Benjamin Hamilton Stafford

Possui graduação em Physics and Chemistry of Advanced Materials pela Trinity College Dublin(2010), mestrado em Advanced Materials Science pela Technische Universität München(2012), doutorado em Physics pela Technische Universität Dresden(2018) e ensino-medio-segundo-grau pela Wesley College, Dublin(2006). Atualmente é Materials Science Editor da Matmatch GmbH. Tem experiência na área de Engenharia Elétrica, com ênfase em Materiais Elétricos.

Informações coletadas do Lattes em 28/10/2024

Acadêmico

Formação acadêmica

Doutorado em Physics

2012 - 2018

Technische Universität Dresden
Título: Novel Pinning Landscapes in ISD-Buffered Coated Conductors
Orientador: Ludwig Schultz
Coorientador: Bernhard Holzapfel.

Mestrado em Advanced Materials Science

2010 - 2012

Technische Universität München
Título: The novel epitaxial growth of vanadium oxide nanowires on iridium for investigation into the electronic and structural phase transition,Ano de Obtenção: 2012
Orientador: apl. Prof. Dr. Helmut Karl

Graduação em Physics and Chemistry of Advanced Materials

2006 - 2010

Trinity College Dublin

Ensino Médio (2º grau)

2000 - 2006

Wesley College, Dublin

Formação complementar

2017 - 2017

Intro to Python for Data Science. (Carga horária: 4h). , DataCamp, DATACAMP, Estados Unidos.

2017 - 2017

Learn to Program: The Fundamentals. (Carga horária: 56h). , University of Toronto, UTORONTO, Canadá.

2013 - 2013

Summer School on Materials and Applications. (Carga horária: 40h). , European Society for Applied Superconductivity, ESAS, Alemanha.

Idiomas

Bandeira representando o idioma Inglês

Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.

Bandeira representando o idioma Português

Compreende Pouco, Fala Pouco, Lê Pouco, Escreve Pouco.

Bandeira representando o idioma Alemão

Compreende Bem, Fala Bem, Lê Bem, Escreve Bem.

Áreas de atuação

Grande área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica / Subárea: Materiais Elétricos/Especialidade: Materiais e Dispositivos Supercondutores.

Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada.

Grande área: Engenharias / Área: Engenharia de Materiais e Metalúrgica.

Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Química / Subárea: Físico-Química/Especialidade: Química do Estado Condensado.

Grande área: Ciências Exatas e da Terra / Área: Física / Subárea: Física da Matéria Condensada/Especialidade: Materiais Dielétricos e Propriedades Dielétricas.

Produções bibliográficas

  • STAFFORD, B H ; SIEGER, M ; OTTOLINGER, R ; MELEDIN, A ; STRICKLAND, N M ; WIMBUSH, S C ; VAN TENDELOO, G ; HÜHNE, R ; SCHULTZ, L . Tilted BaHfO nanorod artificial pinning centres in REBCO films on inclined substrate deposited-MgO coated conductor templates. SUPERCONDUCTOR SCIENCE & TECHNOLOGY , v. 30, p. 055002, 2017.

  • SIEGER, MAX ; PAHLKE, PATRICK ; OTTOLINGER, RICK ; STAFFORD, BENJAMIN HAMILTON ; LAO, MAYRALUNA ; MELEDIN, ALEXANDER ; BAUER, MARKUS ; EISTERER, MICHAEL ; VAN TENDELOO, GUSTAAF ; SCHULTZ, LUDWIG ; NIELSCH, KORNELIUS ; HUHNE, RUBEN . Influence of Substrate Tilt Angle on the Incorporation of BaHfO3 in Thick YBa2Cu 3O7-δ Films. IEEE TRANSACTIONS ON APPLIED SUPERCONDUCTIVITY , v. 27, p. 1-4, 2017.

  • SIEGER, MAX ; PAHLKE, PATRICK ; LAO, MAYRALUNA ; EISTERER, MICHAEL ; MELEDIN, ALEXANDER ; VAN TENDELOO, GUSTAAF ; OTTOLINGER, RICK ; HANISCH, JENS ; HOLZAPFEL, BERNHARD ; USOSKIN, ALEXANDER ; KURSUMOVIC, AHMED ; MACMANUS-DRISCOLL, JUDITH L. ; STAFFORD, BENJAMIN H. ; BAUER, MARKUS ; NIELSCH, KORNELIUS ; SCHULTZ, LUDWIG ; HUHNE, RUBEN . Tailoring Microstructure and Superconducting Properties in Thick BaHfO3 and Ba2 Y(Nb/Ta)O6 Doped YBCO Films on Technical Templates. IEEE TRANSACTIONS ON APPLIED SUPERCONDUCTIVITY , v. 27, p. 1-7, 2017.

  • STAFFORD, BENJAMIN H. ; SIEGER, MAX ; TROSHYN, OLEKSIY ; HUHNE, RUBEN ; HANISCH, JENS ; BAUER, MARKUS ; HOLZAPFEL, BERNHARD ; SCHULTZ, LUDWIG . Pinning Centers in ISD-MgO Coated Conductors via EB-PVD. IEEE TRANSACTIONS ON APPLIED SUPERCONDUCTIVITY , v. 26, p. 1-5, 2016.

  • 2011 ARESTI, M. ; FERCHICHI, A. ; VAN BESIEN, E. ; STAFFORD, B. ; TROMPOUKIS, C. ; DE ROEST, D. ; BAKLANOV, M. . The influence of N containing plasmas on low-k films. MICROELECTRONIC ENGINEERING , v. 88, p. 627-630, 2011.

Histórico profissional

Experiência profissional

2012 - 2016

THEVA Dünnschichttechnik GmbH

Vínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Materials Scientist, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.

Outras informações:
Materials scientist developing thin film high-temperature superconducting tapes for use in energy applications

2018 - Atual

Matmatch GmbH

Vínculo: Celetista, Enquadramento Funcional: Materials Science Editor, Carga horária: 40, Regime: Dedicação exclusiva.