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 2001 - 2004

  Definição de Processo, Especificação e Aquisição de Insumos., Descrição: Definição de etapas do processo,especificação de materiais de consumo(vidraria,produtos químicos,materiais metálicos etc.) e permanentes Por Ex.:Estufa,Balança Analitica,pHmetro,Fonte de Corrente entre outros.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.

• 2001 - 2002

  Implantação de Laboratório Químico., Descrição: Montagem de laboratório químico que compreendeu: Confecção de bancada,Capela,Aquisição de material de consumo e material permanente.. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Bolsa.

• 1993 - 1999

  Pesquisa e Desenvolvimento de Circuítos Multicamada, e Dispositivos de Ondas Acusticas Superficiais, Descrição: - Desenvolvimento de tecnologia para confeçcão de circuítos multicamada (MCM) utilizando dielétrico organico e base cerâmica. - Participação na transferência de tecnologia de tecnologia de fabricação de dispositivos SAW, para a fundação. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Integrante / A.M. Almeida - Integrante / J.P. Molina - Integrante / M.Barnett - Integrante / A.C.Pagoto - Integrante / M Helena - Integrante / Clovis Cabreira - Integrante / Celio Antônio Finardi - Coordenador.

• 1987 - 1992

  Pesquisa e Desenvolvimento de filmes finos, Descrição: - Desenvolvimento de filme de nitreto de silicio, atraves da técnica de deposição a vácuo pelo método Sputtering. - Desenvolvimento de tecnologia de metalização química (Electroless) de Níquel - Boro sobre superfície cerâmica do tipo alumina 96%. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador / A.C.Pagoto - Integrante / A.Fissore - Integrante.

• 1972 - 1975

  Pesquisa e Desenvolvimento, Descrição: - Limpeza Química em superfícies de : Quartzo, Silício, Alumina, Latão, Alumínio, Ferrite e Cobre. - Metalização a vácuo pelo processo térmico de: Alumínio, Níquel- Cromo e Ouro. - Polimento Químico de: Latão, Cobre e Alumínio. - Corrosão química de: Cobre, Ouro, Prata, Níquel e Alumínio. - Deposição eletrolítica de Níquel, Cobre, Prata, e Ouro. , Situação: Concluído; Natureza: Desenvolvimento. , Integrantes: Alexander Flacker - Coordenador.