Agfa-Gevaert Ag - Patentes

Propriedade Intelectual

Patentes 15
Tipo Título Data depósito
TITULAR Método e aparelho para asperizar um suporte para revestimentos sensíveis à irradiação 21/12/1999
DEPOSITANTE Polímeros com unidades de maleimida n-substituída e sua aplicação em misturas sensíveis à radiação. 29/01/1999
DEPOSITANTE Revelador para materiais de registro sensíveis à radiação irradiados. 14/12/1998
TITULAR Mistura sensível à radiação 14/12/1995
DEPOSITANTE Patente nº PI 9503065-4 03/07/1995
DEPOSITANTE Mistura sensível à radiação que trabalha positivamente e material de desenho com um veículo e uma camada sensível à radiação 27/04/1995
DEPOSITANTE Compostos, mistura sensível à radiação e material de desenho com um veículo e uma camada sensível à radiação 27/04/1995
DEPOSITANTE Material de registro, que trabalha em positivo 23/01/1995
DEPOSITANTE Mistura sensível à luz e material de cópia sensível à luz 11/11/1992
DEPOSITANTE Agente umidificante para impressão offset e concentrado de agente umidificante 09/05/1991
DEPOSITANTE Processo para a produção de moldes de impressão ou "fotoresists" mediante irradiação com formação de imagem de um material de registro fotopolimerizável 25/04/1991
DEPOSITANTE Mistura fotopolimerizável e material de registro preparado da mesma 08/03/1991
DEPOSITANTE Processo para a obtenção de um molde de impressão litográfico, sensível à luz, de funcionamento negativo 22/11/1990
TITULAR Concentrado de revelador diluível com água da bica, revelador para revelação de uma camada de reprodução disposta sobre um suporte, exposta à luz, de atuação negativa, bem como processo para produção de moldes de impressão. 14/11/1990
TITULAR Agente de umedecimento para a impressão offset e solução de umedecimento para máquinas de impressão offset. 06/09/1989

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