Aparelho e processos de água ativada

  • Número do pedido da patente:
  • PI 0116541-0 A2
  • Data do depósito:
  • 20/12/2001
  • Data da publicação:
  • 07/10/2003
  • Prioridade unionista:
  • País Número Data
    ESTADOS UNIDOS ESTADOS UNIDOS 60/258,208 27/12/2000
Inventores:
  • Classificação:
  • B01J 19/08
    Processos qu?micos, f?sicos ou f?sico-qu?micos em geral; Aparelho para esses processos; / Processos que empregam a aplica??o direta de energia el?trica, ou de onda ou radia??o de part?culas; Aparelhos para estes fins;
    ;
    H05F 3/00
    Elimina??o de cargas eletrost?ticas;
    ;
  • Início da fase nacional:
  • 25/06/2003
  • PCT:
  • Número: US0149310 Data:20/12/2001
  • WO:
  • Número: 02/058449 Data: 01/08/2002

"APARELHO E PROCESSOS DE ÁGUA ATIVADA". A presente invenção refere-se a um aparelho que submete água às ondas de um plasma de RF. Isto permite produção contínua de "água ativada" caracterizado por tamanhos de agrupamento abaixo de cerca de 4 moléculas por agrupamento, água tendo pH abaixo de 4 ou acima de 10 ou água tendo ORP de menos que -350 mV ou mais do que +800 mV. A freqüência básica do plasma está de preferência entre 0,44 MHz e 40,68 MHz e o plasma é de preferência modulada a uma freqüência entre 10 kHz e 34 kHz. As taxas de fluxo tipicamente variam de 20 I/hora a cerca de 2.000 I/hora. Água ativada pode ser usada para muitos propósitos, incluindo limpeza antimicrobial de superfícies de trabalho, piso, parede, faca, transporte e outras superfícies, por exemplo, nas instalações de processamento de carne e hospitais.

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