Rodrigo Reigota Cesar

Rodrigo Reigota César possui graduação em Eletroeletrônica - Modalidade Automação Industrial pela Faculdade de Tecnologia - Centro Paula Souza (Fatec - Tatuí), licenciatura em Física, Mestrado em Engenharia Elétrica e Doutorado em Engenharia Elétrica pela Universidade Estadual de Campinas (Unicamp), em 2012, 2019, 2014 e 2020, respectivamente. Entre 2019 e 2021 realizou o primeiro Pós-Doc no Núcleo de Empacotamento Eletrônico ? NEE - DIMES, pertencente ao Centro de Tecnologia da Informação Renato Archer (CTI), com bolsa da Cnpq. Durante este período, atuo em vários projetos de suporte em pesquisa dentro do CTI. As suas pesquisas continuam sendo executadas no CCSNano e no CTI. Desde 2021 está realizando o segundo Pós-Doc pelo Instituto Eldorado, vinculado ao CCSNano. Neste projeto está sendo supervisionado pelo Prof. Dr. José Alexandre Diniz. Este projeto consiste em desenvolver capacitores em substrato de carbeto de silício (SiC) para aplicação em motores elétricos. Tem experiência na área de Microeletrônica, com ênfase em Micro e Nano fabricações em sensores eletroquímicos baseados na tecnologias MOS e deposição de filmes finos pela técnica sputtering.

Informações coletadas do Lattes em 05/03/2025

Acadêmico

Formação acadêmica

Doutorado em Doutorado em Engenharia Elétrica - UNICAMP

2014 - 2020

Universidade Estadual de Campinas
Título: Desenvolvimento de dispositivos de efeito de campo sensível a íons (EIS e ISFET) com diferentes eletrodos (Al, Al2O3/Al, Grafeno/TiN, TiN e Au/Ti) de referência
José Alexandre Diniz. Bolsista do(a): Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior, CAPES, Brasil. Palavras-chave: sputtering; TiO2; ISFET; EIS; electrolyte Insulator Semiconductor; EIS capacitor. Grande área: OutrosGrande Área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica / Subárea: Sensores quimicos.

Mestrado em Engenharia Elétrica

2012 - 2014

Universidade Estadual de Campinas
Título: Camadas Barreiras Dielétricas para Sistemas Multiníveis de Interconexão, Ano de Obtenção: 2015
Jacobus Willibrordus Swart.Bolsista do(a): Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico, CNPq, Brasil. Palavras-chave: TiO2; MOS capacitor; electrolyte Insulator Semiconductor; EIS capacitor; sputtering; thin films. Grande área: Engenharias

Graduação em Eletroeletrônica - Modalidade Automação Industrial

2009 - 2012

FATEC - Centro Paula Souza

Curso técnico/profissionalizante

2008 - 2009

ETEC Centro Paula Souza

Ensino Médio (2º grau)

2005 - 2007

Colégio Cidade Itapetininga

Pós-doutorado

2023

Pós-Doutorado. , Centro de Componentes Semicondutores e Nanotecnologias, CCSNANO, Brasil. , Bolsista do(a): FUNDAÇÃO DE DESENVOLVIMENTO DA PESQUISA, FUNDEP, Brasil. , Grande área: Engenharias, Grande Área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica / Subárea: Semiconductor.

2021 - 2023

Pós-Doutorado. , Centro de Componentes Semicondutores e Nanotecnologias, CCSNANO, Brasil. , Bolsista do(a): Bolsa Pesquisa Empresa, SAE - UNICAMP, Brasil. , Grande área: Engenharias, Grande Área: Outros / Área: Microeletrônica.

2018 - 2021

Pós-Doutorado. , Centro de Tecnologia da Informação Renato Archer, CTI, Brasil. , Bolsista do(a): Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico, CNPq, Brasil. , Grande área: Engenharias, Grande Área: Outros / Área: Microeletrônica.

Formação complementar

2012 -

AutoCAD 2D. (Carga horária: 60h). , SENAI Sorocaba, SENAI, Brasil.

2010 - 2010

Hidráulica e Pnumática Industrial. (Carga horária: 60h). , SENAI Sorocaba, SENAI, Brasil.

Idiomas

Bandeira representando o idioma Inglês

Compreende Razoavelmente, Fala Razoavelmente, Lê Razoavelmente, Escreve Razoavelmente.

Áreas de atuação

Grande área: Engenharias / Área: Engenharia Elétrica.

Participação em eventos

4° Simpósio de Tecnologia de Tatuí. 2009. (Simpósio).

3º Simpósio de Tecnologia. 2008. (Simpósio).

Produções bibliográficas

  • CÉSAR, R.R. ; BARROS, A.D. ; NASCIMENTO, R.O. ; ALVES, O.L. ; DOI, I. ; DINIZ, J.A. ; SWART, J.W. . Electrolyte-Insulator-Semiconductor Structure for Pb+ Detecting. PROCEDIA ENGINEERING , v. 87, p. 188-191, 2014.

  • CÉSAR, R. R. ; MEDEROS, M. ; CIOLDIN, F. H. ; BERALDO, R. M. ; TEIXEIRA, R. C. ; MINAMISAWA, R. A. ; DINIZ, J. A. . SF /O plasma for ICP/RIE SiC Etching. In: 2024 38th Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2024, Joao Pessoa. 2024 38th Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2024. p. 1.

  • CÉSAR, R. R. ; MEDEROS, M. ; JOANNI, E. ; ANDRADE, V. M. ; TEIXEIRA, R. C. ; DINIZ, J. A. . Development of resistors with Ta <sub>x</sub> N <sub>y</sub> deposited by RF sputtering using lithography technique. In: 2023 37th Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2023, Rio de Janeiro. 2023 37th Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2023. p. 1.

  • TEIXEIRA, RICARDO COTRIN ; FLACKER, ALEXANDER ; MAIOLINI, GIULIANO ; CESAR, RODRIGO REIGOTA ; MIRON, GUILHERME CARTAGENA ; CORDIOLI, JULIO APOLINARIO . Assembly of Piezoelectric MEMS Vibration Sensor for Cochlear Implant. In: 2023 37th Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2023, Rio de Janeiro. 2023 37th Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2023. p. 1.

  • CESAR, R. R. ; PASCON, A. M. ; DINIZ, J. A. ; JOANNI, E. ; MEDEROS, M. ; TEXEIRA, R. C. . Comparasion between TiO thin films deposited by DC and RF sputtering.. In: 2019 34th Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2019, Sao Paulo. 2019 34th Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2019. p. 1.

  • CESAR, R. R. ; BARROS, A. D. ; DOI, I. ; DINIZ, J. A. ; SWART, J. W. . Electrolyte-insulator-semiconductor structure (EIS) with TiO 2 thin film for Pb detecting. In: 2016 31st Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2016, Belo Horizonte. 2016 31st Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2016. p. 1.

  • CESAR, R. R. ; BARROS, A. D. ; DOI, I. ; DINIZ, J. A. ; SWART, J. W. . Thin titanium oxide films obtained by RTP and by sputtering. In: 2014 29th Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2014, Aracaju. 2014 29th Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2014. p. 1.

  • CESAR, R. R. ; BARROS, A. D. ; DOI, I. ; DINIZ, J. A. ; SWART, J. W. . Electrolyte-Insulator-Semiconductor field effect device for pH detecting. In: 2014 29th Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2014, Aracaju. 2014 29th Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), 2014. p. 1.

  • CÉSAR, R.R. ; MEDEROS, M. ; TEIXEIRA, R.C. ; DINIZ, J.A. . Flat band voltage (VFB) drift by integrated reference electrode work function in Electrolyte Insulator Semiconductor (EIS) devices. MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS , 2023.

  • CÉSAR, RODRIGO REIGOTA ; DINIZ, JOSE ALEXANDRE ; VIDAL, MELISSA ; COTRIN, RICARDO ; MASSAROTO, RENTAO . Electrolyte-Insulator-Semiconductor (EIS) Device with Hafnium Dioxide (HfO <sub>2</sub> ) for pH Detecting. ECS Meeting Abstracts , 2023.

  • DINIZ, JOSE ALEXANDRE ; CÉSAR, RODRIGO REIGOTA ; BARROS, ANGELICA DENARDI ; SOUZA, JAIR FERNANDES ; SOUTO, HUZIEL RAMOS ; RUFINO, FERNANDO CESAR ; MASSAROTO, RENTAO ; SWART, JACOBUS W . (Invited) ISFET-Based Sensors. ECS Meeting Abstracts , 2023.

  • CÉSAR, RODRIGO REIGOTA ; PASCON, ALINE MARIA ; DOI, IOSHIAKI ; DINIZ, JOSÉ ALEXANDRE . Electrolyte-insulator-semiconductor devices with different integrated reference electrodes for <i>p</i> H detection. Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures , 2018.

  • CÉSAR, R. R. . HfO2 deposited by RF sputtering for SiC MOS capacitor application. 2023. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

  • CÉSAR, R. R. ; DINIZ, J. A. ; DOI, I. ; A. M. Pascon . Electrolyte-Insulator-Semiconductor (EIS) device with different integrated reference electrodes for pH detecting. 2017. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

  • CÉSAR, R. R. ; DINIZ, J. A. ; DOI, I. ; SWART, J. W. . Electrolyte-Insulator-Semiconductor device with integrated titanium nitride reference electrode for pH detecting.. 2017. (Apresentação de Trabalho/Simpósio).

  • CÉSAR, R. R. ; BARROS, A. D. ; DOI, I. ; DINIZ, J. A. ; SWART, J. W. ; ROSA, A. . Structural and electrical characterization of titanium oxynitride deposited by reactive magnetron sputtering. 2015. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

  • CÉSAR, R. R. ; BARROS, A. D. ; DOI, I. ; DINIZ, J. A. ; SWART, J. W. . Electrolyte-Insulator-Semiconductor field effect device for pH detecting. 2014. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

  • CÉSAR, R. R. ; BARROS, A. D. ; DOI, I. ; DINIZ, J. A. ; SWART, J. W. . Thin titanium oxide films obtained by RTP and by Sputtering. 2014. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

  • CÉSAR, R. R. ; BARROS, A. D. ; DINIZ, J. A. ; NASCIMENTO, R. O. ; ALVEZ, O. L. ; SWART, J. W. . Electrolyte Insulator Semiconductor structure for Pb+ detecting. 2014. (Apresentação de Trabalho/Congresso).

Outras produções

CÉSAR, R. R. ; DINIZ, J. A. . Dispositivo criado na Unicamp indica a concentração de chumbo na água. 2015. (Programa de rádio ou TV/Entrevista).

CÉSAR, R. R. ; DINIZ, J. A. . Transistor de silício detecta presença de chumbo na água. 2014. (Programa de rádio ou TV/Entrevista).

Histórico profissional

Endereço profissional

  • Centro de Componentes Semicondutores e Nanotecnologias. , João Pandiá Calógeras, 90, Cidade Universitária, 13069901 - Campinas, SP - Brasil - Caixa-postal: 18214385, Telefone: (19) 35217282, URL da Homepage: