Dispositivo e processo para comandar uma válvula injetora de combustível piezocontrolada

Número do pedido da patente:
PI 9808917-0 A2

Data do depósito:
20/03/1998

Data da publicação:
01/08/2000

Prioridade unionista:

País	Número	Data
ALEMANHA	197 11 903.4	21/03/1997

Inventores:

Klaus Egger

Christian Hoffmann

Wendeln Kluegl

Hellmut Freudenberg

Detlev Schoeppe

Classificação:
H01L 41/04

Dispositivos piezoel?tricos, em geral; Dispositivos eletrostritivos em geral; Dispositivos magnetostritivos em geral; Processos ou aparelhos especialmente adaptados para a fabricação ou tratamento desses dispositivos ou de suas partes; Detalhes dos mesmos; / Detalhes; / de elementos piezoel?tricos ou eletrostritivos;

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Nome do depositante:
Siemens Aktiengesellschaft

Nome do procurador:
Dannemann, Siemsen, Bigler & Ipanema Moreira

Início da fase nacional:
17/09/1999

PCT:
Número: DE9800837 Data:20/03/1998

WO:
Número: 98/43305 Data: 01/10/1998

Patente de Invenção:. "DISPOSITIVO E PROCESSO PARA COMANDAR UMA VÁLVULA INJETORA DE COMBUSTÍVEL PIEZOCONTROLADA". . Paralelamente ao piezoelemento de ajuste P1, acha-se conectado um dispositivo de descarga S1 constituído por um comutador power-MOSFET T1, dispositivo este que também é colocado no estado condutível por uma instalação de monitoramento WD que também está conectada em paralelo ao piezoelemento de ajuste, quando a duração de abertura ta do piezoelemento de ajuste P1 ultrapassar um tempo predeterminado de monitoramento ts. O dispositivo de descarga S1 e a instalação de monitoramento WD são configurados como circuito integrado (ASIC) e estão integrados na caixa de válvula.