Steven Frederick Durrant

Pós-doutorado

Formação complementar

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Orientou

Produções bibliográficas

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Projetos de pesquisa

• 2018 - 2020

  Caracterização de Filmes Finos Complexos Obtidos por PECVD e a Deposição de Filmes Finos em Substratos Porosos, Descrição: FAPESP: 2017/15853-0 Camadas protetoras, hidrofóbicas, auto-limpantes e transparentes podem ser aplicadas em vidro usado em janelas. Assim, o vidro tratado é protegido, e sujeira na forma de particulados ou outros detritos tende a ser levado embora, por exemplo, por gotas de água de chuva, que correm na superfície vertical sob a ação de gravidade. Para tais funções a camada protetora deve ter boa aderência, resistência mecânica, hidrofobicidade e transparência na parte visível do espectro eletromagnético. Os métodos usuais para a produção de tais filmes envolvem a manipulação de diversas reagentes químicas e levam alguns dias. O método de PECVD é mais rápido, limpo e eficiente do que estes métodos. Filmes finos do tipo a-C:H:Si:O:N e a-C:H:Si:F:N, possuem potencial como camadas autolimpantes. Consequentemente, um vertente deste plano é a produção e caracterização de filmes deste tipo. A hidrofobicidade das superfícies dos filmes será avaliada a partir de medidas de ângulo de contato estático, de avanço e de recuo. Suas estequiometrias e estruturas químicas serão estudadas empregando Espectroscopia no Infravermelho (IRS) e Espectroscopia de Fotoelétrons de Raios-X (XPS), e Espectroscopia por Dispersão de Energia de Raios-X (EDS). Rugosidade será medida por Perfilometria, Microscopia de Forca Atômica (AFM) ou ambos. Morfologia superficial será estudada usando Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV). Propriedades ópticas e mecânicas serão delineadas a partir de medidas obtidas por Espectroscopia no Ultravioleta-Visível Infravermelho Próximo (UVS) e Nano-indentação, respectivamente. Estas propriedades serão investigadas em função da pressão parcial de N2, O2 e SF6 na alimentação, designada PN, PO e PS, respectivamente. Numa segunda linha de pesquisa, o PECVD e o sputtering de filmes a-C:H:Si:O:N, a-C:H:Si:F:N e similares em substratos com graus diferentes de porosidade serão estudados. Falta verificar o tamanho de poro mínimo em que é possível depositar material a plasma e elucidar sua dependência nos parâmetros de deposição (pressão, potência aplicada, etc.). Além destes estudos fundamentais, o PECVD será comparado com sputtering de alvos de polímeros como politetrafluoroetileno (PTFE) e silicone para a produção de filmes a-C:H:Si:O:N, a-C:H:Si:F:N e similares. Para os mesmos materiais substratos porosos de aço inoxidável, bronze ou polímeros convencionais, podem servir como andaimes para material auto-limpante. Uma outra aplicação de filmes contendo silício depositado em substratos porosos é como uma camada antirreflexo. A possibilidade de depositar prata por sputtering em estruturas porosas para agir como barreiras anti-bacteriana também será investigada.. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Graduação: (2) / Doutorado: (2) . , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 2015 - 2017

  Caracterização de Superfícies Cloradas a Plasma e de Filmes Finos Clorados Depositados a Plasma FAPESP 2014/21594-9, Descrição: Projeto Regular da FAPESP # 2014/21594-9, Caracterização de Superfícies Cloradas a Plasma e de Filmes Finos Clorados Depositados a Plasma. A deposição de filmes finos amorfos clorados e a cloração de superfícies a plasma têm diversas aplicações, entre outras, em biomateriais, na modificação de tecidos, e na produção de filmes de silício hidrogenado com excelentes características elétricas. A presente proposta visa primeira a produção de superfícies cloradas a plasma e o estudo da estrutura química e a estequiometria destas superfícies em função dos parâmetros do processo, tais como os gases usados e seus fluxos, a potência aplicada e o tempo de exposição. Serão investigadas as influências da estrutura química em propriedades como a morfologia, a rugosidade e o ângulo de contato. Uma segunda vertente do plano é a produção por Deposição a Vapor Químico Assistido por Plasma (PECVD) de filmes finos de carbono amorfo hidrogenado e clorado e similares. Assim, os filmes serão tais como a-C:H:Cl, a-C:H:N:Cl e a-C:H:Si:Cl, que podem ser produzidos a partir de plasmas de compostos como C2H5OH e comonômeros clorados como CHCl3 ou CCl4, ou monômeros como C2H2Cl4, com ou sem um gás plasmogênico. Em relação aos filmes, suas composições elementares e estruturas químicas serão investigadas, através de espectroscopias no de Transformada de Fourier no infravermelho e de Fotoelétrons elétrons de Raios-X (FTIR e XPS) em função dos parâmetros do sistema (tipo de gases, fluxos, potência aplicada, etc.). É pleiteada uma sonda óptica para determinar as espessuras dos filmes com rapidez e boa exatidão. Microscopia de Força Atômica será empregada para examinar a morfologia e rugosidade das superfícies tratadas e dos filmes depositados. Para os filmes, Espectroscopia ultravioleta-visível (UVS) também será usada (Perkin Elmer, modelo Lambda 750), na faixa de comprimento de onda de 200 nm a 3300 nm, para obter espectros de transmitância. A partir destes espectros e medidas da espessura dos filmes, obtido por perfilometria, será calculado o índice de refração, n, o coeficiente de absorção, (E), e o gap óptico, ETauc ou E04, dos materiais. O uso de modelos semi-empíricos permitirá vincular a estrutura química dos filmes clorados com suas propriedades ópticas.. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Graduação: (3) / Mestrado acadêmico: (3) / Doutorado: (3) . , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 2015 - 2015

  Visita Técnica ao Universidade de Bari, Bari, Itália, Descrição: Auxílio do PROPG da UNESP para uma visita de 15 dias ao Grupo de Pesquisa do Prof. Dr. Francesco Fracssi, Departamento de Química, Universidade de Bari, Bari, Itália.. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador / Francesco Fracassi - Integrante.

• 2014 - 2014

  Apoio para publicação (FUNDUNESP) Número 0685/011/14-PROPe/CDC, Descrição: R$ 1.500,00 para publicação do artigo Cell Adhesion to Plasma-Coated PVC por Rangel, EC, De Souza, ES. De Moraes, FS, Duek, EAR, Lucchesi, C, Schreiner, WH, Durrant, SF e Cruz, NC em The Scientific World Journal, 2014 (http://dx.doi.org/10.1155/2014/132308).. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 2013 - 2016

  Bolsa de produtividade do CNPq II: Propriedades Químicas e Ópticas de Filmes Finos a-C:H:X e Similares Obtidos por Deposição à Vapor Química Assistido por Plasma e Deposição e Implantação Iônica por Imersão em Plasma, Descrição: Proc. 301622/2012-4. As técnicas de Deposição a Vapor Químico Assistido por Plasma (PECVD) e Deposição e Implantação Iônica por Imersão em Plasma (PIIID) serão empregadas para produzir filmes finos de carbono amorfo hidrogenado, halogenado, a-C:H:X, onde ?a? denota amorfo e X é um halogênio, e filmes similares como a-C:H:Si:X. A Espectroscopia no Infravermelho por Transformada de Fourier (designado FTIR do Inglês Fourier Transform Infrared Spectroscopy) e a Espectroscopia de Foto-elétrons de Raios-X (designado XPS do Inglês X-ray Photoelectron Spectroscopy) serão empregadas para investigar a estrutura e composição química dos filmes. A partir de espectros obtidos por Espectroscopia no Ultravioleta-visível-infravermelho Próximo (UVS), propriedades ópticas dos filmes, como o índice de refração, n, coeficiente de absorção, (E), e gap óptico, Eg, serão calculados. Variáveis importantes serão o método de deposição (PECVD ou PIIID) e o grau de halogenação do filme. Valores teóricos de Eg calculados a partir de modelos da estrutura química do filme e da estrutura das bandas de energias eletrônicas serão comparados com valores obtidos experimentalmente. Este tipo de modelagem é inédita para filmes do tipo a-C:H:X, onde X é Cl ou Br. Filmes produzidos pelas duas técnicas em condições similares podem resultar em estruturas químicas parecidas mas com propriedades físicas distintas, que possuem potencial em aplicações. Tipicamente, por exemplo, a técnica PIIID resulta em filmes mais duros, lisos e hidrofílicos do que similares produzidos por PECVD, sugerindo aplicações como camadas protetoras.. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Graduação: (1) / Mestrado acadêmico: (1) / Doutorado: (1) . , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 2012 - 2014

  Filmes Finos de Carbono Amorfo Hidrogenado contendo também Halogênios Fabricados por Deposição à Vapor Química Assistido por Plasma (PECVD) e Deposição e Implantação Iônica por Imersão em Plasma (PIIID) FAPESP 2011/21345-0, Descrição: Serão produzidos por Deposição a Vapor Químico Assistido por Plasma (PECVD) e Deposição e Implantação Iônica por Imersão em Plasma (PIIID) filmes finos de carbono amorfo hidrogenado, halogenado, a-C:H:X, onde X é um halogênio, e similares como a-C:H:Si:X. A estrutura e composição química destes filmes serão caracterizadas por Espectroscopia de Foto-elétrons de Raios-X (XPS) e Espectroscopia no Infravermelho por Transformada de Fourier (FTIR). Propriedades ópticas dos filmes, como o índice de refração, coeficiente de absorção e gap óptico, serão calculados a partir de dados obtidos por Espectroscopia no Ultravioleta-visivel-infravermelho próximo (UVS). É pleiteado um acessório para permitir obter espectros de refletância com o espectrofotômetro, que permitirão estes cálculos mesmo na ausência de franjas de interferência nos espectros de transmitância, que é uma restrição no método comumente empregado. As propriedades ópticas calculadas, como a gap óptico, Eg, serão determinadas em função do grau de halogenação do filme e o tipo de deposição (PECVD ou PIIID). Os valores experimentais de Eg serão comparados com valores calculados a partir de modelos da estrutura química do filme e da estrutura das bandas de energias eletrônicas. Este tipo de modelagem é inédita para filmes do tipo a-C:H:Cl e a-C:H:Br. Filmes produzidos pelas duas técnicas em condições similares podem resultar em estruturas químicas parecidas mas propriedades físicas distintas, que possuem potencial em aplicações. Possivelmente, por exemplo, a técnica PIIID pode produzir filmes mais duros, lisos e hidrofílicos do que similares produzidos por PECVD. A energia de superfície dos filmes será calculada a partir de medidas de ângulo de contato.. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Graduação: (1) / Mestrado acadêmico: (1) / Doutorado: (1) . , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 2011 - 2011

  PICR (Programa de Incentivo a Captacao de Recursos da UNESP), Descrição: R$2000,00. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 2010 - 2013

  Bolsa de Produtividade do CNPq II: Os efeitos da implantação iônica em filmes finos depositados à plasma, Descrição: Projeto investigando os efeitos de implantação iônica por imersão em plasma nas propriedades químicas e físicas de filmes finos. A implantação pode causar mudanças em composição e estrutura química, além de compactação, perda de espécies voláteis, e modificação de propriedades como índice de refração e gap óptico.. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 2010 - 2011

  Infraestrutura Institucional de Pesquisa (FAPESP, projeto 2010/52007-0), Descrição: R$ 54.524,87 para a melhoria da infra-estrutura de laboratórios do campus Experimental de Sorocaba, UNESP, Sorocaba, SP FAPESP, projeto 2010/52007-0. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 2009 - 2011

  Efeitos da Implantação Iônica em Filmes Finos Amorfos Complexos Produzidos por PECVD (Deposição à Vapor Química Assistido por Plasma) FAPESP 2008/11008-4, Descrição: O processo de Deposição à Vapor Químico Assistido por Plasma (PECVD) será usado para a produção de filmes finos a partir de monômeros como clorobenzeno, ou monômeros junto com comonomeros como hexametildisiloxano e hexafluoreto de enxofre. A estrutura e composição química destes filmes além de suas propriedades ópticas serão investigadas em função dos parâmetros do sistema como a pressão e a potência aplicada ou a proporção do comonomero na mistura de gases. Serão investigados os efeitos da implantação iônica por imersão em plasmas com hélio, argônio ou similares nestas propriedades. As estruturas químicas dos filmes serão examinadas por técnicas como espectroscopia de infravermelho (IRS) e espectroscopia de foto-elétrons de raios-X (XPS). É pleiteado um espectrofotômetro operando na faixa de 190 nm a 3300 nm (região ultravioletavisível- infravermelho próximo (UVS)). A partir dos dados espectrais obtidos nesta faixa de comprimento de onda, será obtido o índice de refração, o coeficiente de absorção e o gap óptico dos filmes. As correlações entre as propriedades ópticas e a estrutura e composição química dos filmes serão delineadas e interpretadas empregando modelos moleculares.. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador., Financiador(es): Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Auxílio financeiro.

• 2009 - 2009

  PICR (Programa de Incentivo a Captacao de Recursos (UNESP), Descrição: R$ 4000,00. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador., Financiador(es): Universidade Estadual Paulista Júlio de Mesquita Filho - Auxílio financeiro.

• 2008 - 2008

  PICR (Programa de Incentivo a Captacao de Recursos (UNESP), Descrição: Projeto 517 PICR R$4.376,69. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador., Financiador(es): Universidade Estadual Paulista Júlio de Mesquita Filho - Auxílio financeiro.

• 2007 - 2010

  Bolsa de Produtividade do CNPq II: Filmes finos produzidos por duas tecnicas de deposição a vapor químico, Descrição: (Processo 306851/2006-7) Producao de oxidos de metais de transicao por hot filament metal oxide CVD e a caracterizacao dos mesmos. Efeitos de implantação ionica em filmes finos obtidos por PECVD. Os efeitos da implantacao ionica em filmes finos produzidos por PECVD. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Graduação: (1) . , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 2006 - 2008

  Caracterização de filmes finos amorfos produzidos por deposição a vapor químico (FAPESP 2005/02797-7), Descrição: A fabricacao de filmes finos por PECVD e sua caracterizacao empregando espectroscopia de infravermelho e espectroscopia de fotoeletrons de raios-x. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Alunos envolvidos: Graduação: (1) . , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 2006 - 2006

  Vindo de um Professor Visitante ao LapTec do campus Experimental de Sorocaba (FUNDUNESP) Processo 00188/06-DFP, Descrição: Visita do Prof. Dr. Mario A. Bica de Moraes com o Grupo de Plasmas Tecnologicos. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 2005 - 2006

  Aplicação da Eletrocapliiaridade na Manipulação de Microgotas (CNPq) Colaborador processo 474004/2004-0, Descrição: Projeto envolvendo PECVD. Projeto liderado por Prof. Dr. Nilson C. da Cruz. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Integrante / EC Rangel - Integrante / Nilson C. da Cruz - Coordenador.

• 2004 - 2005

  Síntese e caracterização de filmes finos por deposição à vapor químico (FUNDUNESP), Descrição: Síntese e caracterização de filmes finos produzidos por PECVD (Deposição à vapor químico assistido por plasma)no Laptec (Laboratório de Plasmas Tecnológicos). , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 1988 - 1989

  Bolsa de doutorado, Descrição: Bolsa de doutorado de 12 meses do Birthright, comecando em 1988.. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 1987 - 1988

  Bolsa de doutorado, Descrição: Bolsa de doutorado de 12 meses do BP International, comecando em 1987.. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 1982 - 1985

  Efeitos de redes de proteção contra granizo, Descrição: Examinação da eficacia de redes de proteção contra os impactos de granizo. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

• 1982 - 1985

  Análise da distribuição da densidade numerica e energia de impacto de granizo em Pretoria e em Africa do Sul, Descrição: Analise da distribuição de granizo em Pretorio e em 100 cidades em Africa do Sul. , Situação: Concluído; Natureza: Pesquisa. , Integrantes: Steven Frederick Durrant - Coordenador.

Prêmios